CN104883808B - 一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 - Google Patents
一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN104883808B CN104883808B CN201510223303.4A CN201510223303A CN104883808B CN 104883808 B CN104883808 B CN 104883808B CN 201510223303 A CN201510223303 A CN 201510223303A CN 104883808 B CN104883808 B CN 104883808B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- windowing
- developing
- daughter board
- internal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
本发明实施例提供一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法,印刷电路板包括第一子板和第二子板,第一子板的第二表面刻蚀有N条第一内层高速走线,第二子板的第一表面设有第二参考层,第一子板和第二子板间设置第一显影层,第一显影层的第一表面与第二参考层相接触,第一显影层的第二表面与第一子板的第二表面相接触;第一显影层开设第一开窗,每一第一内层高速走线从对应的第一开窗暴露出来,且第一开窗的内壁与第一内层高速走线相隔离;第一显影层采用可显影材料,可显影材料为干膜形态,第一显影层的厚度使得第一内层高速走线与第二参考层相隔离。采用本发明的印刷电路板解决了腔体侧壁碳化的问题,从而降低了位于该腔体内的高速走线短路的风险。
Description
技术领域
本发明涉及电子技术领域,特别涉及一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法。
背景技术
目前的印制电路板(Printed Circuit Board,PCB),为了保证高速走线的数据传输速率,一般采用下述方法来降低链路传输损耗:通过PCB埋空腔技术,对压合在刻蚀有高速走线的子板上的低流胶或不流胶粘结材料(该种材料的价格低于高速板材),采用激光(laser)处理的方式进行开槽,其中形成的槽内包含高速走线,然后再压合电源层或地层,形成腔体,此时利用空气作为高速走线的传输介质,能够降低链路传输损耗。这种方案的缺陷在于:采用激光处理的方式进行开槽,导致该腔体的侧壁碳化严重,进而导致位于该腔体内的高速走线存在短路的风险。
发明内容
本发明提供一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法,用以解决腔体侧壁碳化的问题,从而降低位于该腔体内的高速走线短路的风险。
第一方面,提供一种印刷电路板,包括第一子板和第二子板,所述第一子板的第一表面设有第一参考层,所述第一子板的第二表面刻蚀有N条第一内层高速走线,N为大于或者等于1的整数,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一子板和所述第二子板之间设置有第一显影层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;
所述第一显影层开设有第一开窗,每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态,所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。
结合第一方面,在第一方面的第一种可能的实现方式中,所述第一显影层上开设有N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
结合第一方面的第一种可能的实现方式,在第一方面的第二种可能的实现方式中,在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
所述第一显影层开设有N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来。
结合第一方面、第一方面的第一种可能的实现方式或第一方面的第二种可能,在第一方面的第三种可能的实现方式中,
还包括第三子板,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二子板的第二表面刻蚀有K条第二内层高速走线,K为大于或者等于1的整数;所述第二子板和所述第三子板之间设置有第二显影层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触;
所述第二显影层开设有第二开窗,每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离;所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离。
结合第一方面的第三种可能的实现方式,在第一方面的第四种可能的实现方式中,所述第二显影层开设有K个第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
结合第一方面的第四种可能的实现方式,在第一方面的第五种可能的实现方式中,在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
所述第二显影层开设有K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗。
结合第一方面或第一方面的第一种可能的实现方式至第一方面的第五种可能的实现方式中任一种可能的实现方式,在第一方面的第六种可能的实现方式中,
所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
结合第一方面的第六种可能的实现方式,在第一方面的第七种可能的实现方式中,高温压合时,所述第一显影层的流胶量在4密耳以内。
结合第一方面的第三种可能的实现方式至第一方面的第七种可能的实现方式中任一种可能的实现方式,在第一方面的第八种可能的实现方式中,
所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
结合第一方面的第八种可能的实现方式,在第一方面的第九种可能的实现方式中,高温压合时,所述第二显影层的流胶量在4密耳以内。
结合第一方面或第一方面的第一种可能的实现方式至第一方面的第九种可能的实现方式中任一种可能的实现方式,在第一方面的第十种可能的实现方式中,
所述可显影材料为可显影非粘结材料;
所述印刷电路板还包括:
所述第一显影层和所述第二子板之间设置有第一粘结层,其中所述第一粘结层由粘结材料构成,所述第一粘结层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一粘结层的第二表面与所述第一显影层相接触。
结合第一方面的第十种可能的实现方式,在第十一种可能的实现方式中,
所述第二显影层和所述第三子板之间设置有第二粘结层,其中所述第二粘结层由粘结材料构成,所述第二粘结层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二粘结层的第二表面与所述第二显影层相接触。
第二方面,提供一种印刷电路板的制造方法,包括以下步骤:
在第一子板的第二表面刻蚀N条第一内层高速走线,其中N为大于或者等于1的整数,所述第一子板的第一表面设有第一参考层;
在所述第一子板的第二表面设置第一显影层,所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态;
对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;
将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板,所述多块子板包括所述第一子板和第二子板,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。
结合第二方面,在第二方面的第一种可能的实现方式中,所述对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,具体包括:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
结合第二方面的第一种可能的实现方式,在第二方面第二种可能的实现方式中,在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
所述对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离,具体包括:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离。
结合第二方面、第二方面的第一种可能的实现方式或第二方面的第二种可能的实现方式,在第二方面的第三种可能的实现方式中,所述多块子板还包括第三子板,
在所述将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板之前,还包括:
在所述第二子板的第二表面刻蚀K条第二内层高速走线,其中K为大于或者等于1的整数;
在所述第二子板的第二表面设置第二显影层,所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离;
对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
结合第二方面的第三种可能的实现方式,在第二方面的第四种可能的实现方式中,所述对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,具体包括:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K个所述第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
结合第二方面的第四种可能的实现方式,在第二方面的第五种可能的实现方式中,在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
所述对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离,具体包括:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗,且每一所述第二内层高速差分走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
结合第二方面或第二方面的第一种可能的实现方式至第二方面的第五种可能的实现方式中任一种可能的实现方式,在第二方面的第六种可能的实现方式中,
所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
结合第二方面的第三种可能的实现方式至第二方面的第六种可能的实现方式中任一种可能的实现方式,在第二方面的第七种可能的实现方式中,
所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
本发明有益效果如下:
本发明实施例中,提出一种印刷电路板:在印刷电路板的刻蚀有N条第一内层高速走线的第一子板和第二子板之间设置第一显影层,并在第一显影层开设第一开窗,使得每一第一内层高速走线从对应的第一开窗暴露出来,最后进行压接处理形成腔体结构,避免了采用现有技术中的激光烧蚀进行开槽,进行压接处理后形成腔体结构,会使得腔体的侧壁碳化,从而降低位于该腔体内的高速走线短路的风险。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种印刷电路板的制造方法的流程示意图;
图2A为本发明实施例提供的在印刷电路板的第一子板上刻蚀N条第一内层高速走线后所形成的结构示意图;
图2B为本发明实施例提供的在第一子板的第二表面设置第一显影层所形成的结构示意图;
图2C为本发明实施例提供的对第一显影层进行曝光处理形成第一开窗后的结构示意图;
图2D为本发明实施例提供的将第一子板和第二子板进行压接处理所形成的结构示意图;
图2E为本发明实施例提供的对第一显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图;
图2F为本发明实施例提供的对第一显影层进行曝光处理形成三个第一开窗的示意图;
图2G为本发明实施例提供的将电源层或地层压合所述第二子板的第二表面上所形成的结构的示意图;
图3A为本发明实施例提供的在印刷电路板上形成两层腔体结构的示意图;
图3B为本发明实施例提供的在印刷电路板上形成三层腔体结构的示意图;
图3C为本发明实施例提供的对第二显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图;
图3D为本发明实施例提供的对第二显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图;
图4为本发明实施例提供的一种印刷电路板的结构示意图。
具体实施方式
本发明实施例印刷电路板包括第一子板和第二子板,所述第一子板的第一表面设有第一参考层,所述第一子板的第二表面刻蚀有N条第一内层高速走线,N为大于或者等于1的整数,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一子板和所述第二子板之间设置有第一显影层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;所述第一显影层开设有第一开窗,每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态,所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。由于本发明实施例在印刷电路板的刻蚀有N条第一内层高速走线的第一子板和第二子板之间设置第一显影层,并在第一显影层开设第一开窗,使得每一第一内层高速走线从对应的第一开窗暴露出来,最后进行压接处理形成腔体结构,避免了采用现有技术中的激光烧蚀进行开槽,进行压接处理后形成腔体结构,会使得腔体的侧壁碳化,从而降低位于该腔体内的高速走线短路的风险。
下面结合说明书附图对本发明实施例作进一步详细描述。
如图1所示,本发明实施例中,印刷电路板的制造方法包括:
步骤100、在第一子板的第二表面刻蚀N条第一内层高速走线,其中N为大于或者等于1的整数,所述第一子板的第一表面设有第一参考层;
步骤101、在所述第一子板的第二表面设置第一显影层,所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态;
步骤102、对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;
步骤103、将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板,所述多块子板包括所述第一子板和第二子板,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。
本发明实施例对第一显影层进行曝光处理后,被曝光的第一显影层可以被固化,固化后的第一显影层在后续的显影处理过程中,不会被药水处理掉,未被曝光的第一显影层在后续的显影处理过程中,会被药水处理掉。在进行上述的曝光处理和显影处理后,会形成第一开窗,最后将第一子板和第二子板进行压接处理形成腔体结构。
本发明实施例在步骤100中,在印刷电路板的第一子板上刻蚀N条第一内层高速走线后所形成的结构,具体可以参见图2A。
如图2A所示,本发明实施例中,刻蚀有四条第一内层高速走线的第一子板的示意图。从图2A上可知,在第一子板1上刻蚀了四条第一内层高速走线2,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3。
本发明实施例在步骤101中,在第一子板的第二表面设置第一显影层所形成的结构,具体参见图2B。
如图2B所示,本发明实施例中,在第一子板的第二表面设置第一显影层的示意图。从图2B上可知,在第一子板1上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3。
本发明实施例在步骤102中,对第一显影层进行曝光处理形成第一开窗后的结构,具体可以参见图2C。
如图2C所示,本发明实施例中,对第一显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图。从图2C上可知,在第一子板1上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3。
本发明实施例在步骤103中,将第一子板和第二子板进行压接处理所形成的结构,具体可以参见图2D。
如图2D所示,本发明实施例中,将第一子板和第二子板进行压接处理形成腔体结构的示意图。从图2D上可知,在第一子板1上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7。
例如:在图2A中的刻蚀有四条高速走线的第一子板1的第二表面设置第一显影层4(在第一子板的第二表面设置第一显影层后所形成的结构具体的可以参见图2B)后,通过曝光处理形成两个第一开窗5(对第一显影层进行曝光处理形成两个第一开窗后的结构具体的可以参见图2C),第一子板1和第二子板6进行压接处理形成两个腔体8(进行压接处理后的结构具体的可以参见图2D)。
本发明实施例对第一显影层进行曝光处理后,可以形成至少一个第一开窗,具体的形成第一开窗的方式为:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
本发明实施例在第一显影层上形成N个第一开窗,每个第一开窗对应一条第一内层高速走线,每一条第一内层高速走线从对应的第一开窗暴露出来,且第一开窗的内壁与第一内层高速走线相隔离,具体的在第一显影层上形成N个第一开窗的结构可以参见图2E。
如图2E所示,本发明实施例中,对第一显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图。从图2E上可知,在第一子板1上刻蚀了两条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3。
本发明实施例在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
优选地,所述对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离,具体包括:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离。
本发明实施例在N条第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线时,在第一显影层上形成N-M个第一开窗,每一条第一内层高速差分走线从对应的第一开窗暴露出来,具体的在第一显影层上形成N-M个第一开窗的结构可以参见图2F。
如图2F所示,本发明实施例中,对第一显影层进行曝光处理形成三个第一开窗的示意图。从图2F上可知,在第一子板1上刻蚀了三条第一内层高速走线2和一条第一内层高速差分走线9后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成三个第一开窗5,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3。
本发明实施例将第一子板和第二子板进行压接处理后,还可以将电源层或地层压合在第二子板的第二表面上形成印刷电路板,具体的实现方式为:
将电源层或地层压合在所述第二子板的第二表面上,所述电源层或所述地层与所述第二子板的第二表面相接触。
本发明实施例将电源层或地层压合所述第二子板的第二表面上,形成的结构示意图,具体的可以参见图2G。
如图2G所示,本发明实施例中,例将电源层或地层压合所述第二子板的第二表面上所形成的结构的示意图。从图2G上可知,在第一子板1上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8,将电源层或地层压合第二子板6的第二表面上,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7,10表示电源层或地层。
本发明实施例可以根据实际的需要在印刷电路板上可以形成一层腔体结构,也可以形成至少两层腔体结构。具体的形成至少两层腔体结构的实现方式为:所述多块子板还包括第三子板,在所述将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板之前,还包括:
在所述第二子板的第二表面刻蚀K条第二内层高速走线,其中K为大于或者等于1的整数;
在所述第二子板的第二表面设置第二显影层,所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离;
对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
本发明实施例由第一子板和第二子板形成第一层腔体结构后,由第二子板和第三子板形成第二层腔体结构,具体的两层层腔体结构可以参见图3A。
如图3A所示,本发明实施例中,在印刷电路板上形成两层腔体结构的示意图。从图3A中可知,在印刷电路板上形成了两层腔体结构,在第一子板1的第二表面上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8;在第二子板6的第二表面上刻蚀了四条第二内层高速走线11后,在第二子板6的第二表面设置第二显影层12,通过对第二显影层12进行曝光处理后形成两个第二开窗13,将第二子板6和第三子板14进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7,第三子板14的第一表面设有第三参考层15。
本发明实施例由第一子板和第二子板形成第一层腔体结构后,由第二子板和第三子板形成第二层腔体结构,再对第三子板的第二表面上的低流胶或不流胶粘结材料进行开槽,将另一子板与第三子板进行压接处理,形成第三层腔体结构,具体的三层层腔体结构可以参见图3B。
如图3B所示,本发明实施例中,在印刷电路板上形成三层腔体结构的示意图。从图3B中可知,在印刷电路板上形成了两层腔体结构,在第一子板1的第二表面上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8;在第二子板6的第二表面上刻蚀了四条第二内层高速走线11后,在第二子板6的第二表面设置第二显影层12,通过对第二显影层12进行曝光处理后形成两个第二开窗13,将第二子板6和第三子板14进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8;在第三子板14的第二表面上刻蚀了四条第三内层高速走线16后,在第三子板14的第二表面设置低流胶或不流胶粘结材料,通过对低流胶或不流胶粘结材料进行激光处理后形成两个第三开窗17,将第三子板14和另一子板18进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7,第三子板14的第一表面设有第三参考层15,另一子板18的第一表面设有第四参考层19,20表示低流胶或不流胶粘结材料。
本发明实施例对第二显影层进行曝光处理后,可以形成至少一个第二开窗,具体的形成第二开窗的方式为:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K个所述第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
本发明实施例在第二显影层上形成K个第二开窗,每个第二开窗对应一条第二内层高速走线,每一条第二内层高速走线从对应的第二开窗暴露出来,且第二开窗的内壁与第二内层高速走线相隔离,具体的在第二显影层上形成K个第二开窗的结构可以参见图3C。
如图3C所示,本发明实施例中,对第二显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图。从图3C上可知,在第一子板1的第二表面上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8;在第二子板6的第二表面上刻蚀了两条第二内层高速走线11后,在第二子板6的第二表面设置第二显影层12,通过对第二显影层12进行曝光处理后形成两个第二开窗13,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7。
本发明实施例在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
优选地,所述对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,具体包括:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗,且每一所述第二内层高速差分走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
本发明实施例在K条第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线时,在第二显影层上形成K-L个第二开窗,每一条第二内层高速差分走线从对应的第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离,具体的在第二显影层上形成K-L个第二开窗的结构可以参见图3D。
如图3D所示,本发明实施例中,对第二显影层进行曝光处理形成两个第一开窗的示意图。从图3C上可知,在第一子板1的第二表面上刻蚀了四条第一内层高速走线2后,在第一子板1的第二表面设置第一显影层4,通过对第一显影层4进行曝光处理后形成两个第一开窗5,将第一子板1和第二子板6进行压接处理形成腔体结构,其中形成两个腔体8;在第二子板6的第二表面上刻蚀了一条第二内层高速走线11和一条第二内层高速差分走线21后,在第二子板6的第二表面设置第二显影层12,通过对第二显影层12进行曝光处理后形成两个第二开窗13,其中第一子板1的第一表面设有第一参考层3,第二子板6的第一表面设有第二参考层7。
本发明实施例所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
本发明实施例所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
本发明实施例可显影材料可以是可显影粘结材料,且该可显影粘结材料至少包括下述特性中的部分或全部特征:
(1)具有良好的粘结性能,在高速单板常规压合制程中,该可显影粘结材料可以有效的和环氧树脂或铜箔进行粘结;
(2)在进行高温(温度≥180℃)压合时,该可显影粘结材料的流胶量可以控制在4mil之内,以确保无胶流到腔体内的高速走线上,并且压合次数至少为一次;
(3)根据该可显影粘结材料形成的腔体结构具备一定的稳定性;
(4)该可显影粘结材料可以与钻孔、电镀等制程进行良好的兼容;
(5)根据该可显影粘结材料形成的腔体结构能够满足PCB耐压测试要求(IPC(Institute of Printed Circuits,印制电路协会)-TM(Test Method,测试方法)-6502.5.7:500V*10S*3Times);
(6)根据该可显影粘结材料形成的腔体结构满足CAF(ConductiveAnodicFilament,离子迁移)测试需求,详细的CAF测试需求具体可以参照IPC-TM-650 2.6.3中的内容。
本发明实施例可显影材料可以是可显影非粘结材料,且该可显影非粘结材料至少包括下述特性中的部分或全部特征:
(1)在进行高温(温度≥180℃)压合时,该可显影非粘结材料的流胶量可以控制在4mil之内,以确保无胶流到腔体内的高速走线上,并且压合次数至少为一次;
(2)根据该可显影非粘结材料形成的腔体结构具备一定的稳定性;
(3)该可显影非粘结材料可以与钻孔、电镀等制程进行良好的兼容;
(4)根据该可显影非粘结材料形成的腔体结构能够满足PCB耐压测试要求(IPC-TM-6502.5.7:500V*10S*3Times);
(5)根据该可显影粘结材料形成的腔体结构满足CAF测试需求,详细的CAF测试需求具体可以参照IPC-TM-6502.6.3中的内容。
本发明实施例以曝光和显影的方式对可显影材料进行开槽,可以一次对多组高速走线周围的材料进行曝光和显影处理,耗时较短,因此提高了形成腔体结构的效率。采用本发明实施例的方法对4层的PCB进行可显影材料开槽,其中采用单层分布100根差分线的方式进行PCB的高速差分线设计,得到高速走线的长度为508mm,耗时约为1~1.5小时,而采用现有技术中的激光处理方式对相同条件下的粘结材料进行开槽,耗时约为88小时,可知采用本发明的方法能够提高形成腔体结构的效率。
基于同一发明构思,本发明实施例中还提供了一种印刷电路板,由于图4的印刷电路板对应的方法为本发明实施例一种印刷电路板的制造方法,因此本发明实施例印刷电路板的实施可以参见该方法的实施,重复之处不再赘述。
图4所示,本发明实施例中,印刷电路板的结构示意图。该高速单板可以仅包含一层腔体结构,也可以包含至少两层腔体结构。
如图4所示,一种印刷电路板,包括第一子板1和第二子板6,所述第一子板1的第一表面设有第一参考层3,所述第一子板1的第二表面刻蚀有N条第一内层高速走线2,N为大于或者等于1的整数,所述第二子板6的第一表面设有第二参考层7,所述第一子板1和所述第二子板6之间设置有第一显影层4,所述第一显影层4的第一表面与所述第二参考层7相接触,所述第一显影层4的第二表面与所述第一子板1的第二表面相接触;
所述第一显影层4开设有第一开窗5,每一所述第一内层高速走线2从对应的所述第一开窗5暴露出来,且所述第一开窗5的内壁与所述第一内层高速走线2相隔离;所述第一显影层4采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态,所述第一显影层4的厚度使得所述第一内层高速走线2与所述第二参考层7相隔离。
可选地,所述第一显影层上开设有N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
具体的N个第一开窗一一对应N条第一内层高速走线的结构,可以参见图2E。
可选地,在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
所述第一显影层开设有N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来。
具体的在第一显影层开设N-M个第一开窗的结构可以参见图2F。
可选地,所述印刷电路板还包括第三子板,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二子板的第二表面刻蚀有K条第二内层高速走线,K为大于或者等于1的整数;所述第二子板和所述第三子板之间设置有第二显影层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触;
所述第二显影层开设有第二开窗,每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离;所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离。
具体的包含第一子板、第二子板和第三子板的印刷电路板可以参见图3A。
本发明实施例中包括的多个子板中,可以每个子板之间都设置有显影层,也可以部分子板之间设置有显影层。
比如包括X个子板,则X个子板中最少有一个显影层,最多有X-1个显影层。如果显影层数量为[1,X-1),则表示部分子板之间有显影层;如果显影层数量为X-1,则表示全部子板之间有显影层。
也就是说,本发明实施例的印刷电路板中至少有一个位于两个子板之间的显影层。
可选地,所述第二显影层开设有K个第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
具体的K个第二开窗一一对应K条第二内层高速走线的结构,可以参见图3C。
可选地,在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
所述第二显影层开设有K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗,且每一所述第二内层高速差分走线从对应的所述第二开窗暴露出来。
具体的在第二显影层开设K-L个第二开窗的结构,可以参见图3D。
可选地,所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
可选地,所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
尽管已描述了本发明的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (16)
1.一种印刷电路板,其特征在于,包括第一子板和第二子板,所述第一子板的第一表面设有第一参考层,所述第一子板的第二表面刻蚀有N条第一内层高速走线,N为大于或者等于1的整数,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一子板和所述第二子板之间设置有第一显影层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;
所述第一显影层开设有第一开窗,每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态,所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。
2.根据权利要求1所述的印刷电路板,其特征在于:
所述第一显影层上开设有N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
3.根据权利要求2所述的印刷电路板,其特征在于:
在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
所述第一显影层开设有N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来。
4.根据权利要求1至3任一项所述的印刷电路板,其特征在于,还包括第三子板,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二子板的第二表面刻蚀有K条第二内层高速走线,K为大于或者等于1的整数;所述第二子板和所述第三子板之间设置有第二显影层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触;
所述第二显影层开设有第二开窗,每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离;所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离。
5.根据权利要求4所述的印刷电路板,其特征在于,
所述第二显影层开设有K个第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
6.根据权利要求5所述的印刷电路板,其特征在于,
在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
所述第二显影层开设有K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗,且每一所述第二内层高速差分走线从对应的所述第二开窗暴露出来。
7.根据权利要求1至3任一所述的印刷电路板,其特征在于,
所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
8.根据权利要求4所述的印刷电路板,其特征在于,
所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
9.一种印刷电路板的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:
在第一子板的第二表面刻蚀N条第一内层高速走线,其中N为大于或者等于1的整数,所述第一子板的第一表面设有第一参考层;
在所述第一子板的第二表面设置第一显影层,所述第一显影层采用可显影材料,所述可显影材料为干膜形态;
对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离;
将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板,所述多块子板包括所述第一子板和第二子板,所述第二子板的第一表面设有第二参考层,所述第一显影层的第一表面与所述第二参考层相接触,所述第一显影层的第二表面与所述第一子板的第二表面相接触;所述第一显影层的厚度使得所述第一内层高速走线与所述第二参考层相隔离。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,具体包括:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N个所述第一开窗,N个所述第一开窗与N条所述第一内层高速走线是一对一的。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,在N条所述第一内层高速走线中包括M个第一内层高速差分走线的情况下,M为大于或者等于1的整数,且
所述对所述第一显影层进行曝光处理以形成第一开窗,以使每一所述第一内层高速走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离,具体包括:
对所述第一显影层进行曝光处理以形成N-M个所述第一开窗,其中每一所述第一内层高速差分走线对应一个所述第一开窗,且每一所述第一内层高速差分走线从对应的所述第一开窗暴露出来,且所述第一开窗的内壁与所述第一内层高速走线相隔离。
12.根据权利要求9至11任一项所述的方法,其特征在于,所述多块子板还包括第三子板,
在所述将多个子板进行压接处理形成所述印刷电路板之前,所述方法还包括:
在所述第二子板的第二表面刻蚀K条第二内层高速走线,其中K为大于或者等于1的整数;
在所述第二子板的第二表面设置第二显影层,所述第二显影层采用所述可显影材料,所述第三子板的第一表面设有第三参考层,所述第二显影层的第一表面与所述第三参考层相接触,所述第二显影层的第二表面与所述第二子板的第二表面相接触,所述第二显影层的厚度使得所述第二内层高速走线与所述第三参考层相隔离;
对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,具体包括:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K个所述第二开窗,K个所述第二开窗与K条所述第二内层高速走线是一对一的。
14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,在K条所述第二内层高速走线中包括L个第二内层高速差分走线的情况下,L为大于或者等于1的整数,且
所述对所述第二显影层进行曝光处理以形成第二开窗,以使每一所述第二内层高速走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离,具体包括:
对所述第二显影层进行曝光处理以形成K-L个所述第二开窗,其中每个所述第二内层高速差分走线对应一个所述第二开窗,且每一所述第二内层高速差分走线从对应的所述第二开窗暴露出来,且所述第二开窗的内壁与所述第二内层高速走线相隔离。
15.根据权利要求9至11任一项所述的方法,其特征在于,所述第一显影层能够满足至少一次的高温压合。
16.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述第二显影层能够满足至少一次的高温压合。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510223303.4A CN104883808B (zh) | 2015-05-05 | 2015-05-05 | 一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510223303.4A CN104883808B (zh) | 2015-05-05 | 2015-05-05 | 一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN104883808A CN104883808A (zh) | 2015-09-02 |
CN104883808B true CN104883808B (zh) | 2017-12-01 |
Family
ID=53951099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510223303.4A Active CN104883808B (zh) | 2015-05-05 | 2015-05-05 | 一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN104883808B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108012418B (zh) * | 2017-12-07 | 2019-11-01 | 生益电子股份有限公司 | 一种内置空腔的pcb及其制造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1500232A (zh) * | 2001-03-29 | 2004-05-26 | 日立化成工业株式会社 | 印刷电路板的制造法及用于其中的感光性树脂组合物 |
CN103140019A (zh) * | 2011-12-05 | 2013-06-05 | 昆山雅森电子材料科技有限公司 | 软性电路板的黑色覆盖膜、软性印刷电路板结构及其制法 |
CN103369868A (zh) * | 2013-07-10 | 2013-10-23 | 华为技术有限公司 | 一种pcb板的制作方法及pcb板 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110216514A1 (en) * | 2010-03-03 | 2011-09-08 | Mutual-Tek Industries Co., Ltd. | Combined multilayer circuit board having embedded components and manufacturing method of the same |
JP2014143237A (ja) * | 2013-01-22 | 2014-08-07 | Toppan Printing Co Ltd | ビアホールの形成方法及び多層プリント配線板の製造方法 |
-
2015
- 2015-05-05 CN CN201510223303.4A patent/CN104883808B/zh active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1500232A (zh) * | 2001-03-29 | 2004-05-26 | 日立化成工业株式会社 | 印刷电路板的制造法及用于其中的感光性树脂组合物 |
CN103140019A (zh) * | 2011-12-05 | 2013-06-05 | 昆山雅森电子材料科技有限公司 | 软性电路板的黑色覆盖膜、软性印刷电路板结构及其制法 |
CN103369868A (zh) * | 2013-07-10 | 2013-10-23 | 华为技术有限公司 | 一种pcb板的制作方法及pcb板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104883808A (zh) | 2015-09-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102458055B (zh) | 软硬结合电路板的制作方法 | |
US11457532B2 (en) | Method of manufacturing circuit board | |
US20070044910A1 (en) | Polyimide based flexible copper clad laminates and method of producing the same | |
CN104394643B (zh) | 非分层刚挠板及其制作方法 | |
CN104349610B (zh) | 印制电路板子板及印制电路板的制造方法和印制电路板 | |
CN106061107A (zh) | 具电磁屏蔽膜的刚挠结合线路板及其制备方法 | |
US7925999B2 (en) | Method of modifying vias connection of printed circuit boards | |
CN104883808B (zh) | 一种印刷电路板及印刷电路板的制造方法 | |
CN109152219B (zh) | 一种pcb内部厚铜结构、多层印制电路板及其制备方法 | |
CN101466205A (zh) | 电路板及电路板的制作方法 | |
CN105530769B (zh) | 一种印制电路板的加工方法及印制电路板 | |
CN206118157U (zh) | 具电磁屏蔽膜的刚挠结合线路板 | |
CN104349592A (zh) | 多层电路板及其制作方法 | |
WO2011043537A2 (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
CN103906376A (zh) | 可挠折的电路板及其制作方法 | |
CN209949555U (zh) | 线路板 | |
CN108200737B (zh) | 一种高频混压hdi板的制作方法 | |
CN106028645B (zh) | 一种软区不等长高速软硬结合板及其制作方法 | |
CN103118507A (zh) | 多层印制电路板的制作方法 | |
CN103298247A (zh) | 电路板及其制作方法 | |
CN107027248B (zh) | 刚挠结合线路板的制作方法及刚挠结合线路板 | |
CN110650597B (zh) | 线路板及其制作方法、以及电子设备 | |
CN103929898B (zh) | 一种超厚铜层的印刷电路板的制作方法 | |
CN104427790A (zh) | 一种局部凹陷印刷电路板及其制作方法 | |
CN107683013A (zh) | 一种六层集成电路板及其制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20210427 Address after: Unit 3401, unit a, building 6, Shenye Zhongcheng, No. 8089, Hongli West Road, Donghai community, Xiangmihu street, Futian District, Shenzhen, Guangdong 518040 Patentee after: Honor Device Co.,Ltd. Address before: 518129 Bantian HUAWEI headquarters office building, Longgang District, Guangdong, Shenzhen Patentee before: HUAWEI TECHNOLOGIES Co.,Ltd. |
|
TR01 | Transfer of patent right |