CN104914679A - 一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘 - Google Patents
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘 Download PDFInfo
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Abstract
本发明公开了一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字定位支架正面朝上时，十字凸起部位高出十字定位槽外。
Description
技术领域：
本发明涉及半导体光刻机领域，尤其涉及一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘。
背景技术：
真空吸盘是半导体光刻设备的重要组成部分，是曝光样片的载体。对不同尺寸规格的样片，往往需要搭载相对应的吸盘来曝光，吸盘更换后还要对其平行性，与光轴的垂直性等进行调节。能否发明一种多功能的吸盘，能够吸附各种不同规格的样片，省去更换吸盘的工序，节约时间，提高工作效率呢？这便是摆在光刻领域的一个难题。
发明内容：
本发明的目的是提供一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，它能实现高产能及支持多种规格要求。
本发明的技术方案如下：
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字定位支架正面朝上时，十字凸起部位高出十字定位槽外。
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：所述十字定位槽位于上吸盘的中心位置。
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：上吸盘表面开有若干能配合标示出不同规格样片边缘位置的销钉孔。
使用时将十字定位支架正向放置，十字定位支架正面的十字凸起朝上，可同时定位四块方形60*60的样片MASK，减少了中间取放片环节，提升了产能。
将十字定位反向放置，十字凸起朝下嵌入十字凹槽中，整个十字支架表面会低于吸盘表面，在吸盘上部可居中放置不同规格（4inch和6inch）的方形Mask和圆形Wafer。
在摆放不同规格样片的边缘布置有不同位置的销钉孔，以此来进行预对准初定位。
附图说明：
图1为本发明的十字定位支架反向放置视图；
图2为本发明的十字定位支架正向放置视图；
图3为本发明放置一块样片的视图；
图4为本发明同时放置四块样片的视图；
图5为本发明居中放置一块方形mask的视图；
图6为本发明居中放置一块圆形wafer的视图；
图7为本发明的爆炸视图；
具体实施方式：
一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，包括有下吸盘1，下吸盘1上固定有上吸盘2，上吸盘2上中心设有十字定位槽3，十字定位槽3内嵌装有十字定位支架4；十字定位支架4的正面中心设有十字凸起5，所述十字定位槽3的槽底开有与十字凸起5位置对应的十字凹槽6；十字定位支架4背面朝上时，其顶面与上吸盘2表面位于同一水平面上或位于十字定位槽3内；十字定位支架4正面朝上时，十字凸起5部位高出十字定位槽3外。上吸盘2表面开有若干能配合标示出不同规格样片9边缘位置的销钉孔7。
组合后的下吸盘1和上吸盘2形成吸盘。
高产能曝光：
取下所有定位销钉8，将十字定位支架4反向（凸起朝上）放置，如图2，将样片的边靠紧十字定位支架4的边，以边定位作为预对准方法，如图3，分别将余下的样片放置在十字吸盘上，如图4，开启真空，曝光，即可实现高产能曝光；
单片不同规格方形Mask：
取下所有定位销钉，将十字定位支架4正向（凸起朝上）放置，如图1，将需要曝光的样片居中放置在吸盘上，如图5，并在样片边缘销钉孔的位置插入销钉，实现预对准，开启真空，曝光，关闭真空，取下已经曝光的样片，换上待曝光样片，以第一次的销钉位置作为预对准位置，开启真空，曝光，如此反复，即可实现单片方形Mask的曝光。
如需更换尺寸不同尺寸的方形Mask,则只需要更换不同的销钉位置即可实现。
单片不同规格圆形Wafer
取下所有定位销钉，将十字定位支架4正向（凸起朝上）放置，如图1，将需要曝光的样片居中放置在吸盘上，如图6，并在样片边缘销钉孔的位置插入销钉，实现预对准，开启真空，曝光，关闭真空，取下已经曝光的样片，换上待曝光样片，以第一次的销钉位置作为预对准位置，开启真空，曝光，如此反复，即可实现单片方形Mask的曝光。
如需更换尺寸不同的圆形Wafer,则只需要更换不同的销钉位置即可实现。
Claims (3)
1.一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：包括有下吸盘，下吸盘上固定有上吸盘，上吸盘上设有十字定位槽，十字定位槽内嵌装有十字定位支架；十字定位支架的正面中心设有十字凸起，所述十字定位槽的槽底开有与十字凸起位置对应的十字凹槽；十字定位支架背面朝上时，其顶面与上吸盘表面位于同一水平面上或位于十字定位槽内；十字定位支架正面朝上时，十字凸起部位高出十字定位槽外。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：所述十字定位槽位于上吸盘的中心位置。
3.根据权利要求1所述的一种用于半导体光刻的多功能高产能吸盘，其特征在于：上吸盘表面开有若干能配合标示出不同规格样片边缘位置的销钉孔。
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