CN104932210A - 光阻剥离组合物和剥离方法,平板、平板显示器及其制法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种包含噁唑烷-5-基甲胺或六氢嘧啶-5-醇的光阻剥离组合物，使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法，用于显示器的平板及其制造方法，以及平板显示器及其制造方法。

Description

光阻剥离组合物和剥离方法,平板、平板显示器及其制法

相关申请的交叉引用

本申请要求于2014年3月21日递交的韩国专利申请号KR 10-2014-0033222和于2014年3月21日递交的韩国专利申请号KR10-2014-0033223的利益，这两篇专利申请通过引用整体并入本文中。

技术领域

本发明涉及光阻剥离组合物及使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法，用于显示器的平板(flat panel)及其制造方法，以及平板显示器及其制造方法。

背景技术

最近，随着对于实现高分辨率平板显示器的需求的增加，已经持续努力地增加每单位面积上的像素的数量。根据这样的趋势，需要减小布线的宽度，并且响应于该需求，引入了干法蚀刻工艺，并且工艺条件正变得更加严格。

进一步地，因为平板显示器的尺寸变得较大，需要提高布线中的信号速度，因此具有的比电阻低于铝的比电阻的铜在实际中用作布线材料。响应于该趋势，还需要提高在去除光阻的剥离工艺中使用的光阻剥离液的性能。

特别需要高水平地去除在干法蚀刻工艺之后存在的蚀刻残渣，并且高水平地防止金属布线的腐蚀。具体的，需要铜的抗腐蚀性以及铝的抗腐蚀性，并且，为了确保价格竞争力、经济效率，还需要如增加要被处理的基板的数量等等。

通常，为了去除光刻胶，使用水溶性的有机胺(诸如单乙醇胺、单异丙醇胺等)和有机溶剂(诸如γ-丁内酯和DMSO等)。进一步地，为了抑制由胺引起的金属的腐蚀，通常使用几种类型的腐蚀抑制剂，诸如邻苯二酚、间苯二酚、苯并三唑等，并且已经提出了含有这些腐蚀抑制剂的光刻胶剥离组合物。

响应于上述需求，已经开发了新的技术。例如，用于剥离的组合物，包含具有特定结构的酰胺化合物。但是，这样的组合物由于对铜布线不具有腐蚀抑制效果，因此是存在问题的。

[引用列表]

[专利文献]

(专利文件1)韩国专利申请号10-1213735。

发明内容

因此，设计本发明以解决上述问题，并且本发明的目的是提供一种光阻剥离组合物，该光阻剥离组合物可以使含铜或铝的金属布线的腐蚀最小化，并且即使在变性或交联的光阻的量很少的情况下，也能快速剥离变性或交联的光阻。

为了实现上述目的，本发明的一个方面提供了一种光阻剥离组合物，该光阻剥离组合物包含：由下面的化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺；或由下面的化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，

[化学式1]

[化学式2]

本发明的另一方面提供了一种剥离光阻的方法，该方法包括以下步骤：

(I)将导电金属膜沉积在平板显示器基板上；

(II)在所述导电金属膜上形成光阻膜；

(III)使所述光阻膜选择性地曝光；

(IV)使经曝光的光阻膜显影，以形成光阻图案；

(V)使用所述光阻图案作为掩模，蚀刻所述导电金属膜；以及

(VI)在所述蚀刻(V)之后，使用所述光阻剥离组合物，从基板剥离光阻，该光阻通过形成所述光阻图案和蚀刻所述导电金属膜而变性和固化，

其中，所述光阻剥离组合物是根据本发明的光阻剥离组合物。

本发明的又一方面提供了一种制造用于显示器的平板的方法，该方法包括如下步骤：使用上述光阻剥离组合物从平板基板剥离光阻。

本发明的又一方面提供了一种制造平板显示器的方法，该方法包括如下步骤：使用光阻剥离组合物从平板基板剥离光阻。

本发明的又一方面提供了通过上述方法制造的用于显示器的平板。

本发明的又一方面提供了通过上述方法制造的平板显示器。

本发明的光阻剥离组合物在快速且有效地去除粘附在上基板上的光阻，并且使含铜或铝的金属布线的腐蚀最小化方面是有利的。

具体实施方式

下面，将对本发明进行详细描述。

本发明提供了一种光阻剥离组合物，该光阻剥离组合物包含：由下面的化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺；或由下面的化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，

[化学式1]

[化学式2]

噁唑烷-5-基甲胺或六氢嘧啶-5-醇(A)

在干法蚀刻或湿法蚀刻、灰化、离子注入工艺等的几种工艺条件下，由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇渗透到变性或交联的光阻的聚合物基质中，以断开分子内的键和分子间的键。进一步地，该化合物在残留于基板上的光阻的结构薄弱部分内形成未用空间(vacant space)，以使光阻转化成非晶态聚合物凝胶块，从而能够容易地去除附着至上基板的光阻。

进一步地，上述化合物对含铜或铝的金属布线具有低腐蚀性，并且因此可以使金属布线的腐蚀最小化，并且即使使用少量的化合物也能够有效去除变性或交联的光阻。

进一步地，本发明的光阻剥离组合物可以进一步包含极性有机溶剂。

极性有机溶剂(B)

极性有机溶剂可以是质子极性有机溶剂和非质子极性有机溶剂中的一种，或质子极性有机溶剂和非质子极性有机溶剂中的两种或更多种的组合。进一步地，极性有机溶剂可以具有不高也不低的沸点，以显示出适当的可剥离性。

上述极性有机溶剂用于通过由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，溶解凝胶化的光阻。进一步地，极性有机溶剂可以使被溶解的光阻的再吸附和/或再粘附最小化，并且在剥离光阻之后，能够在洗涤工艺过程中使用去离子水容易地去除光阻剥离组合物。

质子极性有机溶剂的实例可以包括：亚烷基二醇单烷基醚，如乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单异丙基醚、乙二醇单丁基醚、二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚、二甘醇单异丙基醚、二甘醇单丁基醚、三甘醇单甲基醚、三甘醇单乙基醚、三甘醇单异丙基醚、三甘醇单丁基醚、聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇单甲基醚、聚乙二醇单丁基醚、丙二醇单甲基醚，二丙二醇单甲基醚，三丙二醇单甲基醚等；和四氢糠醇(tetrahydroperfuryl alcohol)。这些质子极性有机溶剂的实例可以各自独立地使用，或以两种或更多种的混合物的形式使用。

非质子极性有机溶剂的实例可以包括：吡咯烷酮化合物，如N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-乙基吡咯烷酮等；咪唑啉酮化合物，如1,3-二甲基-2-咪唑啉酮、1,3-二丙基-2-咪唑啉酮等；内酯化合物，如γ-丁内酯等；亚砜化合物，如二甲基亚砜(DMSO)、环丁砜等；磷酸盐化合物，如磷酸三乙酯、磷酸三丁酯等；碳酸盐化合物，如碳酸二甲酯、碳酸亚乙酯等；和酰胺化合物，如甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-(2-羟乙基)乙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、3-(2-乙基己氧基)-N,N-二甲基丙酰胺、3-丁氧基-N,N-二甲基丙酰胺等。这些非质子极性有机溶剂的实例可以各自独立地使用，或以两种或更多种的混合物的形式使用。

如果本发明的光阻剥离组合物包含由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇和极性有机溶剂，则基于组合物的总量，该组合物包含0.1wt％至30wt％的由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，及70wt％至99.9wt％的极性有机溶剂。

当由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇的量小于0.1wt％时，则存在不能提高可剥离性的问题。进一步地，当由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇的量大于30wt％时，则存在由于量的增加而可剥离性没有进一步增加的效果，因此不能预期经济效率的问题。

当极性有机溶剂的量小于70wt％时，则存在溶解力可能降低，并且光阻可以在使用去离子水进行洗涤工艺的过程中被再吸附或/和再粘附的问题。进一步地，当极性有机溶剂的量大于99.9wt％时，存在因为组合物中包含的由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇的量降低，而可能降低可剥离性的问题。

包含由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇及极性有机溶剂的光阻剥离组合物可进一步包含碱性化合物。

碱性化合物(C)

除了由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇之外，本发明的光阻剥离组合物还额外包含碱性化合物。

碱性化合物渗透到变性或交联的光阻的聚合物基质中，以破坏分子内的键和分子间的键。进一步地，上述碱性化合物在残留于基板上的光阻的结构薄弱部分内形成未用空间，以使光阻转化成非晶态聚合物凝胶块，从而能够容易地去除附着至基板的光阻。

上述碱性化合物可以是有机碱性化合物和无机碱性化合物中的一种，或有机碱性化合物和无机碱性化合物中的两种或更多种的组合。

碱性化合物的实例可以包括KOH、NaOH、TMAH(氢氧化四甲基铵)、TEAH(氢氧化四乙基铵)、碳酸盐、磷酸盐、氨和胺。这些非质子极性有机溶剂的实例可以各自独立地使用，或以两种或更多种的混合物的形式使用。

胺的实例可以包括：伯胺，诸如甲胺、乙胺、单异丙胺、正丁胺、仲丁胺、异丁胺、叔丁胺、戊胺等；仲胺，诸如二甲胺、二乙胺、二丙胺、二异丙胺、二丁胺、二异丁胺、甲基乙胺、甲基丙胺、甲基异丙胺、甲基丁胺、甲基异丁胺等；叔胺，诸如二乙基羟基胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、二甲基乙基胺、甲基二乙胺、甲基二丙胺等；链烷醇胺，诸如胆碱、单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、单异丙醇胺、2-氨基乙醇、2-(乙基氨基)乙醇、2-(甲基氨基)乙醇、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基氨基乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-1-乙醇、1-氨基-2-丙醇、2-氨基-1-丙醇、3-氨基-1-丙醇、4-氨基-1-丁醇、二丁醇胺等；烷氧基胺，诸如(丁氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二乙胺、(甲氧基甲基)二甲胺、(丁氧基甲基)二甲胺、(异丁氧基甲基)二甲胺、(甲氧基甲基)二乙醇胺、(羟基乙氧基甲基)二乙胺、甲基(甲氧基甲基)氨基乙烷、甲基(甲氧基甲基)氨基乙醇、甲基(丁氧基甲基)氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇等；和环胺，诸如1-(2-羟乙基)哌嗪、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、N-(3-氨基丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-氨基-4-甲基哌嗪、1-苄基哌嗪、1-苯基哌嗪、N-甲基吗啉、4-乙基吗啉、N-甲酰吗啉、N-(2-羟乙基)吗啉、N-(3-羟丙基)吗啉等。

如果本发明的光阻剥离组合物包含由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇、极性有机溶剂和碱性化合物，则基于组合物的总量，该组合物包含0.5wt％至25wt％的由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，70wt％至94wt％的极性有机溶剂，以及0.1wt％至20wt％的碱性化合物。

当碱性化合物的量小于0.1wt％时，存在不能容易地剥离光阻的问题。进一步地，当碱性化合物的量大于20wt％时，存在包含铜或铝的金属布线快速腐蚀的问题。

包含由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇、极性有机溶剂和碱性化合物的光阻剥离组合物可以进一步包含防蚀剂。

防蚀剂(D)

通过向本发明的光阻剥离组合物中添加防蚀剂，可以防止铝或铜布线的腐蚀。

防蚀剂的实例可以包括：唑化合物，诸如苯并三唑、甲苯基三唑、甲基甲苯基三唑、2,2’-[[[苯并三唑]甲基]亚氨基]双乙醇、2,2’-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双乙醇、2,2’-[[[乙基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双乙醇、2,2’-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双乙醇、2,2’-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双羧酸、2,2’-[[[甲基-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双甲胺、2,2’-[[[胺-1H-苯并三唑-1-基]甲基]亚氨基]双乙醇等；

奎宁化合物，诸如1,2-苯醌、1,4-苯醌、1,4-萘醌、蒽醌等；

没食子酸烷基酯化合物，诸如儿茶酚、焦棓酚、没食子酸甲酯、没食子酸丙酯、没食子酸十二烷酯、没食子酸辛酯和没食子酸等；以及

有机酸胺酯，诸如琥珀酰胺酯、苹果酰胺酯、马来酰胺酯、富马酰胺酯、草酰胺酯、丙酰胺酯、戊二酰胺酯、乙酰胺酯、乳酰胺酯、柠檬酰胺酯、酒石酯酰胺、乙酰胺酯、甲酰胺酯、尿酰胺酯等。这些非质子极性有机溶剂的实例可以各自独立地使用，或以两种或更多种的混合物的形式使用。

同时，如果本发明的光阻剥离组合物包含防蚀剂，则基于组合物的总量，该组合物优选包含1wt％至20wt％的由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，70wt％至94wt％的极性有机溶剂，1wt％至15wt％的碱性化合物，和0.1wt％至5wt％的防蚀剂。

当防蚀剂的量大于5wt％时，它可能沉淀或可能影响剥离。进一步地，当防蚀剂的量小于0.1wt％时，由于不理想的防蚀剂的性能而可能影响金属膜。进一步地，防蚀剂的量更优选为0.5wt％至1wt％。

本发明的光阻剥离组合物可以通过混合预定比率的上述化合物来制备。混合方法没有特别的限制，并且可以在没有限制的情况下使用各种公知的方法。

进一步地，本发明涉及一种剥离光阻的方法，该方法包括以下步骤：

(I)将导电金属膜沉积在平板显示器基板上；

(II)在所述导电金属膜上形成光阻膜；

(III)使所述光阻膜选择性地曝光；

(IV)使经曝光的光阻膜显影，以形成光阻图案；

(V)使用所述光阻图案作为掩模，蚀刻所述导电金属膜；以及

(VI)在所述蚀刻(V)之后，使用上述光阻剥离组合物，从基板剥离光阻，该光阻通过形成光阻图案和蚀刻导电金属膜而变性和固化，

其中，上述光阻剥离组合物是根据本发明的光阻剥离组合物。

进一步地，本发明的剥离光阻的方法可以包括以下步骤：进行干法蚀刻工艺或化学机械抛光(CMP)工艺，且进行不使用掩模形成图案的光阻图案化，以使光阻膜曝光；以及，使用本发明的光阻剥离组合物剥离经曝光的光阻膜。

在剥离光阻的方法中，可以通过相关领域中公知的方法进行光阻膜形成、曝光、显影、蚀刻和灰化工艺。

光阻的种类包括正性和负性的g-线、i-线和深紫外线(DUV)的光阻，电子束光阻，X-射线光阻，离子束光阻等。本发明的光阻剥离组合物有效应用于含有感光化合物的光刻胶，该感光化合物基本由酚醛清漆型酚类树脂和重氮萘醌组成，但并不限于此。

作为去除平板显示器基板上的光阻、变性且固化的光阻和来自平板显示器基板的经干法蚀刻的残渣的方法，存在将涂敷有光阻的基板浸没在剥离液中的方法，或将剥离液喷洒在基板上的方法。在这种情况中，物理处理，诸如超声照射、刷子滚动和旋转等可与上述方法组合使用。在处理了剥离液之后，可以通过冲洗工艺去除残留在基板上的剥离液。除了使用水或异丙醇代替剥离液之外，冲洗工艺与剥离工艺相同。

使用浸没、喷洒或其组合，可实施剥离光阻的方法。当通过浸没、喷洒或其组合剥离光阻时，可以在如下条件下进行光阻的剥离：温度为15～100℃，优选为30～70℃；并且，浸没或喷洒时间为30秒至40分钟，优选为1至20分钟。但是，这些剥离条件并不是严格适用的，并且本领域技术人员可以容易地进行修改。当涂布于涂敷有光阻的基板上的光阻剥离组合物的温度低于15℃时，去除变性或固化的光阻膜所需的时间变得过长。进一步地，当涂布于涂敷有光阻的基板上的光阻剥离组合物的温度高于100℃时，可能损害光阻膜的底层，并且难以处理光阻剥离组合物。

根据本发明的光阻剥离组合物和使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法可以用于去除蚀刻气体、经高温变性和固化的光阻和蚀刻的残渣，以及用于去除一般的光阻。进一步地，根据本发明的光阻剥离组合物和使用该光阻剥离组合物剥离光阻的方法因为优秀的含铝或铜的金属布线的耐腐蚀性是有利的。

同时，本发明提供了制造用于显示器的平板的方法，该方法包括如下步骤：使用本发明的光阻剥离组合物从平板基板剥离光阻。

进一步地，本发明提供了制造平板显示器的方法，该方法包括如下步骤：使用本发明的光阻剥离组合物从平板基板剥离光阻。

通过上述方法的每种方法制造的用于显示器的平板和平板显示器具有优秀的质量，因为在其制造工艺中完全去除了光阻，并且含铝和/或铜的金属布线几乎不腐蚀。

进一步地，本发明提供了用于显示器的平板和平板显示器，该用于显示器的平板和平板显示器都使用上述光阻剥离组合物制造。

下面，将参考下面的实施例更加详细地描述本发明。但是，提供这些实施例以例示本发明，而本发明的范围并不限于此。

实施例1至实施例14，及对比例1至对比例5：光阻剥离组合物的制备

通过混合下表1中给出的组分制备光阻剥离组合物。

[表1]

(单位:wt％)

NMP：N-甲基吡咯烷酮

NMF：N-甲基甲酰胺

BDG：二甘醇单丁基醚

EDG：二甘醇单乙基醚

MDEA：N-甲基二乙醇胺

AEE：2-(2-亚氨基乙氧基)-1-乙醇

MEA：单乙醇胺

HEM：N-羟基乙基吗啉

BTA：苯并三唑

MG：没食子酸甲酯

<测试例1>评价光阻剥离组合物的可剥离性

为了评价实施例1至实施例14和对比例1至对比例5的光阻剥离组合物的剥离效果，根据传统方法，使用溅射法在玻璃基板上形成金属膜(Mo/Al和Cu/Ti)，形成光刻胶图案，然后使用光刻胶图案进行金属膜的湿法蚀刻和干法蚀刻中的每一种，从而提供所产生的基板。

在50℃，将上述基板分别浸没在每一种光阻剥离组合物中保持1分钟，以评价每一种光阻剥离组合物的可剥离性。

之后，使用纯净水冲洗每一块基板1分钟，以去除残留在上面的光阻剥离组合物，然后使用氮气干燥经冲洗的基板，以完全去除残留在上面的纯净水。

使用扫描电子显微镜(SEM，日立(Hitachi)S-4700)，评价每一块基板的变性程度，和去除每一块基板的固化的光阻和经干法蚀刻的残渣的性能。其结果示于下面的表2中。

去除残渣的评价标准如下：

◎：非常好

○：好

△：正常

×：差

<测试例2>评价光阻剥离组合物的防蚀性能

进行实施例1至实施例14和对比例1至对比例5的光阻剥离组合物的防蚀性能。

除了将上述基板分别浸没在每一种光阻剥离组合物中保持30分钟之外，根据与测试例1相同的方法进行防蚀性能的评价。

在进行防蚀性能之后，使用扫描电子显微镜(SEM，Hitachi S-4700)证实Mo/Al和Cu/Ti层。其结果示于下面的表2中。

防蚀性能的评价标准如下：

◎：无腐蚀

○：几乎无腐蚀

△：部分腐蚀，表面粗糙度的变化

×：出现蚀刻

[表2]

如上面的表2所示，证实了实施例1至实施例14的光阻剥离组合物(为本发明的光阻剥离组合物)具有优秀的可剥离性，并且对Al和Cu还具有优秀的防蚀性能。

然而，对比例1至对比例5的光阻剥离组合物(不包含本发明的由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇)仅对可剥离性和防蚀性能之间的一种性能具有良好的结果。

根据上述结果，证实了通过在本发明的光阻剥离组合物中使用由化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺或由化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，极大改善了可剥离性，及对于Al和Cu的防蚀性能。

Claims (14)

1.一种光阻剥离组合物，包含：

由下面的化学式1所示的噁唑烷-5-基甲胺；或

由下面的化学式2所示的六氢嘧啶-5-醇，

[化学式1]

[化学式2]

2.根据权利要求1所述的光阻剥离组合物，进一步包含极性有机溶剂。

3.根据权利要求2所述的光阻剥离组合物，其中，所述极性有机溶剂是质子极性有机溶剂和非质子极性有机溶剂中的一种，或质子极性有机溶剂和非质子极性有机溶剂中的两种或更多种的组合。

4.根据权利要求2所述的光阻剥离组合物，其中，基于所述组合物的总量，所述组合物包含：

0.1wt％至30wt％的化学式1或化学式2的化合物；以及，70wt％至99.9wt％的所述极性有机溶剂。

5.根据权利要求2所述的光阻剥离组合物，进一步包含碱性化合物。

6.根据权利要求5所述的光阻剥离组合物，其中，所述碱性化合物是有机碱性化合物和无机碱性化合物中的一种，或有机碱性化合物和无机碱性化合物中的两种或更多种的组合。

7.根据权利要求5所述的光阻剥离组合物，其中，基于所述组合物的总量，所述组合物包含：

0.5wt％至25wt％的化学式1或化学式2的化合物；

70wt％至94wt％的所述极性有机溶剂；以及

0.1wt％至20wt％的所述碱性化合物。

8.根据权利要求5所述的光阻剥离组合物，进一步包含防蚀剂。

9.根据权利要求8所述的光阻剥离组合物，其中，基于所述组合物的总量，所述组合物包含：

1wt％至20wt％的化学式1或化学式2的化合物；

70wt％至94wt％的所述极性有机溶剂；

1wt％至15wt％的所述碱性化合物；以及

0.1wt％至5wt％的所述防蚀剂。

10.一种剥离光阻的方法，包括以下步骤：

(I)将导电金属膜沉积在平板显示器基板上；

(II)在所述导电金属膜上形成光阻膜；

(III)使所述光阻膜选择性地曝光；

(IV)使经曝光的所述光阻膜显影，以形成光阻图案；

(V)使用所述光阻图案作为掩模，蚀刻所述导电金属膜；以及

(VI)在所述蚀刻(V)之后，使用光阻剥离组合物，从所述基板剥离通过形成所述光阻图案和蚀刻所述导电金属膜而变性和固化的光阻，

其中，所述光阻剥离组合物是根据权利要求1所述的光阻剥离组合物。

11.一种制造用于显示器的平板的方法，包括如下步骤：使用权利要求1所述的光阻剥离组合物，从平板基板剥离光阻。

12.一种制造平板显示器的方法，包括如下步骤：使用权利要求1所述的光阻剥离组合物，从平板基板剥离光阻。

13.一种通过权利要求11所述的方法制造的用于显示器的平板。

14.一种通过权利要求12所述的方法制造的平板显示器。