CN104865774A - 成像装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种成像装置，包括前方透镜组、支撑构件、支撑机构以及永磁体和线圈，所述前方透镜组具有前方透镜元件和反射器；所述支撑构件支撑反射器；所述支撑机构支撑可移动框架以相对于中心球形摆动，可移动框架支撑前方透镜元件，中心位于在反射器的反射表面的后方的前方透镜元件光轴的延伸部分上；所述永磁体和所述线圈作为致动器，其响应于振动以球形地摆动可移动框架，通过驱动可移动框架而进行稳像。永磁体和线圈分别平行于切平面而平面地延伸，所述切平面与以所述中心为中心的假想球体相切。永磁体的切平面的任意法线均倾斜于前方透镜元件的光轴，从而使法线与光轴之间的距离在朝向物体侧的方向上增加。

Description

成像装置

技术领域

本发明涉及一种成像装置，该成像装置设置有稳像(图像抖动修正/抖动减小)系统。

背景技术

近年来，广泛使用了主要设计用于进行静态/移动摄像的移动电子设备，例如数码照相机(静态视频照相机)、数码摄像机(运动视频照相机)和设计有可以进行摄像的辅助功能的其他移动电子设备(例如设置有照相机的移动电话和设置有照相机的智能设备(智能手机或平板电脑等))，并且需要使包含在此类移动电子设备中的成像单元微型化。为了使成像单元微型化，已知在本技术领域中构造了为弯曲光学系统的成像单元的光学系统，所述弯曲光学系统使用反射元件(例如棱镜或反射镜)的反射面反射(弯曲)光线。在成像单元中使用弯曲光学系统可以减小成像单元的厚度，特别是在来自待拍摄物体发出的入射光的行进方向上。

另外，还有趋势要求成像单元设置有所谓的稳像(图像抖动修正/抖动减小)系统，所述稳像系统设计用于减小由于例如手抖动而引起的图像平面上图像的抖动。以下四种不同类型的成像单元是本领域中公知的使用设置有稳像系统的弯曲光学系统的成像单元：第一种类型(公开于日本未审专利公开第2009-86319号和第2008-268700号)其中将图像传感器在正交于光轴的方向上移动以减小图像抖动，第二种类型(公开于日本未审专利公开第2010-128384号和日本专利第4789655号)其中将透镜(稳像透镜/稳像光学元件)设置在反射元件后方(在图像平面侧)，所述反射元件具有在正交于光轴的方向上移动的反射面，从而减小图像抖动，第三种类型(公开于日本未审专利公开第2007-228005号、第2010-204341号、第2006-330439号和日本专利第4717529号)其中改变反射元件(其反射面)的角度和靠近反射元件的透镜的角度，从而减小图像抖动，第四种类型(公开于日本未审专利公开第2006-166202号和第2006-259247号)其中将整个成像单元倾斜移动从而减小图像抖动。

本发明的申请提出了一种稳像系统，其只将前方透镜组的前方透镜元件沿着与前方透镜元件的光轴正交的平面移动，从而在包括弯曲光学系统的成像装置中减小图像抖动，其中前方透镜组包括反射元件和位于反射元件的物体侧的上述的前方透镜元件，前方透镜组位于成像装置(公开于日本未审专利公开第2013-238848号)的整个光学系统中的物体侧。

日本未审专利公开第H09-251127号中，在具有直线光轴而不具有弯曲光学系 统的透镜系统中，公开了第一透镜元件(其位于最接近于物体侧)或第二透镜元件(其随后位于第一透镜元件的后方)相对于位于光轴上的旋转中心旋转(摆动)，从而执行稳像操作。

考虑到除了静态图像摄影，移动图像摄影现在也普遍应用于成像装置中，所以需要进一步在成像装置中改善稳像能力。然而，光学元件移动以减小图像抖动(稳像光学元件)对光学性能(例如像差)产生了不利的影响，并且需要相应的光学元件移动量的空间。因此，当尝试改进稳像性能时，需要尽可能地考虑避免这些条件(即，进一步使稳像系统微型化和使由于稳像操作引起的光学性能的任何下降最小化)受损。

在第一种类型的稳像系统中，连接至图像传感器的基底(substrate)随着图像传感器而移动；因此需要对外周电组件(除了图像传感器)进行设计以配合该移动，从而使稳像系统倾向于结构复杂并且制造成本高。另外，尽管图像传感器的成像表面的外周需要有防尘结构，但是难以保证充足的空间，使图像传感器在保持在小成像单元内的防尘结构的同时允许图像传感器执行稳像操作，所述小成像单元将包含在便携式电话或智能装置内。

在第二种类型的稳像系统中，在稳像操作期间稳像透镜的移动方向与成像单元的厚度方向(向前方向/向后方向(将朝向待拍摄的物体的方向设定为向前方向))相对应，由于对其内部空间进行了限制，所以导致难以将稳像系统包含在薄的成像单元内的问题。相反，如果使用该类型的稳像系统，则会限制成像单元厚度的减小。同样的问题也存在于在成像单元的厚度方向上移动图像传感器(不是透镜元件)类型的稳像系统中。

在第三种类型的稳像系统中，需要大空间以使反射元件和邻近反射元件的透镜相对彼此倾斜移动，这很容易增加成像单元的尺寸。在第四种类型的稳像系统中，其中整个成像单元倾斜移动，无法避免稳像系统尺寸的增加。

在公开于日本未审专利公开第2013-238848号的稳像系统中，通过使前方透镜组(其位于反射元件的前方)的前方透镜元件在与前方透镜元件的光轴正交的平面上移动，得到了使成像装置在沿着前方透镜元件的光轴的方向上微型化(变薄)的效果。然而近年来，期望同时在微型化和改进设置有稳像系统的成像装置的稳像性能上达到高水平。

在公开于日本未审专利公开第H09-251127号的稳像系统中，第一透镜元件和第二透镜元件概念上的旋转中心设定在光轴(光学路径)上；然而，为了实现该光学构造，需要将用于第一透镜元件和第二透镜元件的旋转支撑件排列在偏离光学路径的位置上，从而不切断在光学路径中行进的光线，这会导致难以实现小而紧凑的稳像系统的设计。

发明内容

因此，本发明提供了一种设置有稳像系统的成像装置，所述稳像系统尺寸较小并且有卓越的防抖性能。

根据本发明的一个方面，提供了一种成像装置，包括：前方透镜组、至少一个后方透镜组、可移动框架、支撑构件、支撑机构以及致动器，所述前方透镜组组成所述成像装置的成像光学系统的一部分，并且从物体侧依次包括至少一个前方透镜元件和反射器，其中所述反射器包括将从所述前方透镜元件中射出的光线反射向不同方向的反射面，以及其中响应于施加至成像光学系统的振动，所述成像装置通过驱动所述前方透镜元件而执行稳像操作，从而在所述图像平面上减小图像抖动；所述至少一个后方透镜组组成了所述成像光学系统的另一部分，并且位于比所述前方透镜组更接近图像平面处；所述可移动框架保持所述前方透镜元件；所述支撑构件支撑至少一个所述反射器并且在参考状态下相对于所述前方透镜元件的光轴保持不动，在所述参考状态中，当不执行所述稳像操作时，所述成像装置不驱动所述前方透镜元件；所述支撑机构以允许所述可移动框架相对于球形摆动中心沿着假想球形表面作球形摆动的方式支撑所述可移动框架，所述球形摆动中心位于所述前方透镜元件的所述光轴的延伸部分上，所述光轴在所述反射器的所述反射面下侧的后方延伸；所述致动器响应于施加至成像光学系统的振动，将驱动力施加至可移动框架，从而使可移动框架相对于球形摆动中心球形摆动。致动器包括音圈电机，该音圈电机包括永磁体和线圈，一个永磁体和线圈由可移动框架固定地保持，另一个永磁体和线圈由支撑构件固定地保持。永磁体在平行于第一切平面的方向上平面地延伸，所述第一切平面与以球形摆动中心为中心的第一假想球体相切。线圈由绕组线形成而位于第二切平面上，所述第二切平面关于球形摆动中心与第二假想球体相切，线圈在平行于第二切平面的方向上平面地延伸。第一切平面的任意法线均不与前方透镜元件的光轴平行，并且与前方透镜元件的光轴或光轴的延伸部分交叉。在平行于法线的方向上，从法线和光轴或光轴的延伸线之间的交叉点开始，朝第一切平面延伸的任意半直线关于所述前方透镜元件的所述光轴倾斜，从而使半直线和前方透镜元件的光轴之间的距离在朝向所述物体侧的方向上增加。

特别地，相对于在平行于所述前方透镜元件的所述光轴的方向上，从所述交叉点朝向所述物体侧延伸的半直线，所述半直线的倾斜角度可以设定在40度至80度的区间内。

合意的是第一切平面和第二切平面彼此大致平行。

在将两个交叉点限定为第一假想球体的极点(所述第一假想球体的假想球形表面与前方透镜元件的所述光轴及其延长线在所述交叉点交叉)的前提下，将在连接第一假想球体极点的第一假想球体的假想球形表面上的任意圆弧限定为经线，将在正交于经线的第一假想球体的假想球形表面上的任意圆弧限定为纬线，α1指的是第一切平面和穿过永磁体的外轮廓中心并且平行于第一切平面的任意法线 的直线之间的交叉点，而β1指的是在穿过交叉点α1并且延伸经过经线的平面上的，第一假想球体和第一切平面之间的接触点，成像装置满足以下条件：

0≤γ1<δ1×0.2

其中，γ1指的是交叉点α1与接触点β1之间的沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述经线的平面上的距离，而δ1指的是沿着第一切平面并且在延伸经过经线的平面上的永磁体的尺寸。

在将两个交叉点限定为第一假想球体的极点(所述第一假想球体的假想球形表面与前方透镜元件的所述光轴及其延长线在所述交叉点交叉)的前提下，将在连接第一假想球体极点的第一假想球体的假想球形表面上的任意圆弧限定为经线，将在正交于经线的第一假想球体的假想球形表面上的任意圆弧限定为纬线，α2指的是第一切平面和穿过永磁体的外轮廓中心并且平行于第一切平面的任意法线的直线之间的交叉点，而β2指的是在穿过交叉点α2并且延伸经过纬线的平面上的，第一假想球体和第一切平面之间的接触点，成像装置满足以下条件：

0≤γ2<δ2×0.2

其中，γ2指的是交叉点α2与接触点β2之间的沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述纬线的平面的距离，而δ2指的是沿着第一切平面并且在延伸经过纬线的平面上的永磁体的尺寸。

如果永磁体的布置满足上述指定条件，则可以提高球形摆动操作的稳定性和准确性，同时可以抑制永磁体和线圈之间距离(空隙)的变化。如果距离γ1等于零和/或距离γ2等于零，则永磁体外轮廓的中心布置在假想球体的切点上，进一步增加球形摆动操作的稳定性和准确性的效果并抑制永磁体和线圈之间距离(空隙)的变化。

永磁体可以由可移动框架固定地保持，线圈可以由支撑构件固定地保持，并且在第一假想球体和第二假想球体的径向方向上，永磁体可以比线圈更加接近球形摆动中心。在径向方向上以传感器、永磁体和线圈的顺序从球形摆动中心侧对齐。相反地，线圈可以由可移动框架固定地保持，并且永磁体可以由支撑构件固定地保持。

合意的是永磁体包括两个永磁体，在沿着关于前方透镜元件的光轴的假想圆的方向上，将所述两个永磁体布置在不同的位置。

合意的是当在平行于前方透镜元件的光轴的方向上观察时，永磁体的磁极边界线与关于前方透镜元件的光轴的假想圆接触。

根据本发明，由于使前方透镜元件相对于球形摆动中心作球形摆动以执行稳像操作的结构，获得了设置有稳像系统的成像装置，该稳像系统在向前/向后方向上较薄(将朝向待拍摄的物体的方向设定为相应的向前方向)并且具有卓越的稳像性能，所述前方透镜元件为组成弯曲光学系统的前方透镜组的元件，并且位于反射元件的前方。由于球形运动的中心设定在前方透镜元件的光轴的延伸部分上， 因此用于保持前方透镜元件的可移动框架的支撑机构可以以空间高效方式构成，所述光轴延伸远离反射元件的反射面的背侧。另外，对于使保持前方透镜元件的可移动框架相对于球形摆动中心球形摆动的致动器，所述致动器的结构可以为在可移动框架的稳像驱动的准确性和稳定性上非常卓越，也可以为在空间利用上非常卓越。因此，得到了设置有稳像系统的成像装置，所述稳像系统尺寸较小并且具有卓越的稳像性能。

附图说明

下面将参考所附附图对本发明进行详细描述，其中：

图1为根据本发明的成像单元(成像装置)的第一实施方案的立体图；

图2为沿着包括设置在成像单元中的成像光学系统的第一光轴、第二光轴和第三光轴的平面呈现的图1所示的成像单元的立体截面图；

图3为显示了移除壳体的成像单元内部结构的成像单元的立体图；

图4为沿着包含第一光轴、第二光轴和第三光轴的平面呈现的图3所示的成像单元内部结构的立体截面图；

图5为成像单元的分解立体图，显示了为成像单元组件的体模块和第一透镜组单元彼此分离的状态；

图6为沿着包括第一光轴、第二光轴和第三光轴的平面呈现的图5所示的成像单元的分解立体截面图，显示了体模块和第一透镜组单元彼此分离的状态；

图7为沿着包括第一光轴、第二光轴和第三光轴的平面呈现的成像单元的横截面图；

图8为成像单元的第一透镜组单元的分解立体图；

图9为图8所示的构成了第一透镜组单元的元件的传感器支架的立体图；

图10为从物体侧观察的传感器支架的正视图；

图11为沿着包括第一光轴和第二光轴的平面呈现的用于第一透镜组单元的第一透镜元件的支撑机构的一部分的立体截面图；

图12为从物体侧观察的第一透镜组单元的正视图；

图13为沿着图12中所示的线XIII-XIII或XIII’-XIII’呈现的第一透镜组单元的横截面图；

图14为沿着图12中所示的线XIV-XIV呈现的第一透镜组单元的横截面图；

图15为沿着图12所示的线XIV-XIV呈现的，在第一透镜框架相对于第一透镜框架的球形摆动中心摆动的状态下的第一透镜组单元的横截面图；

图16为沿着图12中所示的线XVI-XVI呈现的第一透镜组单元的横截面图；

图17为沿着图12所示的线XVI-XVI呈现的，第一透镜框架在相对于球形摆动中心摆动的状态下的第一透镜组单元的横截面图；

图18为沿着图12所示的线XVI-XVI呈现的，所述第一透镜框架在相对于球形摆 动中心摆动，而方向与图17中的情况方向相反的状态下的第一透镜组单元的横截面图；

图19为显示了成像单元的成像光学系统的第一示例的示意图，其中在图19的上半部分显示了广角极限(extremity)的成像光学系统，图19的下半部分显示了长焦极限的成像光学系统；

图20为显示了成像单元的成像光学系统的第二示例的示意图，其中在图20的上半部分显示了广角极限的成像光学系统，图20的下半部分显示了长焦极限的成像光学系统；

图21为显示了成像单元的成像光学系统的第三示例的示意图，其中在图21的上半部分显示了广角极限的成像光学系统，图21的下半部分显示了长焦极限的成像光学系统；

图22为与图12相似的正视图相似的视图，示出移除了线圈的第一透镜组单元；

图23为沿着在图12中所示的线XIII-XIII或XIII’-XIII’呈现的横截面图，示出第一透镜元件、第一棱镜和电磁致动器之间的关系；

图24为沿着图12中所示的线XIII-XIII或线XIII’-XIII’呈现的包含在成像单元的第二实施方案中的第一透镜组单元的截面图，其中设置在第一透镜组单元中的两个永磁体和两个线圈与在成像单元的第一实施方案中的永磁体和线圈的形状不同；

图25为沿着图12所示的线XIII-XIII显示的成像单元的第三实施方案中的第一透镜元件、第一棱镜和永磁体的截面图，显示了第一透镜元件、第一棱镜和永磁体之间的位置关系，其中永磁体偏离参考位置；

图26显示了成像单元的第四实施方案中的第一透镜元件和两个永磁体的正视图，显示了第一透镜元件和两个永磁体之间的位置关系，其中两个永磁体中的一个偏离参考位置；以及

图27为显示了成像单元的第四实施方案中的两个永磁体的概念图，其为沿着经过两个永磁体的外轮廓的中心的平面呈现的横截面，并且与第一光轴正交；以及

图28为具体说明条件1和条件2的图。

具体实施方式

将参考图1至21对根据本发明的成像单元(成像装置)10的实施方案(第一实施方案)进行讨论。在如下说明中，参考附图中显示的双头箭头的方向确定向前和向后方向、向左和向右方向，以及向上和向下方向。物体侧对应于前侧。如图1中的成像单元10的外观所示，成像单元10具有横向拉长的形状，其在向前/向后方向上较薄，在向左/向右方向上拉长。

如图2、图4、图6和图7所示，成像单元10的成像光学系统设置有第一透镜组(前方透镜组)G1、第二透镜组(后方透镜组)G2、第三透镜组(后方透镜组)G3和第四透镜组(后方透镜组)G4。第一透镜组G1设置有第一棱镜(反射元件) L11，成像单元10在第四透镜组G4的右手侧(图像平面侧)设置有第二棱镜L12。成像单元10的成像光学系统配置为弯曲光学系统，在第一棱镜L11和第二棱镜L12的每一个上大致上以直角反射(弯曲)光线。如图2、图4、图6至图8、图13、图16至图18所示，第一透镜组G1配置为第一透镜元件(至少一个前方透镜组的前方透镜元件)L1、第一棱镜L11和第二透镜元件L2。第一透镜元件L1位于第一棱镜L11的入射面L11-a的前方(在物体侧)，而第二透镜元件L2位于第一棱镜L11的出射面L11-b的右手侧(图像平面侧)。在显示的实施方案中，第一透镜元件L1为单一透镜元件，配置单一透镜元件从而使单一透镜元件的入射面L1-a面朝物体侧，使单一透镜元件的出射面L1-b面朝第一棱镜L11的入射面L11-a。第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4的每一个均为不包括反射元件(例如棱镜)的透镜组。 

如图7所示，从拍摄物体发出并且沿着第一光轴O1在第一透镜元件L1上入射的光线通过入射面L11-a进入第一棱镜L11，并且通过第一棱镜L11的反射面L11-c在沿着第二光轴O2(从左延伸至右)的方向上反射，从而从第一棱镜L11的出射面L11-b射出，所述光轴O1从成像单元10的前方在向后方向上延伸。随后，从出射面L11-b射出的光线经过位于第二光轴O2上的第一透镜组G1的第二透镜元件L2、第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4，并且通过第二棱镜L12的入射面L12-a而入射第二棱镜L12。随后，经过入射面L12-a的光线通过第二棱镜L12的反射面L12-c而在沿着第三光轴O3(向前延伸)的方向上反射，并且入射在图像传感器(图像拾取装置)14的成像表面上，从而在所述成像表面上形成物体图像。第一光轴O1和第三光轴O3彼此大体平行，并且与第二光轴O2一起位于公共面上。成像单元10的形状在沿着第二光轴O2的方向上拉长，并且第一透镜组G1在其纵向方向上位于成像单元10的端部(左端)的附近。

第一光轴O1、第二光轴O2和第三光轴O3所在的假想平面由参考平面(第一参考平面)P1代表(参见图10、12、14和15)。与第一参考平面P1正交的并且第一光轴O1所在的假想平面由参考平面(第二参考平面)P2代表(参见图7、图10、图12以及图16至图18)。另外，当关于图12所示的主视图决定四个象限V1、V2、V3和V4(由第一参考平面P1和第二参考平面P2区分开)时，第一象限V1和第四象限V4位于第二参考平面P2的一侧(第二参考平面P2的右侧)，该侧朝向光线由第一棱镜L11反射时光线沿第二光轴的行进方向，而第二象限V2和第三象限V3位于第一象限V1和第四象限V4所在第二参考平面P2的相反一侧(第二参考平面P2的左侧)。

如图5和图6所示，成像单元10设置有保持第二透镜组G2、第三透镜组G3、第四透镜组G4、第二棱镜L12和图像传感器(图像拾取装置)14的体模块11，和保持第一透镜组G1的第一透镜组单元12。体模块11设置有箱型壳体13，箱型壳体13在向左/向右方向上拉长，并且在向前/向后方向上厚度小(薄)。第一透镜组单元12保持至壳体13纵向方向上的一端(左端)，并且第四透镜组G4和第二棱镜L12固定保持在壳体13纵向方向上的另一端(右端)。图像传感器14(直接位于第二棱镜L12 前方)固定安装于图像传感器基底15，该图像传感器基底15固定于壳体13。

如图3和图4所示，第二透镜组G2和第三透镜组G3分别由第二透镜组框架20和第三透镜组框架21保持，该第二透镜组框架20和第三透镜组框架21通过设置在壳体13中的成对杆22和23，可以沿着第二光轴O2移动。成像单元10设置有由壳体13支撑的第一电机M1(参见图1、图3和图5)和第二电机M2(参见图4)。当驱动第一电机M1而旋转所述第一电机M1的从第一电机M1体部伸出的螺旋轴M1a时，将该旋转传输至第二透镜组框架20，从而沿着成对杆22和23移动第二透镜组框架20。当驱动第二电机M2而旋转所述第二电机M2的从第二电机M2的体部突出的螺旋轴M2a时，该旋转传输至第三透镜组框架21，从而沿着成对杆22和23移动第三透镜组框架21。成像单元10的成像光学系统为变焦透镜系统(可变焦距透镜系统)，并且通过沿着第二光轴O2移动第二透镜组G2和第三透镜组G3而进行缩放操作(屈光度改变(power-varying)操作)。另外，通过沿着第二光轴O2移动第三透镜组G3而进行调焦操作。

成像单元10设置有稳像(图像抖动修正/抖动减小)系统，该稳像系统在图像平面上减小由振动(例如手抖动)引起的图像抖动。该稳像系统导致第一透镜组G1的第一透镜元件L1相对于球形摆动中心A1沿着假想球形表面球形地摆动(参见图13和图16至图18)，该球形摆动中心A1位于从第一光轴O1延伸出的直线上。该第一透镜元件L1相对于球形摆动中心A1沿着假想球形表面的摆动操作在下文中被称为球形摆动操作。在本实施方案的附图中的第一光轴O1表示了下述状态下的第一光轴O1的位置：在不进行图像抖动修正操作时，第一透镜元件L1位于第一透镜元件L1的初始光学设计位置的状态(即，通过稳像系统的球形摆动操作中球形摆动操作驱动范围的中心)。该状态在下文中将被称为稳像初始状态。在球形摆动操作已经从稳像初始状态开始执行的状态下，第一透镜单元L1的光轴由在图15、17和18中的O1’指定。另外，在图13至18和图23中显示了经过球形摆动中心A1和正交于第一光轴O1的第三参考平面P3。

第一透镜元件L1的入射面L1-a和出射面L1-b分别面朝物体侧和第一棱镜L11，并且第一透镜元件L1为D形，如图12所示，该D形由位于第一象限V1和第四象限V4中的第一透镜元件L1外缘的一部分(中心位于第一光轴O1上的圆形边缘)形成(限定)，沿着在向前/向后方向上(即，切开部分的边缘呈现为直线，当从前侧(从物体侧)观察时所述直线与第二光轴O2大致正交)延伸的平面呈现。随后将对第一透镜元件L1形状的特定情况进行详细讨论。

如图8所示，第一透镜组单元12设置有保持第一透镜元件L1的第一透镜框架(可移动框架)30、支撑第一棱镜L11的基部构件(支撑构件)31和从前方覆盖第一透镜框架30和基部构件31的覆盖构件(支撑构件)。第一透镜组单元12进一步设置有线圈连接板33、传感器保持器(支撑构件)34、传感器支撑板35、弹簧片36、传感器固定板37、保持第二透镜元件L2的第二透镜框架38和枢转引导件39。另外， 第一透镜组单元12设置有成对永磁体81和82以及组成了用于驱动第一透镜框架30(第一透镜元件L1)的电磁致动器的线圈83和84，并且进一步设置有成对用于检测由电磁致动器控制的第一透镜框架30(第一透镜元件L1)位置的霍尔传感器85和86。在图13和图23的每一个中，沿着在图12中所示的穿过永磁体81和线圈83的线XIII-XIII呈现的横截面的位置，以及沿着在图12中所示的穿过永磁体82和线圈84的线XIII’-XIII’呈线的横截面的位置一起示出；此外，包括在沿着线XIII’-XIII’的横截面中的元件由加上括号的参考标记指定，以与包括在沿着线XIII-XIII的横截面中的那些元件进行区分。从图13和23可知(以及根据参照图12)，这两个横截面位置基本上关于第一平面P1对称。

如图8、12、13、22和23所示，永磁体81和82中的每一个均为平面矩形立方体形状，并且永磁体81和82的形状和尺寸彼此大致相同。如图8、12、13、22和23所示，线圈83为空心线圈，该空心线圈包括彼此大致平行的成对线性部分83a和分别在成对线性部分83a端部连接所述成对线性部分83a的端部的成对弯曲(U形)部分83b。此外，线圈83是扁平线圈，与在线圈83的纵向方向(成对线性部分83a在其上延伸)上线圈83的尺寸以及在线圈83的横向方向(成对线性部分83a横贯其中)上线圈83的尺寸相比，其在穿过线圈83的空心方向上的厚度较小。同样地，线圈84为空心线圈，该空心线圈包括成对彼此大致平行的线性部分84a和分别在线性部分84a端部连接所述成对线性部分84a的端部的成对弯曲(U形)部分84b。此外，线圈84是扁平线圈，与在线圈84的纵向方向(成对线性部分84a在其上延伸)上线圈84的尺寸以及在线圈84的横向方向(成对线性部分84a横贯其中)上线圈84的尺寸相比，其在穿过线圈84的空心方向上的厚度较小。线圈83和84的形状和尺寸彼此大致相同。

第一透镜框架30设置有透镜保持部分40、支撑部分41和成对磁体保持部分42和43。透镜保持部分40为透镜框架的形状，第一透镜元件L1保持地安装至透镜保持部分40。支撑部分41从透镜保持部分40向后延伸，成对磁体保持部分42和43连接至透镜保持部分40的外周。位于第一象限V1和第四象限V4的透镜保持部分40外缘的一部分沿平行于第二参考平面P2的平面切开，从而形成线性截面部分40a，以对应于第一透镜元件L1的外轮廓。透镜保持部分40的外缘的另一部分形成为圆形框架部分40b，从而使透镜保持部分40为不完全的圆形框架。

如图14和15所示，第一透镜框架30的支撑部分41设置有成对在向上/向下方向上(在关于第一光轴O1的圆周方向上)彼此分开的支柱部分41a和在向上/向下方向上延伸的连接部分41b。成对支柱部分41a从透镜保持部分40的圆形框架部分40b向后突出，成对支柱部分41a的后端经由连接部分41b而连接(参见图14)。如图16至18所示，成对支柱部分41a和连接部分41b位于与第二光轴O2延伸侧的第二参考平面P2的相对侧(第二参考平面P2的左侧)上，并且悬臂枢转臂41c在接近第二参考平面P2(第一光轴O1)的方向上从连接部分41b上突出。枢转突出部(用于可移 动框架的支撑机构的元件)44形成于枢转臂41c的自由端。如图11、图13和图16至18所示，枢转突出部44为在向后方向上呈锥形的圆锥形(即，在向后方向上减小直径)，且枢转突出部44的端部形成为光滑的球形(球形尖端)。

枢转引导件39在其柱状基底39a的端部(后端)设置有球形引导突出部39b，并且在基底39a和引导突出部39b之间设置有凸缘39c，该凸缘39c的直径大于引导突出部39b。如图11和图14至图18所示，枢转引导件39的基底39a从后方插入由第一透镜框架30的支撑部分41的连接部分41b形成的孔中，并且凸缘39c用于接触连接部分41b，进而限定相对于连接部分41b(支撑部分41)的基底39a的插入部分。在此状态下，引导突出部39b从支撑部分41向后突出。

如图13所示，第一透镜框架30的成对磁体保持部分42和43形成为从圆形框架部分40b倾斜向后突出，从而在朝向磁体保持部分42和43的外端的方向上(即，在远离圆形框架部分40b的方向上)，从第一光轴O1至磁体保持部分42和43中的每一个的距离增加。在第一透镜框架30处于稳像初始状态下的状态中，其中第一透镜元件L1通过稳像系统而位于其驱动范围的中心(即，在不执行图像抖动修正操作的第一透镜元件L1的初始光学设计位置)，位于第二象限V2和第三象限V3的磁体保持部分42和43关于第一参考平面P1大致对称。永磁体81安装并保持至形成在磁体保持部分42中的凹口，且永磁体82安装并保持至形成在磁体保持部分43中的凹口。因此，如图12和22所示，永磁体81位于第二象限V2并且永磁体82位于第三象限V3。

基部构件31为框架式构件，在从前方观察时其外形大致为矩形。基部构件31设置有在向上/向下方向上彼此分开并且从装配部分50向右突出的成对侧壁51，该装配部分50构成了基部构件31的左端部分。基部构件31进一步设置有前方桥接部分52和棱镜保持壁53，所述前方桥接部分52连接成对侧壁51的右端的前侧，所述棱镜保持壁53连接成对侧壁51的中间部分。如图11、图13和图16至图18所示，棱镜保持壁53的形状为沿第一棱镜L11的反射面L11-c延伸，并且构成了倾斜壁，该倾斜壁在从第二透镜元件L2所在的第一透镜组单元12的右端侧渐进突出至设置有装配部分50的第一透镜组单元12的左侧端的方向上逐渐向前突出。如图13至图18所示，在基部构件31中，光学路径空间54形成在棱镜保持壁53的前方，并且后方空间55形成在棱镜保持壁53的后方。另外，与后方空间55相通地连接的侧空间56形成在装配部分50和棱镜保持壁53之间。光学路径空间54在具有作为边界的前方桥接部分52的基部构件31的前侧和右端侧开口。

第一棱镜L11保持地安装于基部构件31的光学路径空间54。第一棱镜L11设置有反射面L11-c和成对侧表面L11-d(图8中是只显示了一个)，该反射面L11-c相对于入射面L11-a和出射面L11-b大致呈45度角，成对侧表面L11-d同时对入射面L11-a和出射面L11-b正交。光学路径空间54中的第一棱镜L11的位置由反射面L11-c的后侧(下侧)限定，该反射面L11-c由棱镜保持壁53和成对侧表面L11-d保持，成对侧 表面L11-d夹在成对侧壁51之间。在第一棱镜L11的支撑状态下，入射面L11-a位于第一光轴O1上并且面向前方，出射面L11-b位于第二光轴O2上并且面向右方。另外，保持第二透镜元件L2的第二透镜框架38固定地安装在基部构件31的光学路径空间54中，从而位于第一棱镜L11的右手侧(前方桥接部分52的后面)。

基部构件31在棱镜保持壁53的后方设置有成对圆柱形支撑底座57(参见图8)，该圆柱形支撑底座57形成为在向前/向后方向上的不同位置用于传感器保持器34的装配件(mount)。在后方开口的螺孔(未显示)形成在每个支撑底座57上。基部构件31进一步在棱镜保持壁53的左端设置有用作弹簧片36安装装配件的弹簧支撑架58。

如图13和图16至图18所示，弹簧片36布置为沿着基部构件31的棱镜保持壁53并在棱镜保持壁53的后方。弹簧片36设置有装配板36a和弹性臂36b，在该装配板36a上形成有通孔，该弹性臂36b形成为从装配板36a开始延伸的悬臂。通过将装配板36a上的通孔安装至形成在弹簧支撑架58上的突出物而使弹簧片36由基部构件31支撑。在此弹簧片36的支撑状态下，弹性臂36b可以在形成于棱镜保持壁53后方的后方空间55中弹性变形。 

如图9和图10所示，传感器保持器34设置有基板部分60、成对传感器支撑突出部61和62以及基板支撑突出部63。成对传感器支撑突出部61和62中的每一个均形成在基板部分60上，从而像竖直壁一样突出，并且基板支撑突出部63从基板部分60开始向前突出，从而位于成对传感器支撑突出部61和62之间。如显示了第一透镜组单元12的装配状态的图13所示，成对传感器支撑突出部61和62从基板部分60开始倾斜向前突出，从而分别面对第一透镜框架30的磁体保持部分42和43。传感器插入凹口64形成在传感器支撑突出部61和62的每一个上。基板支撑突出部63形成为小(低)突出，其从基板部分60突出的量小于传感器支撑突出部61和62突出的量。

传感器支撑板35为弹性板，并且在其窄条部分35a的端部设置有支撑片部分35b，其为图8所示的薄平板形状。传感器支撑板35进一步在条部分35a的两侧设置有成对传感器支撑凸缘35c和35d，该传感器支撑凸缘35c和35d形成为使支撑片部分35b部分弯曲并升起。霍尔传感器85和霍尔传感器86分别安装至传感器支撑凸缘35c和传感器支撑凸缘35d并分别由传感器支撑凸缘35c和传感器支撑凸缘35d支撑。通过使支撑片部分35b由基板支撑突出部63支撑(参见图7、图11和图16至18)并且通过将霍尔传感器85和86插入传感器插入凹口64而将传感器支撑板35固定于使用传感器保持板37的传感器保持器34，所述霍尔传感器85和86分别安装在传感器支撑凸缘35c和35d上，所述凹口64形成于成对传感器支撑突出部61和62上(参见图13)。传感器支撑板35的条部分35a电连接至控制电路(未显示)，该控制电路控制成像单元10的操作，从而将霍尔传感器85和86的输出信息经由传感器支撑板35而传输至控制电路。

如图9和图10所示，传感器保持器34在基板部分60设置有成对环形邻接部分65、成对螺纹插入孔66、枢转凹口(用于可移动框架的支撑结构的构件)67和旋转阻止孔68。成对环形邻接部分65与基部构件31的成对支撑底座57的端部邻接。成对螺纹插入孔66分别形成在成对环形邻接部分65的中心。枢转凹口67和旋转阻止孔68形成在成对邻接部分65之间。如图9至图11、图13和图16至图18所示，枢转凹口67具有为研钵形(圆锥形)的内表面，该内表面可以纳入枢转突出部44，并且枢转凹口67的最内部的基础部分形成为球形，该球形对应于枢转突出部44的端部形状(球形尖端)。旋转阻止孔68为拉长孔，其在枢转凹口67的径向上的偏离枢转凹口67的轴的位置上拉长，并且旋转阻止孔68允许枢转引导件39的引导突出部39b进入其中，随后将对此进行描述。旋转阻止孔68的宽度对应于引导突出部39b的直径，从而当引导突出部39b在旋转阻止孔68内时，旋转阻止孔68不允许引导突出部39b在旋转阻止孔68的宽度方向上移动。另一方面，旋转阻止孔68的长度大于引导突出部39b的直径，从而当引导突出部39b在旋转阻止孔68内时，旋转阻止孔68允许引导突出部39b在旋转阻止孔68的长度方向上移动。

传感器支撑板35安装在传感器保持器34上时，通过将成对传感器支撑突出部61和62插入侧空间56(参见图13)、使成对邻接部分65与成对支撑支座57邻接并且将两个设定螺钉69(参见图8)穿过成对邻接部分65的螺纹插入孔66而螺纹接合入螺纹孔(该螺纹孔形成在成对的支撑支座57上)从而将传感器保持器34固定于基部构件31。在此固定状态下，传感器保持器34的基板部分60靠近基部构件31的后方空间55的背部，并且形成在基板部分60的枢转凹口67的中心位于第一光轴O1的延伸部分(参见图13和图16至图18)。另外，旋转阻止孔68位于枢转凹口67的左手侧，并且沿着第一参考平面P1拉长(参见图10和图12)。

在装配第一透镜组单元12时，由基部构件31支撑弹簧片36，随后将第一透镜框架30设置在关于基部构件31的预定位置上，并且将传感器保持器34保持于基部构件31。在此状态下，随着枢转臂41c插入后方空间55，第一透镜框架30由基部构件31支撑，从而将枢转突出部44安装入枢转凹口67，并且将枢转引导件39的引导突出部39b插入旋转阻止孔68。如图7、图11、图13和图16至图18所示，插入后方空间55在其自由端附近紧靠弹性臂36b的一部分的枢转臂41c使弹性臂36b向前弹性变形；枢转突出部44的端部通过弹簧片36的弹性臂36b的弹性而压紧枢转凹口67的底部。在此第一透镜框架30的支撑状态下，透镜保持部分40位于光学路径空间54的前方开口处，第一透镜元件L1位于第一棱镜L11的入射面L11-a的前方。如图13所示，成对磁体保持部分42和43插入基部构件31的侧空间56，从而使磁体保持部分42位于传感器保持器34的传感器支撑突出部61附近，并且使磁体保持部分43位于传感器保持器34的传感器支撑突出部62附近。

覆盖构件32设置有成对侧壁70、前方部分71和阶梯部分72。成对侧壁70形状为分别安装至基部构件31的成对侧壁51的外侧，前方部分71覆盖成对侧壁70的前 方，阶梯部分72形成在前方部分71的左端。通过将前方部分71邻接于基部构件31的前方，并通过将形成在基部构件31的每个侧壁51的一侧上的接合突出51a接合至形成在相关侧壁70上的结合孔70a而将覆盖构件32安装至基部构件31。拍摄孔径75形成于前方部分71，第一透镜元件L1通过该拍摄孔径75进行曝光。

如图13所示，均为凹口形状的两个线圈保持部分73和74形成于在边界附近的覆盖构件32的内侧，该边界位于前方部分71和覆盖构件32的阶梯部分72之间，并且线圈83和84分别安装入线圈保持部分73和74，并分别由线圈保持部分73和74保持。将覆盖构件32安装至基部构件31而使线圈83和84分别面对永磁体81和82。驱动电流经由线圈连接板33而通过线圈83和84。线圈连接板33为弹性板，设置有窄条部分33a和线圈连接部分33b。线圈连接部分33b由阶梯部分72支撑，并且电连接至线圈83和84，该线圈83和84安装至线圈保持部分73和74中。

如上所述构造第一透镜组单元12，并且如图5和图6所示将该第一透镜组单元12与体模块11相结合。壳体13(其构成了体模块11的一部分)设置有单元支撑部分13a，第一透镜组单元12的基部构件31安装至所述单元支撑部分13a中，进而由该单元支撑部分13a支撑。壳体13在单元支撑部分13a的左端设置有螺纹孔13b和成对定位销13c。基部构件31的装配部分50设置有与螺纹孔13b对齐的螺纹插入孔50a，并且进一步设置有成对定位孔50b，成对定位销13c安装入成对定位孔50b。当将成对定位销13a安装入成对定位孔50b时，通过由第一透镜组单元12上的单元支撑部分13a支撑第一透镜组单元12，并且通过将设定螺钉16螺纹穿过螺纹插入孔50a而接合至螺纹孔13b，体模块11与第一透镜组单元12连接，从而完成成像单元10的装配。

如上所述，在第一透镜组单元12中，通过经由枢转突出部44和枢转凹口67之间的接合而结合基部构件31和传感器保持器34(其相对于壳体13固定)，从而支撑第一透镜框架30。枢转凹口67为这样的凹口：在传感器保持器34的基板部分60的前方开口，并且具有研钵形(圆锥形)内表面(其在朝向凹口底部的方向上逐渐减小内表面的直径)，并且枢转凹口67的最内部的基部形成为凹面球形。该凹面球面为关于球形摆动中心A1的球形表面的一部分。枢转突出部44为具有圆锥外表面的突出部，该圆锥外表面在朝向枢转突出部44的端部的方向上逐渐减小外表面的直径，并且枢转突出部44的端部形状为凸面球形尖端。该凸面球面尖端为以球形摆动中心A1为中心的球形表面的一部分。弹簧片36提供了将枢转突出部44的端部压向枢转凹口67的底部的力，并且第一透镜框架30支撑为可以通过由接触部分引导而相对于球形摆动中心A1(相对于枢转凹口67倾斜枢转突出部44)球形摆动，该接触部分在枢转突出部44和枢转凹口67之间。由于枢转突出部44的端部形成为关于球形摆动中心A1的球形表面的一部分，所以在执行球形摆动操作时改变枢转突出部44和枢转凹口67之间的接触点而不改变球形摆动中心A1的位置。从图11和图13可以看出，枢转凹口67的圆锥内表面形成为圆锥体形状，该圆锥体形状的中心角度大于枢转突出部44的圆锥外表面的中心角度，进而允许第一透镜框架30在 没有冲突的情况下执行球形摆动操作。另外，由于枢转突出部44和枢转凹口67之间的接触部分形成了关于球形摆动中心A1的球形表面的一部分(上述凸状球形尖端和上述凹状球面)，所以当第一透镜框架30执行球形摆动操作时，弹簧片36的弹性臂36b不在向前/向后方向上移动，从而使弹簧片36的弹性负载不变(弹性臂36b在向前/向后方向上给出了保持施加在枢转突出部44的端部的负载的程度，并且在除了向前/向后方向的其他方向上避免发生多余负载)。这样可以得到具有高精度的稳定的稳像控制而没有电磁致动器(永磁体81和82以及线圈83和84)对第一透镜框架30的驱动控制进行负面影响。

如图7、图13和图16至图18所示，球形摆动中心A1位于第一光轴O1的延伸部分，其延伸至第一棱镜L11的反射面L11-c的后方，并且第一透镜元件L1的出射面L1-b为面对球形摆动中心A1的凹状表面。图7、图12、图13和图14至图16显示了上述稳像初始状态，其中第一透镜框架30(第一透镜元件L1)通过稳像系统而位于其球形摆动操作的驱动范围的中心，并且图15、图17和图18均显示了第一透镜框架30(第一透镜元件L1)已经从稳像初始状态开始在球形摆动操作中进行摆动的状态。更具体地，图15显示了第一透镜框架30已经向成像单元10的上侧倾斜的状态，图17显示了第一透镜框架30已经向成像单元10的左侧倾斜的状态，图18显示了第一透镜框架30已经向成像单元10的右侧倾斜的状态。

当允许第一透镜框架30进行球形摆动操作时，枢转导引装置39和旋转阻止孔68用作阻止第一透镜框架30相对于第一透镜元件L1的光轴(其包括在稳像初始状态下的第一透镜元件L1的第一光轴O1(非倾斜的光轴)以及在球形摆动操作已经从稳像初始状态开始执行的状态下的第一透镜元件L1的第一光轴O1’(倾斜的光轴))旋转的旋转阻止件。在成像单元10的完整的装配状态下，旋转阻止孔68形成为拉长的孔，该孔在从第一光轴O1向后延伸的假想线的径向上拉长。更具体地，如图9到12以及图14到18所示，旋转阻止孔68设置有形成为成对平行表面的成对相对表面68a，以及连接该成对相对表面68a的成对端部部分68b；对应于沿着连接该成对端部部分68b的中心线的距离的旋转阻止孔68的长度大于由在该成对相对表面68a之间的距离限定的旋转阻止孔68的宽度。旋转阻止孔68沿着在第二象限V2和第三象限V3之间的边界定位，并且该成对相对表面68a基本上平行于第一参考平面P1并且基本上对于第一参考平面P1对称地定位。如图11和图16至图18所示，旋转阻止孔68形成的位置关于成像单元10的向前/向后方向大体与枢转凹口67(即，在第三参考平面P3中的位置处)的位置一致。插入旋转阻止孔68(其以上述方式定位)的枢转引导部39的引导突出部39b为球形端，其直径基本上与旋转阻止孔68的宽度(即，在该成对相对表面68a之间的距离)一致，并且球形端的表面与该成对相对表面68a接触(点接触)。当第一透镜框架30处于稳像初始状态时，在引导突出部39b和每个相对表面68a之间的接触点位于第三参考平面P3中(参见图14和16)。此外，利用保持在该成对相对表面68a之间的引导突出部39b在旋转阻止孔 68的宽度方向上阻止引导突出部39b的移动阻止了第一透镜框架30相对于第一透镜元件L1的光轴旋转。当第一透镜框架30处于稳像初始状态时，第一透镜元件L1的光轴与在附图中示出的第一光轴O1一致，因此，引导突出部39b和旋转阻止孔68阻止第一透镜框架30相对于第一光轴O1旋转。另一方面，在第一透镜框架30通过球形摆动操作而从其在稳像初始状态下的位置倾斜的状态下，通过引导突出部39b和旋转阻止孔68阻止第一透镜框架30相对于倾斜的第一光轴O1’的旋转(参见图15、17和18)。

如可从图12理解的，在旋转阻止孔68的纵向方向(成像单元10的向左/向右方向)上，旋转阻止孔68在尺寸上大于引导突出部39b的直径，其中该成对端部部分68b面向彼此，使得引导突出部39b在沿着该成对相对表面68a的旋转阻止孔的纵向方向上可滑动。此外，如可从图11以及图14到18理解的，旋转阻止孔68具有允许引导突出部39b也在旋转阻止孔68的深度方向(成像单元10的向前/向后方向)上滑动的尺寸。另外，引导突出部39b(其球形表面与该成对相对表面68a点接触)能够关于作为摆动中心(支点)的引导突出部39b的球形端(在下文中被称为球形中心)的中心B1(参见图12以及图14至18)摆动(倾斜)。因此，关于被限定为平行于每个相对表面68a和平行于第一参考平面P1的第一平面，引导突出部39b能够在该成对相对表面68a的区域范围内，在成像单元10的向前/向后方向和向左/向右方向上，沿着该第一平面相对于旋转阻止孔68滑动。此外，对于被限定为正交于每个相对表面68a和第一参考平面P1并且平行于第一光轴O1(即，平行于第二参考平面P2的平面)的平面的第二平面，引导突出部39b能够在该第二平面内，在向前/向后方向上，沿着第一光轴O1滑动，并且相对于旋转阻止孔68关于球形中心B1摆动(参见图15)。由于这些移动，枢转引导部39和旋转阻止孔68能够阻止第一透镜框架30关于第一透镜元件L1的光轴旋转，而不干扰关于球形摆动中心A1的第一透镜框架30的球形摆动操作，像在图15、17和18中所示的球形摆动操作。

第一透镜框架30的球形摆动中心A1和引导突出39b的球形中心B1均位于第一参考平面P1上(参见图12)。因此，当第一透镜框架30形成为从在图14中所示的稳像初始状态下的位置沿着之前提到的第二平面(平行于第二参考平面P2的平面)摆动时，枢转引导部39关于引导突出部39b的球形中心B1摆动，而不改变如在图15中所示的引导突出部39b的球形中心B1的位置。因此，在图15中所示的状态下，引导突出部39b与旋转阻止孔68的该成对相对表面68a的接触点位于第三参考平面P3中。图15显示了第一透镜框架30向成像单元10的上侧倾斜的状态；第一透镜框架30向成像单元10的下侧倾斜的状态对应于图15所示的第一透镜框架30的镜像。然而，如图16至图18所示，当第一透镜框架30沿着之前提到的第一平面(平行于第一参考平面P1的平面)而摆动时，枢转引导件39在由旋转阻止孔68的成对相对面68a引导时在关于球形摆动中心A1的摆动方向上移动，进而改变引导突出部39b的球形中心B1的位置。即，引导突出部39b与该成对相对表面68a的接触点在相对于 第三参考平面P3的向前/向后方向上，也在沿着该成对相对表面68a的向左/向右方向上变化。在向前/向后方向上确定旋转阻止孔68的深度，从而当第一透镜框架30沿着第一参考平面P1摆动时，在枢转引导件39在向前/向后方向上的移动期间防止引导突出39b脱落。尽管图14至18中的每一个均显示了第一透镜框架30在沿着平行于第一参考平面P1或第二参考平面P2的第一平面或第二平面的方向上摆动移动，但第一透镜框架30除了这些平面以外也可以在沿着无数个平面的方向上摆动，包括第一光轴O1。

驱动第一透镜框架30从而使第一透镜框架30执行球形摆动操作的驱动器为包括两个音圈电机(VCM)的电磁致动器。两个音圈电机中的一个由永磁体81和线圈83(其布置在第二象限V2中)配置，另一个音圈由永磁体82和线圈84(其布置在第三象限V3中)配置。如图13和23所示，永磁体81和82在切平面T1和T2(第一切平面)上的在与关于球形摆动中心A1的共同假想球形表面J1成切线的方向上平面地延伸(参见图23)。此外，每个磁体81和82具有平面形状，其在正交于相关联的切平面T1或T2的方向上(即，在相关联的切平面T1或T2的法线的方向上)的厚度与其长度和宽度相比较小。永磁体81沿着切平面T2布置并且永磁体82沿着切平面T2布置。永磁体81的外轮廓的中心对应于其在沿着切平面T1的平面方向上的中心，并且也对应于在其厚度方向(其正交于切平面T1)上永磁体81的中心。同样地，永磁体82的外轮廓的中心对应于其在沿着切平面T2的平面方向上的中心，并且也对应于在其厚度方向(其正交于切平面T2)上永磁体82的中心。永磁体81和82的外轮廓的中心位于假想球形表面J1上。

如图12、13、22和23所示，如果直线K1被限定为穿过平面永磁体81的外轮廓的中心的直线，并且平行于切平面T1的(无限数量个)法线(即，直线K1为在穿过平面永磁体81的外轮廓中心的切点处的切平面T1的法线)，则直线K1不平行于第一光轴O1(或当球形摆动操作已经执行时的第一透镜元件L1的第一光轴O1’；仅通过在下面的描述中加括号的参考标记O1’简单示出)；此外，在永磁体81和直线K1之间的交点的位置比第三参考平面P3更接近前面(物体侧)。因此，第一光轴O1(O1’)或从第一光轴O1(O1’)延伸的线，以及切平面T1的法线非正交地(即，在除直角之外的角度处)彼此相交。用直线K1作为示例，直线K1和从第一光轴O1(O1’)延伸的线的交点C1(参见图12、13、22和23)与球形摆动中A1一致，并且从作为原点的交点C1开始，沿着直线K1(即，在平行于切平面T1的法线的方向上延伸)并且朝向切平面T1延伸的半直线相对于第一光轴O1(O1’)倾斜，使得在半直线和第一光轴O1(O1’)之间的距离在接近物体侧的方向上增加。换句话说，如果之前提到的从作为原点的交点C1开始，沿着直线K1(即，在平行于切平面T1的法线的方向上延伸)并且朝向切平面T1延伸的半直线，相对于从作为原点的交点C1开始，在平行于第一光轴O1(O1’)的方向上朝向物体侧延伸的半直线的倾斜角被指定为D1(参见图23)，下面的条件被满足：0°<D1<90°。尽管直线K1在 本文中已由切平面T1的法线的示例显示，该法线并不仅仅被限制为直线K1；任何切平面T1的法线也将满足对于倾斜角D1的上述条件。在除了直线K1之外的任何切平面T1的法线的情况下，交点C1将与球形摆动中心A1不一致。

同样地，如果直线K2被限定为穿过平面永磁体82的外轮廓的中心的直线，并且平行于切平面T2的(无限数量个)法线(即，直线K2为在穿过平面永磁体82的外轮廓中心的切点处的切平面T2的法线)，则直线K2不平行于第一光轴O1(O1’)；此外，在永磁体82和直线K2之间的交点的位置比第三参考平面P3更接近前面(物体侧)。因此，第一光轴O1(O1’)或从第一光轴O1(O1’)延伸的线，以及切平面T2的法线非正交地(即，在除直角之外的角度处)彼此相交。用直线K2作为示例，直线K2和从第一光轴O1(O1’)延伸的线的交点C2(参见图12、13、22和23)与球形摆动中A1一致，并且从作为原点的交点C2开始，沿着直线K2(即，在平行于切平面T2的法线的方向上延伸)并且朝向切平面T2延伸的半直线相对于第一光轴O1(O1’)倾斜，使得在半直线和第一光轴O1(O1’)之间的距离在接近物体侧的方向上增加。换句话说，如果之前提到的从作为原点的交点C2开始，沿着直线K2(即，在平行于切平面T2的法线的方向上延伸)并且朝向切平面T2延伸的半直线，相对于从作为原点的交点C2开始，在平行于第一光轴O1(O1’)的方向上朝向物体侧延伸的半直线的倾斜角被指定为D2(参见图23)，下面的条件被满足：0°<D2<90°。尽管直线K2在本文中已由切平面T2的法线的示例显示，该法线并不仅仅被限制为直线K2；任何切平面T2的法线也将满足对于倾斜角D2的上述条件。在除了直线K2之外的任何切平面T2的法线的情况下，交点C2将与球形摆动中心A1不一致。

通过满足上述条件(切平面T1和T2的布置，其通过法线倾斜角D1和D2来限定)，对于永磁体81和82的布置，在永磁体81和线圈83之间的距离和在永磁体82和线圈84之间的距离每一个都被阻止实质上的变化，其使得当第一透镜框架30执行球形摆动操作时电磁致动器能够被稳定控制。考虑到阻止电磁致动器与第一透镜元件L1之间的干扰、成像单元10的最小化、通过电磁致动器的第一透镜框架30的稳像驱动的精确度以及第一透镜框架30的位置敏感度，优选下面的条件被满足：40°<＝D1<＝80°并且40°<＝D2<＝80°。

在成像单元10的本实施方案中，下面的等式被满足：D1＝55°和D2＝55°。因此，当假设假想球形表面J1为具有假想球形表面J1与第一光轴O1和其延伸线的交点作为球形极点的球形，连接球形的极点的球形表面上的圆弧为经线并且正交于经线的球形表面上的圆弧为纬线(平行线)时，则永磁体81的外轮廓的中心和永磁体82的外轮廓的中心位于假想球形表面J1的共纬线(平行线)上(位于关于第一光轴O1的共圆上)(参见图22和23)。永磁体81具有在其磁极边界线Q1的相对侧上的北极点和南极点(参见图8和图22)，并且永磁体82具有在其磁极边界线Q2的相对侧上的北极点和南极点(参见图8和图22)。如在平行于在图22中所示的第一光轴 O1的方向上所视的，磁极边界线Q1和Q2的每一个与关于第一光轴O1的共同的假想圆H1(在假想球形表面J1上的纬线)相联系。两个永磁体81和82的该布置实现了好的权值平衡。

因此，如图12和22所示，位于直线K1上和位于(或者平行于)第一光轴O1上的推力作用平面P4(thrust acting plane)以及位于直线K2上和位于(或者平行于)第一光轴O1的推力作用平面P5为对于第一参考平面P1对称的平面(具有第一参考平面P1作为对称平面)，并且以相关于第一参考平面P1大约±30的角度彼此相交。即，在推力作用平面P4和P5之间的交角D3为大约60度。

线圈83和霍尔传感器85，连同永磁体81位于第二象限V2中，而线圈84和霍尔传感器86，连同永磁体82位于第三象限V3中。如图12、13和23所示，线圈83和霍尔传感器85的外轮廓的中心位于直线K1上；此外，霍尔传感器85、永磁体81和线圈83以此次序从更接近球形摆动中心A1的内直径侧开始在直线K1上对齐，并且线圈83和霍尔传感器85位于永磁体81的磁场中。线圈84和霍尔传感器86的外轮廓的中心位于直线K2上；此外，霍尔传感器86、永磁体82和线圈84以此次序从更接近球形摆动中心A1的内直径侧开始在直线K2上对齐，并且线圈84和霍尔传感器86位于永磁体82的磁场中。

如图13和23所示，线圈83和84位于假想球形表面J2中，其在直径上大于假想球形表面J1并且以球形摆动中心A1为中心。线圈83通过绕组线形成而位于与假想球形表面J2相切并且正交于直线K1的切平面(第二切平面)T3中(参见图23)。线圈83沿着切平面T3平面地延伸并且具有平面形状，其在直线K1的方向(切平面T1的法线的方向)上的厚度相较于其沿着切平面T3的长度和厚度较小。同样地，线圈84通过绕组线形成而位于与假想球形表面J2相切并且正交于直线K2的切平面(第二切平面)T4中(参见图23)。线圈84沿着切平面T4平面地延伸并且具有平面形状，其在直线K2的方向(切平面T2的法线的方向)上的厚度相较于其沿着切平面T4的长度和厚度较小。切平面T3平行于切平面T1并且切平面T4平行于切平面T2。因此，永磁体81和线圈83互相平行的平面部分的每一个具有平面形状，在直线K1的方向上面向彼此，而永磁体81和线圈83的平面延伸方向(切平面T1和T3)基本上彼此平行。同样地，永磁体82和线圈84互相平行的平面部分的每一个具有平面形状，在直线K2的方向上面向彼此，而永磁体82和线圈84的平面延伸方向(切平面T2和T4)基本上彼此平行。在本实施方案中，线圈83的外轮廓的中心和线圈84的外轮廓的中心位于共同假想球形表面J2上。

当假设假想球形表面J2为具有假想球形表面J2与第一光轴O1和其延伸线的交点作为球形极点的球形，连接球形的极点的球形表面上的圆弧为经线并且正交于经线的球形表面上的圆弧为纬线(平行线)时，则线圈83的外轮廓的中心和线圈84的外轮廓的中心位于假想球形表面J2的共纬线(平行线)上(位于关于第一光轴O1的共圆上)。如在平行于在图12中所示的第一光轴O1的方向上所视的，平行于 线圈83的纵向(细长的)方向和穿过该成对线性部分83a的中心的线圈83的长轴Q3(参见图8和12)，以及平行于线圈84的纵向(细长的)方向和穿过该成对线性部分84a的中心的线圈84的长轴Q4与关于第一光轴O1的共同的假想圆H2(在假想球形表面J2上的纬线)相切。

如图12和22所示，沿着磁极边界线Q1的永磁体81的长度W1和沿着磁极边界线Q2的永磁体82的长度W1小于线圈83沿着其长轴Q3的长度U1和线圈84沿着其长轴Q4的长度U1。换句话说，沿着各自切平面T1和T2，在延伸通过假想球形表面J1的纬线的平面上的永磁体81和82的尺寸小于沿着各自切平面T3和T4，在延伸通过假想球形表面J2的纬线的平面上的线圈83和84的尺寸。另一方面，如图23所示，在穿过磁极边界线Q1的相对侧上的北极点和南极点的方向上永磁体81的宽度W2以及在穿过磁极边界线Q2的相对侧上的北极点和南极点的方向上永磁体82的宽度W2大于线圈83在穿过该成对线性部分83a的方向上的宽度U2和线圈84在穿过该成对线性部分84a的方向上的宽度U2。换句话说，沿着切平面T1的在延伸通过假想球形表面J1的经线的平面上的永磁体81的尺寸和沿着切平面T2的在延伸通过假想球形表面J1的另一条经线的平面上的永磁体82的尺寸大于沿着切平面T3的在延伸通过假想球形表面J2的经线的平面上的线圈83的尺寸和沿着切平面T4的在延伸通过假想球形表面J2的另一条经线的平面上的线圈84的尺寸。该结构使得在球形摆动操作的预定范围内能够维持线圈83的该成对线性部分83a和线圈84的该成对线性部分84a分别面向永磁体81和永磁体82，该结构的中心通过在其稳像初始状态时第一透镜框架30的中心进行限定。

如上所述，在比包括球形摆动中心A1的第三参考平面P3更接近前面的位置处，永磁体81和永磁体82分别布置在假想球形表面J1(其以球形摆动中心A1为中心)上的第二象限V2和第三象限V3中，以基本上对于第一参考平面P1对称。在比第三参考平面P3更接近前面的位置处，线圈83和线圈84分别布置在假想球形表面J2(其以球形摆动中心A1为中心)上的第二象限V2和第三象限V3中，以基本上对于第一参考平面P1对称。此外，在比第三参考平面P3更接近前面的位置处，霍尔传感器85和霍尔传感器86也分别布置在直径比假想球形表面J1小并且以球形摆动中心A1为中心的假想球形表面上的第二象限V2和第三象限V3中，以基本上对于第一参考平面P1对称。

在位于永磁体81的磁场中的线圈83通电时，根据弗莱明左手定则而在与线圈83的成对线性部分83a正交并且与永磁体81的磁极边界线Q1正交的方向上产生驱动力。同样地，在位于永磁体82的磁场中的线圈84通电时，根据弗莱明左手定则而在与线圈84的成对线性部分84a正交并且与永磁体82的磁极边界线Q2正交的方向上产生驱动力。如图12、13、22和23所示，在穿过永磁体81的外轮廓的中心的推力作用平面P4上，通过双头箭头示出的推力轴E1表示由致动器(音圈电机)产生的推力(推动力)作用的方向，该致动器由永磁体81和线圈83构成；并且在穿 过永磁体82的外轮廓的中心的推力作用平面P5上，通过双头箭头示出的推力轴E2表示由致动器(音圈电机)产生的推力作用的方向，该致动器由永磁体82和线圈84构成。在图12和22中，在每个推力轴E1和E1的两端处的箭头在尺寸上彼此不同，以表示相对于第三参考平面P3的每个推力轴E1和E2的倾斜度，其中每个推力轴E1和E2的大箭头指示在斜前方向(即，朝向物体侧的方向)上的推力，而每个推力轴E1和E2的小箭头指示在斜后方向(即，远离于物体侧的方向)上的推力。线圈83和84经由覆盖构件32而由成像单元10的体部分(即，壳体13)保持支撑，永磁体81和82由第一透镜框架30支撑，所述第一透镜框架30为可移动构件，因此，由通电线圈83和84中的每一个产生的驱动力作为在假想球形表面J1的经度方向上移动第一透镜框架30的力。由于两个音圈电机(永磁体81和线圈83的组合以及永磁体82和线圈84的组合)在假想球形表面J1和J2上的纬度方向上安排在不同的位置(使得在推力作用平面P4和P5之间的交角D3变成大约60度)，所以可以通过组合通过两个致动器(音圈电机)的电流通道而使第一透镜框架30在任意方向上进行球形摆动操作。如上所述，由于当执行球形摆动操作时，由于枢转引导件39与旋转阻止孔68接合而避免第一透镜框架30相对于第一透镜元件L1的光轴而旋转，所以避免了第一透镜框架30过度移动至永磁体81和82中的每一个和相关的线圈83或84没有彼此面对的点，由此可以通过两个致动器(音圈电机)而始终对第一透镜框架30的位置进行控制。

根据第一透镜框架30的球形摆动操作的永磁体81位置的变化引起了面对永磁体81的霍尔传感器85输出的变化，根据第一透镜框架30的球形摆动操作的永磁体82的位置变化引起了面对永磁体82的霍尔传感器86输出的变化。可以从两个霍尔传感器85和86的输出变化中检测出在第一透镜框架30的球形摆动操作期间第一透镜框架30的位置。

如果成像单元10(其具有上述结构)指向位于成像单元10前方的物体，则由物体反射的光(光发源于拍摄物体)在穿过第一透镜元件L1后经过入射面L11-a而进入第一棱镜L11，并且由第一棱镜L11的反射面L11-c大致以直角反射，并且向出射面L11-b行进。随后，从第一棱镜L11的出射面L11-b射出的反射光在穿过第二透镜元件L2、第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4后从入射面L12-a进入第二棱镜L12，并且由第二棱镜L12的反射面L12-c大致以直角反射，并且向出射面L12-b行进。随后，反射光从出射面L12-b射出并且由图像传感器14的成像表面捕获(接收)。通过使用第一电机M1和第二电机M2沿着成对杆22和23移动第二透镜组G2和/或第三透镜组G3而执行成像单元10的成像光学系统的缩放操作(屈光度改变操作)和调焦操作。

在成像单元10中，利用第一透镜组G1的第一透镜单元L1而执行稳像(图像抖动修正/抖动减小)操作，该第一透镜组G1位于第一棱镜L11的前方。如上所述，稳像系统相对于与壳体13保持的支撑构件(基部构件31、覆盖构件32和传感器保 持器34)驱动第一透镜框架30。选择第一透镜元件L1作为稳像光学元件的优点是即使成像单元10设置有稳像系统，成像单元10也可以在向前/向后方向上构造为较薄的。例如，与成像单元10的本实施方案不同，在稳像系统在与第二光轴O2正交的方向上移动第二透镜组G2或第三透镜组G3的情况下，获得用于移动第二透镜组框架20或第三透镜组框架21的空间，并且排列用于第二透镜组框架20或第三透镜组框架21的驱动器而导致在壳体13中要求空间在向前/向后方向上增加，因此导致了成像单元10厚度的增加。另外，根据成像单元10的本实施方案的结构，当执行稳像控制时只有第一透镜元件L1被驱动而不是整个第一透镜组G1，因此，优点是移动的部分较紧凑，从而可以使驱动负载较小。在传统的稳像系统中，通常驱动完整的透镜组而消除图像抖动。然而，在成像单元10的第一透镜组G1中，第一透镜元件L1和第二透镜元件L2之间的距离很大，这是由于第一棱镜(其仅仅用作反射入射光线的反射器)设置在第一透镜元件L1和第二透镜元件L2之间，第一透镜元件L1和第二透镜元件L2中的每一个均具有折射能力；因此，即使第一透镜元件L1被单独驱动以执行稳像控制，由像差(aberrations)引起的恶化也较小。因此，作为成像光学系统，像差由完整的第一透镜组G1控制，该完整的第一透镜组G1的范围是从第一透镜元件L1至第二透镜元件L2；然而，关于稳像系统，只有第一透镜元件L1用作稳像光学元件，这基于以下的调查结果：即使第一透镜元件L1和第二透镜元件L2(其在光轴方向上彼此相隔很远，并且第一棱镜L11位于其中间)为很不相同的透镜组，也可以得到满意的光学性能。

与第一透镜元件L1沿着正交于第一光轴O1的平面线性移动的情况相比，球形摆动操作(当驱动第一透镜元件L1以执行稳像操作时)允许第一透镜元件L1在较小空间内(当沿着第一光轴O1从前方观察成像单元10时)移动较大。因此，可以通过增加最大振动角度而提升稳像性能，这样当成像单元10不仅关于向前/向后方向紧凑也关于向上/向下方向和向左/向右方向紧凑时(当从前方观察成像单元10时)，可以调整稳像操作

特别地，在成像单元10中，关注成像单元10为这样的弯曲光学系统：其中第一棱镜L11位于第一透镜元件L1的后方，球形摆动中心A1(其位于从第一光轴O1延伸出的直线上)的位置设定在后方空间55中，第一透镜框架30在执行球形摆动操作时相对于该球形摆动中心A1摆动，所述后方空间55位于反射面L11-c的后方。利用该结构，第一棱镜L11的后方空间可以有效用作用于支撑机构的安装空间，所述支撑机构用于第一透镜框架30，并且经由在空间利用上非常卓越的结构而得到球形摆动操作。更具体地，对与支撑第一透镜框架30相关的部分(例如枢转突出部44(枢转臂41c)、枢转凹口67(传感器保持器34)、弹簧片36、枢转引导件39(连接部分41b)和旋转阻止孔68(传感器保持器34))在如图13至图18所示的后方空间55中进行综合和封装。

作为在达到成像单元10的微型化时通过抑制像差波动而得到球形摆动操作的 效果的光学条件，希望满足以下条件(1)和(2)：

(1)-0.6<(SC-R2)/f1<0.4

(2)SF<-0.5，

其中SF＝(R2+R1)/(R2-R1)；

R1指的是最接近前方透镜元件(第一透镜元件L1/至少一个前方透镜元件)的物体侧的表面(入射面L1-a)的曲率半径； 

R2指的是最接近前方透镜元件的图像侧的表面(出射面L1-b)的曲率半径；

SC指的是光轴上最接近前方透镜元件的图像侧的表面(出射面L1-b)至球形摆动操作的球形摆动中心(A1)的距离；以及

f1指的是前方透镜元件的焦距。

在上述条件中的每个标记的符号(+/-)是如下决定的：将从物体侧朝向图像侧的方向确定为正(+)。

条件(1)指定了球形摆动中心A1的位置关于第一透镜元件L1焦距的标准。如果超过条件(1)的下限(小于或等于-0.6)，则从第一透镜元件L1至球形摆动中心A1的距离变得过大，这会使成像单元10难以在向前/向后方向上微型化，并且增加像差波动。进一步，如果超过了条件(1)的上限(等于或大于0.4)，则球形摆动中心A1会变得与第一透镜元件L1过近，从而使第一透镜元件L1的光轴的偏差角度在驱动第一透镜元件L1期间变小(图像偏差量变小)，从而无法达到有效的稳像效果。

条件(2)指定了第一透镜元件L1的形状。如果SF在指定的条件(2)的外部，也就是说，如果SF大于或等于-0.5(即，SF>＝-0.5)，则即使球形摆动中心A1的位置满足条件(1)，在球形摆动操作期间产生的像差波动量也会变大。

图19、图20和图21显示了成像单元10的成像光学系统的第一、第二和第三示例，作为满足上述每个条件的实际示例。图19的上半部分和下半部分分别显示了当成像光学系统在广角极限和长焦极限时，成像单元10的成像光学系统的第一示例的光学布置。同样，图20的上半部分和下半部分分别显示了当成像光学系统在广角极限和长焦极限时，成像单元10的成像光学系统的第二示例的光学布置，图21的上半部分和下半部分分别显示了当成像光学系统在广角极限和长焦极限时，成像单元10的成像光学系统的第三示例的光学布置。

成像光学系统的第一示例为这样类型的光学系统：其中第一透镜元件L1形成为凹状弯月形透镜，其中入射面L1-a为凸状表面，出射面L1-b为凹状表面(SF<-1)。成像光学系统的第二示例为这样类型的光学系统：其中第一透镜元件L1形成为平凹透镜，其中入射面L1-a为平坦表面，出射面L1-b为凹状表面(SF＝-1)。成像光学系统的第三示例为这样类型的光学系统：其中第一透镜元件L1形成为双凹透镜， 其中入射面L1-a和出射面L1-b中的每一个均为凹状表面(SF>-1)。

同样，在图19、图20和图21所示的示例中，合意的是最接近前方透镜元件(其受驱动以执行稳像操作)的图像平面(即，出射面L1-b)为凹状表面。特别地，如果最接近前方透镜元件的图像平面的表面形成为假想球形表面的一部分，该假想球形表面的中心为球形摆动中心A1，则不光学改变最接近前方透镜元件的图像平面(出射面L1-b)的表面和前方透镜元件的焦点之间的位置关系，即使执行相对于球形摆动中心A1的球形摆动操作，这样可以避免彗形(coma)，否则该彗形也会在球形摆动操作期间发生在所述表面上。

另外，也包括在第二示例中为平坦表面的入射面L1-a，合意的是最接近执行稳像操作的前方透镜元件(第一透镜元件L1)的物体侧的表面(入射面L1-a)的力(折光力)小于最接近前方透镜元件(第一透镜元件L1)的图像侧的表面(出射面L1-b)的力。

代替单一透镜元件(例如第一透镜元件L1)，粘合透镜(cemented lens)或多个透镜元件可以选择性地用作受驱动以执行稳像操作的前方透镜元件。在使用多个前方透镜元件的情况下，希望当执行稳像操作以防止光学性能恶化时，将多个前方透镜元件作为单一分透镜组而整体驱动。另外，在此情况下，如下代替在上述条件(1)和(2)中的R1、R2、SC和f1：R1指的是最接近最前方透镜元件的物体侧的表面(入射面)的曲率半径，该最前方透镜元件最接近多个前方透镜元件的物体侧；R2指的是最接近最后方透镜元件的图像侧的表面(出射面)的曲率半径，该最后方透镜元件最接近多个透镜元件的图像侧；SC指的是在光轴上的从最接近最后方透镜元件的图像侧的表面(出射面)至球形摆动操作的球形摆动中心(A1)的距离，该最后方透镜元件最接近多个透镜元件的图像侧；f1指的是多个透镜元件的组合焦距。

关于驱动第一透镜框架30(第一透镜元件L1)以消除图像抖动的稳像驱动器 的布置，由于在关于球形摆动中心A1的假想球形表面J1上的永磁体81和82的布置以及在关于球形摆动中心A1的假想球形表面J2上的线圈83和84的布置，永磁体81和线圈83之间的距离和永磁体82和线圈84之间的距离分别几乎不变，这样可以在驱动第一透镜框架30以执行相对于球面摆动中心A1的球形摆动操作时得到具有高精度的稳定的稳像控制。

此外，在音圈电机(多个音圈电机)被用作稳像驱动器的情况下，永磁体(多个永磁体)和线圈(多个线圈)中的一个变成随着第一透镜框架30移动的可移动元件和另一个为保持元件(静止元件)。在成像单元10的本实施方案中，使用动磁类型的音圈电机，其中永磁体81和82通过可移动的第一透镜框架30保持，并且已实现了适用于成像单元10的节省空间的组件布置。首先，当第一透镜框架30执行球形摆动操作时，为可移动元件的永磁体81和82的安装位置离球形摆动中心A1越远，每个永磁体81和82的移动量就越大；此外，随着每个永磁体81和82的移动量增加，在每个永磁体和保持构件(基部构件31、覆盖固件32和传感器保持器34等)之间环绕第一透镜框架30的空隙需要增加。因此，被设置为可移动元件的永磁体81和82被布置为尽可能地接近球形摆动中心A1，与其尺寸约束所允许的一样多(尺寸约束主要为由沿着磁极边界线Q1的永磁体81的长度W1和在正交于磁极边界线Q1的方向上的永磁体81的宽度W2限定的表面方向上的永磁体81的尺寸，和由沿着磁极边界线Q2的永磁体82的长度W1和在正交于磁极边界线Q2的方向上的永磁体82的宽度W2限定的表面方向上的永磁体82的尺寸)。

由于比如沿着长轴Q3的线圈83的长度U1和沿着长轴Q4的线圈84的长度U1分别大于沿着磁极边界线Q1的永磁体81的长度W1和沿着磁极边界线Q2的永磁体82的长度W1的尺寸条件(dimensional conditions)，因此难以在比永磁体81和82更接近球形摆动中心A1的内部位置处布置线圈83和84。因此，在沿着直线K1和K2的方向上，线圈83和84分别布置在比永磁体81和82更远离球形摆动中心A1的径向外侧上。与永磁体81和82不同，线圈83和84为在球形摆动操作期间不移动的保持元件，因此，不要求分别保证在线圈83和84之间的空隙以及考虑到线圈83和84的操作而确定的线圈83和84的外围构件，这即使在线圈83和84布置在永磁体81和82的径向外侧上时也不会轻易增加成像单元10的尺寸。

此外，考虑到霍尔传感器85和86在尺寸上小于永磁体81和82以及线圈83和84两者中的一个的事实，在沿着直线K1和K2的方向上，霍尔传感器85和86分别布置在比永磁体81和82更接近球形摆动中心A1的内部位置处。如可从图13所见的，支撑小霍尔传感器85和86的该成对传感器支撑突出部61和62能够插入到由透镜保持部分40(圆形框架部分40b)和第一透镜框架30的该成对磁体保持部分42和43以及基部构件31的弹簧支撑部分58环绕的狭窄空间中，使得小霍尔传感器85和86节省空间地布置。此外，霍尔传感器85和86保持在邻近永磁体81和82的内侧的位置处，并且相较于霍尔传感器85和86安装在线圈83和84的外侧的情况，霍尔传感器85和 86的该布置除了空间效率之外，对于检测精确度也是有利的。

如上文所述，上文所描述的每个音圈电机的可移动元件和保持元件在相对于球形摆动中心A1的径向方向(沿着直线K1和K2的方向)上以有利的次序空间节省地布置的结构适合于它们各自的条件，对成像单元10的紧致化(微型化)做出贡献。

另外，将永磁体81和82、线圈83和84以及霍尔传感器85和86安装在基部构件31中的侧空间56(第二象限V2和第三象限V3)中。侧空间56形成于与通过第一棱镜L11而偏离的光线的行进方向(第二光轴O2的行进方向)侧的第二参考平面P2的相对侧的截面上，并且没有成像光学系统的光学元件(其位于第一棱镜L11的光学后方(关于图7向右))安排在侧空间56中，因此永磁体81和82、线圈83和84以及霍尔传感器85和86的布置不容易受到空间的限制。例如，即使将永磁体81和82以及线圈83和84安排在第二截面上，该第二截面在包括第一象限V1和第四象限V4的第二参考平面P2的右侧，也可以驱动第一透镜元件L1；然而，第二透镜元件L2位于第一象限V1和第四象限V4中邻近第一棱镜L11的出射面L11-b的位置，从而在此情况下有以下问题：难以保证用于安装完整的电磁致动器而不干涉第二透镜元件L2的空间。然而，在显示的实施方案的布置中没有这样的限制，在显示的实施方案中，将永磁体81和线圈83的组合设置在第二象限V2中，将永磁体82和线圈84的组合设置在第三象限V3中。

另外，将均可以沿着第二光轴O2移动的第二透镜组G2和第三透镜组G3设置在从第一棱镜L11开始延伸的光学路径上，第一电机M1和第二电机M2含有金属部件，并且成对杆22和23也为金属部件，所述第一电机M1和第二电机M2构成了用于沿着第二光轴O2移动第二透镜组G2和第三透镜组G3的驱动机构的构件。如果这些金属部件是由磁性材料制成的，并且位置接近电磁致动器，则这些金属部件可能会对电磁致动器的稳像驱动操作产生负面影响。特别地，在移动磁体电磁致动器中(其中永磁体81和82支撑在可移动的第一透镜框架30上)，为了使电磁致动器执行高精度的驱动控制，要求消除永磁体81和82的磁场内的外部磁性材料引起的不良影响。与将永磁体81和82以及线圈83和84安排在第一象限V1和第四象限V4上的情况相比，将永磁体81和82以及线圈83和84安排在第二象限V2和第三象限V3上的情况下，电机M1和M2中的每一个和杆22和23中的每一个相距更远；因此，电机M1和M2以及杆22和23的部分不容易对电磁致动器的驱动产生负面影响，即使这些部分中包括磁性金属。

构成致动器(音圈电机)的永磁体81和82以及线圈83和84分别成形和布置为分别在沿着假想球形表面J1(以球形摆动中心A1为中心)的切平面T1和T2以及假想球形表面J2(以球形摆动中心A1为中心)的切平面T3和T4的平面方向上延伸。如从图12、13、22和23中所示的推力轴E1和E2可见的，通过由永磁体81和线圈83构成的致动器产生的推动力作为沿着永磁体81所位于的切平面T1的力而作用在第 一透镜框架30上，并且通过由永磁体82和线圈84构成的致动器产生的推动力作为沿着永磁体82所位于的切平面T2的力而作用在第一透镜框架30上，使得球形摆动中心A1位于假想球形表面J1的中心的第一透镜框架30能够制造成为平滑地执行具有高精确度的球形摆动操作。

永磁体81和82分别布置为在其上平面地延伸的假想球形表面J1的切平面T1和T2和线圈83和84分别布置为在其上平面地延伸的假想球形表面J2的切平面T3和T4与平行于第一光轴O1的平面不平行，或者与正交于第一光轴O1的平面(第三参考平面P3)不平行。此外，如上所述，直线K1(其在垂直于切平面T1和T3的方向上延伸(精确地说，从作为原点的交点C1开始，沿着直线K1朝向切平面T1和T3延伸的半线))相对于第一透镜元件L1的光轴(精确地说，从作为原点的交点C1开始，平行于第一光轴O1(O1’)朝向物体侧延伸的半线)的倾斜角D1大于0度并且小于90度(0°<D1<90°)(参见图23)，并且直线K2(其在垂直于切平面T2和T4的方向上延伸(精确地说，从作为原点的交点C2开始沿着直线K2朝向切平面T2和T4延伸的半线))相对于第一透镜元件L1的光轴(精确地说，从作为原点的交点C2开始，平行于第一光轴O1(O1’)朝向物体侧延伸的半线)的倾斜角D2大于0度并且小于90度(0°<D2<90°)(参见图23)。

如果直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2为0度，则电磁致动器的永磁体和线圈将平行于第三参考平面P3平面地延伸。在该构造中，平面永磁体和线圈的布置将使得其前突出部的轮廓在从第一光轴O1观察时尺寸是最大的，并因此，围绕第一透镜元件L1布置这样的电磁致动器将引起成像单元的尺寸增加。如果直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2为90度，则电磁致动器的永磁体和线圈将沿着正交于第三参考平面P3的平面而平面地延伸。在该构造中，当沿着第一光轴O1观察时，平面永磁体和线圈的薄侧(厚度部分)的轮廓将被看到，使得每个致动器自身的前突出部的轮廓较小，然而从球形摆动中心A1开始沿着第三参考平面P3的每个致动器的距离变大。如果直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2为90度的构造的情况被应用于上文所述的成像单元10的实施方案，则每个永磁体81和82将位于图13和23所示的在第三参考平面P3和假想球形表面J1之间的交点处(或者位于该交点前面或者后面的点处)，使得永磁体81和线圈83将进一步从在图12中所示的其位置斜左和斜上地突出，并且永磁体82和线圈84将进一步从在图12中所示的其位置斜左和斜下地突出。这将导致与成像单元10的本实施方案相比成像单元的尺寸增加。此外，如果直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2中的每一个大于90度，则在沿着第一光轴O1的向后方向上，构成电磁致动器的永磁体和线圈将位于第三参考平面P3之后。如果由永磁体81和82以及线圈83和84构成的电磁致动器位于第三参考平面P3之后，则在向前/向后方向上成像单元10尺寸增加。具体地，在向前/向后方向上，第一透镜元件L1和电磁致动器之间的距离增加，其引起第一透镜框架30尺寸的相当大的增加，因此对于空间利用是不利的。

与这些比较示例不同，在成像单元10的本实施方案中，通过使得直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2中的每一个都大于0度并且小于90度，两个致动器中的每一个的前突起部的轮廓尺寸减小并且在沿着第一光轴O1的方向上两个致动器中的每一个的突起部的量也减小，这使得能够实现在空间效率上优秀的紧凑的稳像驱动器。

条件40°<D1<80°和40°<D2<80°已经被描述为对于直线K1的倾斜角D1和直线K2的倾斜角D2的更合适的条件。虽然取决于第一透镜元件L1的直径和每个永磁体81和82的尺寸，但通过将倾斜角D1和倾斜角D2的每一个设置在40度或者更多，永磁体81和82能够布置在接近第一透镜元件L1的位置处而不干扰第一透镜元件L1。例如，在成像单元10的本实施方案中，每个永磁体81和82的边缘以及第一透镜元件L1的边缘彼此靠近，如图13和23所示，因此可见，第一透镜元件L1和永磁体81和82以节省空间的方式布置在假想球形表面J1上。如果倾斜角D1和倾斜角D2中的每一个被设定为小于40度(例如30度)，则永磁体81和82与第一透镜元件L1的安装区域重叠，这使得难以布置永磁体81和82。相反地，如果倾斜角D1和倾斜角D2中的每一个被设定为大于80度，则使得在沿着第三参考平面P3的方向上成像单元的最小化的效果明显减弱。

构成了致动器(音圈电机)的每个永磁体和相关的线圈的形状不限于成像单元(成像装置)的上述实施方案(第一实施方案)中的形状。例如，成像单元的第一实施方案的永磁体81和永磁体82中的每一个均形成为长方体；其中永磁体81中的分别面对线圈83和霍尔传感器85的相反表面与切平面T1平行，而永磁体82中的分别面对线圈84和霍尔传感器86的相反表面与切平面T2平行。然而，图24所示的成像单元的第二实施方案中的永磁体181和永磁体182不均形成为长方体；特别地，面对相关的线圈183或线圈184的永磁体181和永磁体182中的每一个的表面均弯曲为凸状表面，并且面对相关的霍尔传感器85或霍尔传感器86的永磁体181和永磁体182中的每一个的表面均弯曲为凹状表面。永磁体181和永磁体182的这样的弯曲表面与假想球形表面J1和假想球形表面J2大致同心。面对相关的永磁体181或永磁体182的线圈183和线圈184中的每一个的表面均形成为凹状曲面(与假想球形表面J1和J2大致同心的球形表面)，以对应于相关的永磁体181或永磁体182的凸状曲面。如果设置有永磁体181和永磁体182以及线圈183和线圈184的电磁致动器(音圈电机)使用这样的曲面，则当第一透镜框架30执行球形摆动操作时，第一透镜框架30沿着永磁体181和永磁体182以及线圈183和线圈184的曲面移动，这可以使永磁体181和线圈183之间的距离(间隙)以及永磁体182和线圈184之间距离(间隙)的变化最小。

在每个永磁体和相关的线圈的互相面对的表面和面对相关的霍尔传感器的每个永磁体的表面每个形成为非平面表面的情况下，该非平面表面可以形成为具有圆柱形状的曲面，如图24中沿着假想球形表面J1或J2的经线呈现的横截面和正交于 上述经线的方向上(沿着假想球形表面J1或假想球形表面J2的纬线的方向)的一致横截面形状所示。

在成像单元10的第一实施方案中，直线K1和直线K2中的每一个分别在球形摆动中心A1与第一光轴O1(O1’)的延伸线交叉(交叉点C1和交叉点C2中的每一个均与球形摆动中心A1一致)，所述直线K1和直线K2分别穿过永磁体81和永磁体82的外轮廓的中心并且平行于切平面T1和T2的任意法线。在成像单元的第二实施方案中的181和永磁体182的布置与成像单元的第一实施方案中的永磁体81和永磁体82的布置一致。该布置易于控制两个致动器(81(181)和83(183))、(82(182)和84(184))之间的推力差值，所述推力差值是由于致动器之间的驱动方向不同和永磁体81(181)和82(182)中的每一个和相关的霍尔传感器85或霍尔传感器86之间空隙的变化而引起的，因此有效地得到稳定的球形摆动操作。然而，即使永磁体的位置关于成像单元的第一和第二实施方案的位置在一定程度上有所改变，但是也可以不受妨碍地执行第一透镜框架30的球形摆动操作。图25和图26均显示了成像单元的这样的修改的实施方案；特别地，图25显示了成像单元的第三实施方案，图26显示了成像单元的第四实施方案。

在图25所示的成像单元的第三实施方案中，在切平面T1(切平面T1法线的倾斜角度D1)与成像单元的第一实施方案中一致的条件下，从与第一光轴O1正交并且与切平面T1平行的方向上观察时，永磁体281的布置与永磁体81的布置不同。更特别地，当假定假想球形表面J1(其在图25中显示为假想圆H3，随后将对所述假想圆H3进行讨论)为这样的球体(假想球形表面J1和第一光轴O1(O1’)及其延长线的交叉点为球体的极点)时，在延伸通过球体的经线的平面上，沿着切平面T1的永磁体281的位置与永磁体81的位置不同。与永磁体81类似，永磁体281的形状为在平行于切平面T1的平面上延伸的平面直角棱镜，并且图25所示的横截面中在永磁体281的位置上的永磁体281的宽度W2与图23所示的横截面中在永磁体81的位置上的永磁体81的宽度W2一致。穿过平坦永磁体281的外轮廓中心并且平行于切平面T1的法线的直线K11偏离于从直线K1朝向物体侧(朝向成像单元10的后方)的方向的相反方向，如成像单元的第一实施方案所示。即，与成像单元的第一实施方案中的永磁体81相比较，永磁体281所在的位置在沿着切平面T1远离第一透镜元件L1的方向上改变。根据永磁体281的该布置，直线K11和从第一光轴O1(O1’)延伸的线的交叉点C11与球形摆动中心A1不一致。图25所示的α1指的是直线K11和切平面T1的交叉点(在图25所述的此实施方案中，交叉点α1与永磁体281的外形的中心一致)。图25显示了在成像单元的第三实施方案中，在穿过交叉点α1并延伸通过假想球形表面J1的经线的平面(横截面)上的第一透镜元件L1、第一棱镜L11和永磁体281的布置，并且与切平面T1接触的假想球形表面J1的经线显示为假想圆H3。从图25可以看出，交叉点α1不与假想圆H3接触。尽管图13和图23所示的在参考位置的永磁体81接近于第一透镜元件L1，但是在永磁体和其外围元件彼此不干 涉的条件下，与图25中的情况相反的方向上，直线K1(交叉点C11)也可以从摆动中心A1朝物体侧(朝成像单元10的前方)偏离(并且平行于直线K1)。

在平行于切平面T1的任意法线并穿过平坦永磁体281外轮廓中心的直线K11(交叉点C11位于其上)从成像单元的第一实施方案的直线K1(球形摆动中心A1)沿着在延伸通过假想球形表面J1的平面内的切平面T1(换言之，沿着假想圆H3的切线)偏离的情况下，如果相比于永磁体281的尺寸(宽度W2)，在沿着延伸通过假想球形表面J1的经线上的切平面T1的方向上偏离量过大，则可能对第一透镜框架30的球形摆动操作的稳定性和准确性以及永磁体281以及相关的线圈和霍尔传感器之间空隙的变化施加不可忽视的影响。为了避免该问题发生，在包括成像单元的第三实施方案的情况下，合意的是满足以下条件(3)：

(3)0≤γ1<δ1×0.2

其中，γ1指的是如图23和图25所示的在延伸通过假想球形表面J1(假想圆H3)经线的平面上交叉点α1和接触点β1之间的距离。如上述关于永磁体281，在上述延伸通过经线的平面中，交叉点α1为切平面(T1或T2)(相关的永磁体沿着该切平面布置)与平行于切平面(T1或T2)任意法线并且穿过相关的永磁体外轮廓中心的直线(K1、K2或K11)彼此交叉的点。接触点β1为假想球形表面(假想圆H3)和切平面(T1或T2)在上述延伸通过经线的平面上彼此接触的点。δ1指的是沿着相关的切平面(T1或T2)并且在延伸通过假想球形表面J1经线(假想圆H3)的平面上的每个永磁体的尺寸，与距离γ1类似，并且对应于图23所示的永磁体81(82)的宽度W2和图25所示的永磁体281的宽度W2。在成像单元的第一实施方案和第二实施方案中，其中直线K1(其穿过永磁体(81或181)的外轮廓的中心并且平行于切平面T1的任意法线)穿过球形摆动中心A1(交叉点C1与球形摆动中心A1一致)，并且其中直线K2(其穿过永磁体(82或182)的外轮廓的中心并且平行于切平面T2的任意法线)穿过球形摆动中心A1(交叉点C2与球形摆动中心A1一致)，α1和β1如图23所示彼此一致，从而使距离γ1等于零(γ1＝0)。

尽管图25只显示了两个永磁体中的一个(即永磁体281)，但是其他的永磁体(在成像单元的第一实施方案中其对应于永磁体82)可以类似于永磁体281偏离或可以以与永磁体82相同的方式对齐。

在图26和图27所示的成像单元的第四实施方案中，在切平面T2(参见图23)(切平面T2的任意法线的倾斜角度D2)与成像单元的第一实施方案中一致的情况下，在平行于第一光轴O1(O1’)的方向上观察时，永磁体382的布置与永磁体82不同。更具体地，当假定假想球形表面J1(其在图26和图27中显示为假想圆H4(随后将对其进行讨论))为这样的球体(假想球形表面J1与第一光轴O1(O1’)及其延长线的交叉点作为球体的极点)时，在延伸通过球体的纬线的平面上沿着切平面T2方向的永磁体382的位置与永磁体82的位置不同。尽管分别显示了永磁体81和永磁体382的平面扩张的切平面T1和切平面T2在图26和图27中没有显示为平面(假想平 面)，但是在图27所示的横截面中的位置上的永磁体81磁极之间的永磁体81的边界线Q1的位置包括在切平面T1中，而在同样的横截面中的位置上的永磁体382的磁极之间的永磁体382的边界线Q2的位置包括在切平面T2中；因此，在图27中将括号附图标记T1和T2分别添加至附图标记Q1和Q2，附图标记Q1和附图标记Q2分别显示了永磁体81和永磁体382的磁极边界线。与永磁体82类似，永磁体382的形状为在平行于切平面T2的平面上扩张的平面矩形立方体，并且图27所示的横截面中在永磁体382的位置上的宽度W1与图27所示的横截面中在永磁体82的位置上的宽度W1一致。穿过平坦永磁体382的外轮廓的中心并且平行于切平面T2的任意法线的直线K22(参见图26和图27)从直线K2开始在远离第一光轴O1(O1’)和球形摆动中心A1的方向上偏离。即，与成像单元的第一实施方案中的永磁体82相比较，永磁体382所在的位置在切平面T2上远离第一参考平面P1的方向上改变。根据永磁体382的该布置，直线K22不与第一光轴O1(O1’)或其延伸线交叉。在图26和图27中，同时与永磁体81的磁极边界线Q1和永磁体382的磁极边界线Q2接触的假想球形表面J1的纬线显示为假想圆H4。作为永磁体382偏离的结果，直线K22(其穿过永磁体382的外轮廓的中心并且平行于切平面T2的任意法线)和切平面T2(在此实施方案中，交叉点α2与永磁体382的外轮廓的中心一致)之间的交叉点α2不与假想圆H4接触。在永磁体及其外周元件不彼此干涉的情况下，直线K22可以在图26和图27所示方向的相反方向上偏离第一光轴O1(O1’)和球形摆动中心A1。

在直线K22(其平行于切平面T1的任意法线，并且穿过永磁体382的外轮廓的中心)沿着切平面T2(换言之，沿着假想圆H4的切线)在延伸通过假想球形表面J1的纬线的平面中从直线K2偏离的情况下(显示在图26和图27中显示的成像单元的第一实施方案中)，如果与永磁体382的尺寸(宽度W1)相比，在延伸通过假想球形表面J1纬线的上述平面上沿着切平面T2的方向上偏离量过大，则可能会对第一透镜框架30的球形摆动操作的稳定性和准确性以及永磁体382和相关的线圈以及霍尔传感器之间空隙的变化产生不可忽视的影响。为了避免该问题发生，在包括成像单元的第四实施方案的情况下，合意的是满足以下条件(4)：

(4)0≤γ2<δ2×0.2

其中，γ2指的是如图22、图26和图27所示的在延伸通过假想球形表面J1(假想圆H4)纬线的平面上交叉点α2和接触点β2之间的距离。如上所述的关于永磁体382，在上述延伸通过纬线的平面中，交叉点α2为切平面(T1或T2)(相关的永磁体沿着该切平面布置)与平行于切平面(T1或T2)的任意法线并且穿过相关的永磁体外轮廓中心的直线(K1、K2、K11或K22)彼此交叉的点。接触点β2为假想球形表面(假想圆H4)和切平面(T1或T2)在上述延伸通过纬线的平面上彼此接触的点。δ2指的是沿着相关的切平面(T1或T2)并且在延伸通过假想球形表面J1纬线(假想圆H4)的平面上的每个永磁体的尺寸，与距离γ2类似，并且对应于图22、图26和图27所示的永磁体81(82)的宽度W1和图26所示的永磁体382的宽度W1。在成 像单元的第一实施方案、第二实施方案和第三实施方案中，其中直线(K1或K11)(其穿过永磁体(81、181或281)的外轮廓的中心并且与切平面T1的任意法线平行)与第一光轴O1(O1’)的延伸部分交叉，并且其中直线K2(其穿过永磁体(82或182)的外轮廓的中心并且与切平面T2的任意法线平行)与第一光轴O1(O1’)的延伸部分交叉，距离γ2等于零(γ2＝0)。

尽管两个永磁体中的一个(即永磁体382)的位置在图26和图27所示的成像单元的第四实施方案中偏离，但是另一个永磁体81仍可以以与永磁体382类似的方式偏离。

尽管在成像单元的第三实施方案和第四实施方案中有一个永磁体在一个方向上偏离，但是仍可以将成像单元的第三实施方案显示的偏离布置和成像单元的第四实施方案显示的偏离布置应用至单个永磁体。

尽管在成像单元的第三实施方案和第四实施方案的每一个中均显示了致动器的永磁体的偏移，但是对于每个线圈和霍尔传感器是否存在偏移布置是可以根据永磁体是否存在偏移布置而选择的。

作为第一组合，可以偏移直线(其从永磁体的外轮廓的中心和线圈的外轮廓的中心同时开始在平行于切平面的任意法线的方向上延伸)从而使直线不与球形摆动中心A1交叉(这样的与磁体、线圈或霍尔传感器位置相关的直线偏移布置以下将简称为磁体、线圈或霍尔传感器的偏移布置)，并且不偏移霍尔传感器。对于球形摆动操作的位置控制的准确性，该配置可以实施为与没有元件偏移的基础配置大致相同的水平。另一方面，为了在永磁体与相关的线圈之间的空隙中抑制波动并且在永磁体与相关的霍尔传感器之间的空隙中抑制波动，基础配置比第一组合的配置更具有优势。

作为第二组合，永磁体和线圈均不偏移，并且只偏移霍尔传感器。利用该配置，对永磁体和线圈之间间隙变化的抑制量与在基础配置中的抑制量相同。另一方面，对于球形摆动操作的位置控制的准确性和在永磁体和霍尔传感器之间空隙的波动的抑制，基础配置比第二组合更具有优势。

作为第三组合，可以全部等量偏移永磁体、线圈和霍尔传感器。关于以下因素，基础配置比第三组合的配置更具有优势：球形摆动操作的位置控制的准确性、永磁体和线圈之间空隙的波动抑制以及永磁体和霍尔传感器之间空隙的波动抑制。

尽管已经基于上述实施方案对本发明进行描述，但是本发明不仅限于此；上述实施方案的各种修改是可能的而不脱离本发明的范围。例如，尽管上述成像装置的成像光学系统使用棱镜作为弯曲光学路径的反射元件，但是也可以由反射镜等代替棱镜作为反射元件。另外，本发明还可以应用至在成像光学系统中具有L形光学路径而不包括相对应于第二棱镜L12的反射元件的类型的成像装置。可选择地，本发明可以被应用至包含弯曲光学系统的成像装置，该弯曲光学系统除了第 一棱镜L11和第二棱镜L12以外，还包括一个或更多的附加反射元件。总之，由弯曲光学系统的反射元件反射的光轴的弯曲角度(反射角度)可以为除了90度之外的任意角度。

如上所述，可以对前方透镜元件(第一透镜元件L1)进行各种修改以执行稳像操作，所述前方透镜元件位于反射元件(其在上述实施方案中对应于第一棱镜L11)的物体侧。例如，可以设置多个前方透镜元件而代替单一透镜元件。

在上述实施方案中的第一透镜元件L1为D形，该D形由切去第一透镜元件L1的外缘的一部分而形成，这有助于沿着第二光轴O2方向上的第一透镜组单元12的微型化。然而，在本发明中的前方透镜元件的正视形状并不限于D形透镜元件；本发明也适用于包括在正视图中形状(例如，圆形形状)与D形透镜不同的前方透镜元件的成像装置。

在上述实施方案中，基部构件31、覆盖构件32和传感器保持器34的组合用作支撑构件，该支撑构件以允许第一透镜框架30执行球形摆动操作的方式对第一透镜框架30进行支撑。该结构在装配可加工型上可以达到极好的效果；然而，也可以使用基部构件31、传感器保持器34等等整体形成的支撑构件。与上述成像单元10的实施方案不同，可以整体形成壳体13(其保持成像传感器14、第二棱镜L12和其他构件)和基部构件31(其保持第一棱镜L11)，从而用作整体支撑构件，并且由该整体支撑构件对第一透镜框架30进行支撑。

在上述的每个实施方案中，将切平面T1和切平面T3(其分别显示了永磁体(81、181或281)和线圈(83或183)的彼此面对的平面扩张)设定为彼此平行，将切平面T2和切平面T4(其分别显示了永磁体(82或382)和线圈(84或184)的彼此面对的平面扩张)设定为彼此平行。该布置当第一透镜框架30执行球形摆动操作时，有效地抑制了每个永磁体和相关的线圈之间空隙的波动；然而，本发明还适用于这样的配置，其中切平面T1和切平面T3不彼此平行和/或切平面T2和切平面T4不彼此平行。即使一个永磁体的平面方向和相关的线圈的平面方向相对彼此倾斜，但是只要倾斜的角度在预定范围内，仍可以有效执行球形摆动操作。

在上述的每个实施方案中，将移动磁体类音圈电机(其中永磁体(81、181或281和82、182或382)由可移动第一透镜框架30保持，并且线圈(83和84，或183和184)由静止覆盖构件32保持)用作使第一透镜框架30执行球形摆动操作的致动器。与该结构不同，也可以采用这样的移动线圈类音圈电机，其中线圈由可移动第一透镜框架30保持，且永磁体由支撑第一透镜框架30的支撑构件(基部构件31、覆盖构件32、传感器保持器34等)以允许第一透镜框架30执行球形摆动操作的方式保持。在此情况下，由可移动第一透镜框架30保持用于检测第一透镜框架30位置的霍尔传感器是可取的。

在成像单元的第一实施方案中，将用于驱动第一透镜框架30以减小图像抖动的两个致动器(即，永磁体81和线圈83的组合以及永磁体82和线圈84的组合)布 置为使推力作用平面P4和推力作用表面P5之间的交叉角度D3约为60度(参见图12和图22)。两个致动器的推力作用平面P4和推力作用平面P5的位置距第一参考平面P1越近(即，随着推力作用平面P4和推力作用平面P5之间的交叉角度变小)，在向上/向下方向上的成像单元10的微型化中，两个致动器的配置越具有优势。然而，使推力作用平面P4和推力作用平面P5之间的交叉角度过度小会难以进行稳定高精度的第一透镜框架30的稳像控制。图12和图22所示的配置是这样的：将两个致动器的推力作用平面P4和推力作用平面P5之间的交叉角度D3设定为大约60度，从而在一定范围内在向上/向下方向上减小成像单元10的尺寸，从而不损害稳像控制的稳定性和准确性。然而，关于第一光轴O1(在沿着假想球形表面J1和J2的纬线的方向上)的在周向的两个致动器的布置不限于此具体布置；只要可以可靠地执行第一透镜框架30的球形摆动操作的任何其他的布置。例如，当在与第一光轴O1平行的方向上观察时，如图12和图22所示，如果将两个致动器的推力作用平面之间的交叉角度设定为大约90度，则即使在向上/向下方向上，第一透镜组单元12的微型化会受到一些限制，该配置也有利于保证稳像控制的稳定性和准确性。

图22、图26和图27所示的如下配置关于重量平衡是合意的，其中永磁体81磁极之间的永磁体81的边界线Q1和永磁体82或永磁体382磁极之间的永磁体82或永磁体382的边界线Q2与关于第一光轴O1的共同的假想圆H1或假想圆H4(假想球形表面J1的纬线)接触。然而，即使在两个永磁体的磁极边界线不与关于第一透镜元件L1光轴的共同的假想圆接触的情况下，仍可以驱动第一透镜框架30，并且可以检测第一透镜框架30的位置，并且本发明不排除这样的结构。

在本文描述的本发明的具体实施方案中可以进行明显改变，这种修改落入本发明要求保护的精神和范围内。指明本文包含的所有事项为说明性的并且不限制本发明的范围。

Claims (11)

1.一种成像装置，包括：

前方透镜组，其组成所述成像装置的成像光学系统的一部分，并且从物体侧依次包括至少一个前方透镜元件和反射器，其中所述反射器包括将从所述前方透镜元件中射出的光线反射向不同方向的反射面，以及其中响应于施加至所述成像光学系统的振动，所述成像装置通过驱动所述前方透镜元件而执行稳像操作，从而在所述图像平面上减小图像抖动；

至少一个后方透镜组，其组成了所述成像光学系统的另一部分，并且位于比所述前方透镜组更接近图像平面处；

可移动框架，其保持所述前方透镜元件；

支撑构件，其支撑至少一个所述反射器并且在参考状态下相对于所述前方透镜元件的光轴保持不动，在所述参考状态中，当不执行所述稳像操作时，所述成像装置不驱动所述前方透镜元件；

支撑机构，其以允许所述可移动框架相对于球形摆动中心沿着假想球形表面作球形摆动的方式支撑所述可移动框架，所述球形摆动中心位于所述前方透镜元件的所述光轴的延伸部分上，所述光轴在所述反射器的所述反射面下侧的后方延伸；以及

致动器，所述致动器响应于施加至所述成像光学系统的振动，将驱动力施加至所述可移动框架，从而使所述可移动框架相对于所述球形摆动中心球形摆动，

其中，所述致动器包括音圈电机，所述音圈电机包括永磁体和线圈，一个所述永磁体和所述线圈由所述可移动框架固定地保持，另一个所述永磁体和所述线圈由所述支撑构件固定地保持，

其中，所述永磁体在平行于第一切平面的方向上平面地延伸，所述第一切平面与以所述球形摆动中心为中心的第一假想球体相切，

其中，所述线圈由绕组线形成而位于第二切平面上，所述第二切平面关于所述球形摆动中心与第二假想球体相切，所述线圈在平行于所述第二切平面的方向上平面地延伸，

其中，所述第一切平面的任意法线均不与所述前方透镜元件的所述光轴平行，并且与所述前方透镜元件的所述光轴或所述光轴的延伸线交叉，并且

其中，在平行于所述任意法线的方向上，从所述法线和所述光轴或所述光轴的所述延伸线之间的交叉点开始，朝所述第一切平面延伸的任意半直线关于所述前方透镜元件的所述光轴倾斜，从而使所述半直线和所述前方透镜元件的所述光轴之间的距离在朝向所述物体侧的方向上增加。

2.根据权利要求1所述的成像装置，其中，相对于在平行于所述前方透镜元件的所述光轴的方向上，从所述交叉点朝向所述物体侧延伸的半直线，所述半直线的倾斜角度落在40度至80度的区间内。

3.根据权利要求1所述的成像装置，其中所述第一切平面和所述第二切平面大致彼此平行。

4.根据权利要求1所述的成像装置，其中，当将两个交叉点限定为所述第一假想球体的极点时，将在连接所述第一假想球体的所述极点的所述第一假想球体的所述假想球形表面上的任意圆弧限定为经线，将在正交于所述经线的所述第一假想球体的所述假想球形表面上的任意圆弧限定为纬线，所述第一假想球体的假想球形表面与所述前方透镜元件的所述光轴及其延长线在所述两个交叉点交叉，α1指的是所述第一切平面和穿过所述永磁体的外轮廓中心并且平行于所述第一切平面的所述任意法线的直线之间的交叉点，而β1指的是在穿过所述交叉点α1并且延伸经过所述经线的平面上的，所述第一假想球体和所述第一切平面之间的接触点，

所述成像装置满足下述条件：

0≤γ1<δ1×0.2

其中，γ1指的是所述交叉点α1与所述接触点β1之间的沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述经线的平面上的距离，并且

δ1指的是沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述经线的平面上的所述永磁体的尺寸。

5.根据权利要求4所述的成像装置，其中所述距离γ1等于零。

6.根据权利要求1所述的成像装置，其中，当将两个交叉点限定为所述第一假想球体的极点时，将在连接所述第一假想球体的所述极点的所述第一假想球体的所述假想球形表面上的任意圆弧限定为经线，将在正交于所述经线的所述第一假想球体的所述假想球形表面上的任意圆弧限定为纬线，所述第一假想球体的假想球形表面与所述前方透镜元件的所述光轴及其延长线在所述两个交叉点交叉，α2指的是所述第一切平面和穿过所述永磁体的外轮廓中心并且平行于所述第一切平面的任意法线的直线之间的交叉点，而β2指的是在穿过所述交叉点α2并且延伸经过所述纬线的平面上的，所述第一假想球体和所述第一切平面之间的接触点，

所述成像装置满足下述条件：

0≤γ2<δ2×0.2

其中，γ2指的是所述交叉点α2与所述接触点β2之间的沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述纬线的平面的距离，并且

δ2指的是沿着所述第一切平面并且在延伸经过所述纬线的平面上的所述永磁体的尺寸。

7.根据权利要求6所述的成像装置，其中所述距离γ2等于零。

8.根据权利要求1所述的成像装置，其中所述永磁体由所述可移动框架固定地保持，

其中，所述线圈由所述支撑构件固定地保持，并且

其中，在所述第一假想球体和所述第二假想球体的径向方向上，所述永磁体比所述线圈更接近所述球形摆动中心。

9.根据权利要求8所述的成像装置，进一步包括传感器，其感测磁场的变化从而检测所述可移动框架的位置，

其中，在所述径向方向上以所述传感器、所述永磁体和所述线圈的顺序从所述球形摆动中心侧对齐。

10.根据权利要求1所述的成像装置，其中，所述永磁体包括两个永磁体，在沿着关于所述前方透镜元件的所述光轴的假想圆的方向上，将所述两个永磁体布置在不同的位置。

11.根据权利要求1所述的成像装置，其中当在平行于所述前方透镜元件的所述光轴的方向上观察时，所述永磁体的磁极边界线与关于所述前方透镜元件的所述光轴的假想圆接触。