CN203932046U - 窄划片槽的晶圆结构 - Google Patents

窄划片槽的晶圆结构 Download PDF

Info

Publication number
CN203932046U
CN203932046U CN201420231132.0U CN201420231132U CN203932046U CN 203932046 U CN203932046 U CN 203932046U CN 201420231132 U CN201420231132 U CN 201420231132U CN 203932046 U CN203932046 U CN 203932046U
Authority
CN
China
Prior art keywords
scribe line
chip
crystal grain
utility
model
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
CN201420231132.0U
Other languages
English (en)
Inventor
陈志龙
王国兵
高凤来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Beijing Tongfang Microelectronics Co Ltd
Original Assignee
Beijing Tongfang Microelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Beijing Tongfang Microelectronics Co Ltd filed Critical Beijing Tongfang Microelectronics Co Ltd
Priority to CN201420231132.0U priority Critical patent/CN203932046U/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN203932046U publication Critical patent/CN203932046U/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

窄划片槽的晶圆结构,涉及半导体元件IC技术领域。本实用新型的表面布满整齐排列多个芯片,每个芯片上设有多个CP测试晶粒。其结构特点是,在每个光照的部分芯片上置有多个测试晶粒,各芯片之间的划片槽采用激光划片的方式进行窄缝隙切割。同现有技术相比,本实用新型可以不受测试晶粒尺寸的影响而缩减划片槽的宽度,降低芯片成本。

Description

窄划片槽的晶圆结构
技术领域
本实用新型涉及半导体元件IC技术领域,特别是圆片流片和圆片切割的窄划片槽的晶圆结构。
背景技术
现有技术中,晶圆的结构如图1所示,划片槽4宽度一般在60um以上,划片槽4中分布着测试晶粒2。由于测试晶粒2有最小尺寸要求,传统的轮刀切割要求划片槽4宽度最小在50um以上,所以目前划片槽宽度以传统的流片及切割模式已经到达一个技术极限,无法再缩减。
但流片工艺正在飞速发展,线宽从um级已经发展到nm级,这样使得芯片1的面积变得更小,芯片1面积变小导致单位晶圆上划片槽4面积增加,而划片槽4部分没有电路功能,使得芯片1成本无法降低。
发明内容
为了克服上述现有技术中存在的不足,本实用新型的目的是提供一种窄划片槽的晶圆结构。它可以不受测试晶粒尺寸的影响而缩减划片槽的宽度,降低芯片成本。
为了达到上述发明目的,本实用新型的技术方案以如下方式实现:
窄划片槽的晶圆结构,它的表面布满整齐排列多个芯片,每个芯片上设有多个CP测试晶粒。其结构特点是,在每个光照的部分芯片上置有多个测试晶粒,各芯片之间的划片槽采用激光划片的方式进行窄缝隙切割。
本实用新型由于采用了上述结构,将原本置于划片槽中的测试晶粒集中放置在每个光照的某一个或者某几个区域的芯片上。同时,采用激光划片方式,使得划片槽宽度可以大大缩减,有效节约了芯片成本。
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步说明。
附图说明
图1为现有技术中晶圆及芯片的结构示意图;
图2为本实用新型晶圆及芯片的结构示意图。
具体实施方式
参看图2,本实用新型晶圆结构,它的表面布满整齐排列多个芯片1,每个芯片1上设有多个CP测试晶粒3。在每个光照的部分芯片1上置有多个测试晶粒2,各芯片1之间的划片槽4采用激光划片的方式进行窄缝隙切割。
本实用新型中,将测试晶粒2放置在芯片1上并在放置测试晶粒2的芯片1表面保留芯片1上原有的CP测试晶粒3。
影响划片槽4宽度的第二个因素是切割的要求,现有技术中的轮刀切割要求划片槽4最小宽度为50um。本实用新型采用隐形激光切割的方式,这种方式的刀痕宽度可以做到1um以内,并且没有崩齿的影响。随着激光划片设备的发展,划片槽4宽度会进一步减小,所以本实用新型方案理论上可以将划片槽4做到无限窄,这将大大降低光照芯片1的生产成本。

Claims (1)

1.窄划片槽的晶圆结构,它的表面布满整齐排列的多个芯片(1),每个芯片(1)上设有多个CP测试晶粒(3),其特征在于,在每个光照的部分芯片(1)上置有多个测试晶粒(2),各芯片(1)之间的划片槽(4)采用激光划片的方式进行窄缝隙切割。
CN201420231132.0U 2014-05-07 2014-05-07 窄划片槽的晶圆结构 Expired - Lifetime CN203932046U (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420231132.0U CN203932046U (zh) 2014-05-07 2014-05-07 窄划片槽的晶圆结构

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201420231132.0U CN203932046U (zh) 2014-05-07 2014-05-07 窄划片槽的晶圆结构

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN203932046U true CN203932046U (zh) 2014-11-05

Family

ID=51827816

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201420231132.0U Expired - Lifetime CN203932046U (zh) 2014-05-07 2014-05-07 窄划片槽的晶圆结构

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN203932046U (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105895618A (zh) * 2014-05-07 2016-08-24 北京同方微电子有限公司 一种窄划片槽的晶圆结构
CN108269747A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 亚德诺半导体集团 具有划片槽导体的半导体晶片和相关方法
CN110977201A (zh) * 2019-12-24 2020-04-10 华天科技(西安)有限公司 一种窄切割道激光镭射方法
CN111029331A (zh) * 2019-12-27 2020-04-17 上海艾为电子技术股份有限公司 一种晶圆及其切割方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105895618A (zh) * 2014-05-07 2016-08-24 北京同方微电子有限公司 一种窄划片槽的晶圆结构
CN108269747A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 亚德诺半导体集团 具有划片槽导体的半导体晶片和相关方法
CN110977201A (zh) * 2019-12-24 2020-04-10 华天科技(西安)有限公司 一种窄切割道激光镭射方法
CN111029331A (zh) * 2019-12-27 2020-04-17 上海艾为电子技术股份有限公司 一种晶圆及其切割方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN203932046U (zh) 窄划片槽的晶圆结构
WO2014172159A8 (en) Defective p-n junction for backgated fully depleted silicon on insulator mosfet
WO2013090384A3 (en) Method for soc performance and power optimization
IL205243A0 (en) Cutting tool with protrusions, and methods of use thereof
CN101567361B (zh) 一种晶圆对准标记
CN103956337B (zh) 一种半导体晶片的切割方法
CN204136258U (zh) 一种切割机卡具
CN204296182U (zh) 一种能够降低漏电、节省浆料的印刷网板
CN202175747U (zh) 短晶棒拼接装置
CN103943514B (zh) 一种防止引线框架振动的压紧装置
CN103811422B (zh) 一种cmos硅片裂片的处理装置及其处理方法
CN105895618A (zh) 一种窄划片槽的晶圆结构
CN203004087U (zh) 晶棒切割垫条
CN201717265U (zh) 一种双向保护二极管芯片
CN203746819U (zh) 一种cmos硅片裂片的处理装置
CN206033568U (zh) 光学玻璃切割装置
EP2849232A3 (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
CN202290651U (zh) 太阳能硅片超声波清洗槽
CN204118069U (zh) 一种电源开关电路芯片结构
CN204123392U (zh) 一种划线工具
CN204184014U (zh) 太阳能网版
CN103240675B (zh) 一种修盘刀以及基于该修盘刀的修盘方法
CN203680971U (zh) 一种光伏组件削边器
CN204029776U (zh) 用于半导体芯片的加工装置
CN202032991U (zh) 生产太阳能硅片用硅锭倒角检测装置

Legal Events

Date Code Title Description
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee
CP02 Change in the address of a patent holder

Address after: 100083 Beijing City, Haidian District Wudaokou Wangzhuang Road No. 1 Tongfang Technology Plaza D floor 18 West

Patentee after: BEIJING TONGFANG MICROELECTRONICS Co.,Ltd.

Address before: 100083 Haidian District Tsinghua Tongfang Technology Plaza, block A, floor 29, Beijing

Patentee before: BEIJING TONGFANG MICROELECTRONICS Co.,Ltd.

CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20141105

CX01 Expiry of patent term