JP6114050B2 - 撮像装置 - Google Patents

Description

本発明は、防振（像振れ補正）機構を備えた撮像装置に関する。

近年、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ等の主として撮影を目的とした携帯電子機器や、カメラ付き携帯電話機や携帯情報端末といった付随的に撮影機能を備えた携帯電子機器が広く普及しており、こうした携帯電子機器に搭載される撮像ユニットの小型化が求められている。撮像ユニットの小型化の手段として、プリズムやミラーなどの反射要素の反射面を用いて光束を反射（屈曲）させる屈曲光学系によって撮像用の光学系を構成したものが知られている。屈曲光学系を用いることによって、特に被写体からの入射光の進行方向における撮像ユニットの薄型化を実現することができる。

また撮像ユニットには、手振れなどの振動を起因とする像面上での像振れを軽減させるための、いわゆる防振機構の搭載が求められる傾向にある。屈曲光学系の撮像ユニットで防振機構を備えたものとして、撮像センサを像面と直交する方向に移動させて防振を行う第１のタイプ（特許文献１、２）、反射面を有する反射要素の後方（像面側）に配置したレンズを光軸直交方向に移動させて防振を行う第２のタイプ（特許文献３、４）、反射要素（反射面）の角度や反射要素に隣接するレンズの角度を変化させて防振を行う第３のタイプ（特許文献５、６、７、８）、撮像ユニット全体を傾動させて防振を行う第４のタイプ（特許文献９、１０）が知られている。

防振機構で防振用の光学要素を駆動させる手段として、永久磁石の磁界中に配したコイルに電流を流すことで力を発生させるボイスコイルモータを用いたものが知られている（特許文献１、３、４、５）。磁界の変化を検出するセンサ（ホールセンサなど）によって防振用の光学要素の位置情報が得られる。

特開２００９-８６３１９号公報 特開２００８-２６８７００号公報 特開２０１０-１２８３８４号公報 特許第４７８９６５５号 特開２００７-２２８００５号公報 特開２０１０-２０４３４１号公報 特開２００６-３３０４３９号公報 特許第４７１７５２９号 特開２００６-１６６２０２号公報 特開２００６-２５９２４７号公報

第１のタイプの防振機構は、撮像センサに接続する基板が撮像センサに追随して移動されるため、撮像センサのみならず周囲の電装系の部品も可動対応の構成にする必要があり、構成が複雑でコスト高になりやすい。また撮像センサの撮像面周りは防塵構造であることが求められるが、携帯電話機や携帯情報端末への搭載を意図した小型の撮像ユニットでは、撮像センサの防塵構造を維持しながら防振用の動作を行わせるだけの十分なスペースをハウジング内に確保しにくい。

第２のタイプの防振機構は、防振動作時のレンズの移動方向が撮像ユニットの厚み方向（被写体の方向を前方とした場合の前後方向）になるため、薄型の撮像ユニット内に防振機構を設けることがスペース的に難しいという問題がある。逆に言えば、このタイプの防振機構を用いると撮像ユニットの薄型化が制約されてしまう。レンズではなく撮像センサを撮像ユニットの厚み方向に移動させるタイプの防振機構でも同様の問題がある。

第３のタイプの防振機構は、反射要素やレンズを傾動させるために広いスペースが必要であり、撮像ユニットが大型化しやすい。撮像ユニット全体を傾動させる第４のタイプの防振機構ではさらに大型化が避けられない。

よって、以上のような駆動形態とは異なる、撮像装置の小型化や薄型化に有利な防振機構が求められている。また、ボイスコイルモータを防振機構の駆動源として用いる場合、防振駆動の形態に加えて、永久磁石、コイル、センサといった各要素をスペース効率良く配置することも撮像装置の小型化にとって重要である。

直進運動を行わせるボイスコイルモータは、回転運動を直進変換させる機構などを要さずに動力伝達できるため、光軸と直交する平面内で防振用の光学要素を移動させる防振機構に用いると構成の簡略化を図りやすい。一方、ボイスコイルモータを構成する永久磁石やコイルは、防振用の光学要素の移動平面（防振用の光学要素を通る光軸と直交する平面）に沿って広い面を有する扁平な形状であるため、当該平面方向での配置スペースが大きくなりがちである。特に、防振用のボイスコイルモータには直進運動方向が直交する２組の永久磁石とコイルが用いられ、これら複数の永久磁石とコイルが防振用の光学要素の周囲に配置されるので、駆動源をボイスコイルモータとした防振機構を搭載した撮像ユニットで小型化や薄型化を図る場合、ボイスコイルモータやセンサの配置にも留意する必要がある。

また、移動される側の部材に永久磁石を配した、いわゆるムービングマグネットタイプのボイスコイルモータを防振機構に用いた場合、周囲の磁性体が永久磁石の磁界に影響を及ぼして防振駆動の精度を低下させるおそれがあるので、その対策が求められる。

本発明は以上の問題点に鑑みてなされたものであり、屈曲光学系により光路が形成され、かつ防振用の光学要素をボイスコイルモータで駆動する防振機構を備えた撮像装置において、スペース効率と駆動精度に優れた防振機構によって撮像装置の小型化及び薄型化を達成することを目的とする。

本発明の撮像装置は、撮像光学系を構成し、物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、前方レンズから第１の光軸に沿って出射された光束を第１の光軸と非平行な第２の光軸方向へ反射させる反射素子とを有し、光軸方向位置が固定の前方レンズ群；撮像光学系を構成し、前方レンズ群よりも像面側に位置する少なくとも一つの後方レンズ群；少なくとも前方レンズ群の反射素子を固定的に支持するベース部材；前方レンズ群の前方レンズを支持し、ベース部材に対して第１の光軸と直交する平面に沿って可動に支持された移動枠；及び、撮影光学系に加わる振れに応じて、ベース部材を移動させずに移動枠を駆動して像面上での像振れを抑制する駆動手段；を有し、さらに以下の構成を備える。駆動手段は、ベース部材と移動枠のいずれか一方に設けられたコイルに通電することにより、ベース部材と移動枠の他方に設けた永久磁石の磁力境界線と垂直な方向への推力を発生するボイスコイルモータを有し、第１の光軸と直交する平面内において互いの磁力境界線の方向が直交する関係で第１の永久磁石と第２の永久磁石が設けられ、第１の光軸と平行な方向で第１の永久磁石に対向させて第１のコイルが設けられ、第２の永久磁石に対向させて第２のコイルが設けられている。第１の永久磁石と第１のコイルは、第１の光軸と第２の光軸を含む第１の基準平面を挟んだ一方の領域に配置され、第２の永久磁石と第２のコイルは、第１の基準平面を挟んだ他方の領域に配置される。これら２組の永久磁石とコイルのそれぞれの中心は、第１の光軸を通り第１の基準平面に直交する第２の基準平面を挟んだ両側領域のうち、第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置される。第１の永久磁石と第２の永久磁石の磁力境界線はそれぞれ、第２の基準平面から離れるにつれて第１の基準平面に接近する傾きを有している。第１の永久磁石と第１のコイルによる第１の推力作用方向での移動枠の位置が第１の磁気センサによって検知され、第２の永久磁石と第２のコイルによる第２の推力作用方向での移動枠の位置が第２の磁気センサによって検知される。第１の光軸に沿って見たとき、第１の磁気センサは、第１の推力作用方向における第１のコイルの両側領域のうち前方レンズと反対側の領域に設けられる。また、第２の磁気センサは、第２の推力作用方向における第２のコイルの両側領域のうち前方レンズと反対側の領域に設けられる。この構成によると、ボイスコイルモータに加えて第１の磁気センサと第２の磁気センサを前方レンズの周囲にスペース効率良く配置することができる。

第１の推力作用方向で第１の永久磁石が第１のコイルよりも幅広で、第１の光軸に沿って見たとき、第１の磁気センサと第１の永久磁石の互いの少なくとも一部が重なって位置することが好ましい。また、第２の推力作用方向で第２の永久磁石が第２のコイルよりも幅広で、第１の光軸に沿って見たとき、第２の磁気センサと第２の永久磁石の互いの少なくとも一部が重なって位置することが好ましい。

また、第１の推力作用方向に沿って見たとき、第１の磁気センサと第１のコイルの互いの少なくとも一部が重なって位置し、第２の推力作用方向に沿って見たとき、第２の磁気センサと第２のコイルの互いの少なくとも一部が重なって位置する関係とすることで、第１の光軸に沿う方向の薄型化の効果が得られる。

本発明は、第１のコイルが第１の推力作用方向と垂直な方向に延びる一対の長辺部を有する細長形状で、第２のコイルが第２の推力作用方向と垂直な方向に延びる一対の長辺部を有する細長形状であるタイプの撮像装置に好適である。第１の磁気センサが第１のコイルの一方の長辺部に沿って配置され、第２の磁気センサが第２のコイルの一方の長辺部に沿って配置される。

第１の永久磁石と第２の永久磁石、第１のコイルと第２のコイル、第１の磁気センサと第２の磁気センサをそれぞれ、第１の基準平面に関して対称に配置するとよい。

本発明は、各永久磁石と各コイルを移動枠とベース部材のいずれに搭載しても成立するが、第１の永久磁石と第２の永久磁石を移動枠に設け、第１のコイルと第２のコイル、第１の磁気センサと第２の磁気センサをベース部材に対して固定的に支持させた、いわゆるムービングマグネットタイプの防振機構に好適である。この場合、ベース部材に固定されて移動枠を覆うカバー部材を備え、第１のコイルと第２のコイル、第１の磁気センサと第２の磁気センサをそれぞれカバー部材に設けると、各部品の組み付けが容易となる。

第１の磁気センサと第２の磁気センサは、ホールセンサなどの任意の磁気センサを用いることができる。

前方レンズ群の反射素子は任意に選択できるが、例えばプリズムを用いることができる。

本発明によれば、前方レンズ群における反射要素の前方に位置する前方レンズを光軸直交方向に移動させて像振れ補正を行うため、防振機構を内蔵しつつ撮像装置の効率的な小型化、特に前後方向の薄型化を図ることができる。また、防振機構の駆動手段であるボイスコイルモータを構成する２つの永久磁石と２つのコイルが、前方レンズの周囲のうち他の光学要素と干渉しない領域にスペース効率良く配置されるため、防振機構を含めた撮像装置の小型化に寄与する。また、永久磁石を含む駆動手段が、他の磁性体の影響を受けにくい部分に配置されているため、防振機構の駆動精度の確保においても優れた効果が得られる。さらに、前方レンズの支持する移動枠の位置を検知する２つの磁気センサが、ボイスコイルモータ周りにスペース効率良く配置されており、磁気センサを含めた総合的な撮像装置の小型化が実現される。

本発明を適用した撮像ユニットの外観斜視図である。 撮像ユニットの内部構造を示す斜視図である。 撮像ユニットの長手方向に沿う側断面図である。 撮像ユニットを構成する１群ブロックの分解斜視図である。 カバー部材を外した状態の１群ブロックを被写体側から見た正面図である。 図５のVI-VI線に沿う１群ブロックの断面図である。 図５のVII-VII線に沿う１群ブロックの断面図である。 図５のVIII-VIII線に沿う１群ブロックのアクチュエータ付近をカバー部材を取り付けた状態で示す断面図である。 図５のIX-IX線に沿う１群ブロックのアクチュエータ付近をカバー部材を取り付けた状態で示す断面図である。 第１レンズ枠を被写体側から見た正面図である。 ベース部材と、該ベース部材上に支持した状態のガイドシャフトと第１プリズムを被写体側から見た正面図である。

以下、添付図面を参照しながら本発明の一実施形態に係る撮像ユニット（撮像装置）１０について説明する。なお以下の説明における前後、左右、及び、上下の各方向は図中に記載した矢線方向を基準としており、被写体（物体）側が前方となる。図１に外観形状を示すように、撮像ユニット１０は前後方向に薄く左右方向に長い横長形状をなしている。

図２と図３に示すように、撮像ユニット１０の撮像光学系は、第１群（前方レンズ群）Ｇ１、第２群（後方レンズ群）Ｇ２、第３群（後方レンズ群）Ｇ３、第４群（後方レンズ群）Ｇ４を有し、第１群Ｇ１に含まれる第１プリズムＬ１１と第４群Ｇ４の右方（像側）に位置する第２プリズムＬ１２でそれぞれ略直角に光束を反射させる屈曲光学系となっている。図３と図７に示すように、第１群Ｇ１は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方（被写体側）に位置する第１レンズ（前方レンズ）Ｌ１と、第１プリズムＬ１１と、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂの右方（像側）に位置する第２レンズＬ２とから構成される。第２群Ｇ２から第４群Ｇ４はそれぞれ、プリズムなどの反射素子を含まないレンズ群である。

図３に示すように、前方から後方に向かう第１光軸Ｏ１に沿って第１レンズＬ１に入射した被写体からの光束は、入射面Ｌ１１−ａを通して第１プリズムＬ１１に入り、第１プリズムＬ１１内の反射面Ｌ１１−ｃによって第２光軸Ｏ２に沿う方向（左方から右方）に反射されて出射面Ｌ１１−ｂから出射される。続いて光束は、第２光軸Ｏ２上に位置する第２レンズＬ２と第２群Ｇ２から第４群Ｇ４までの各レンズを通り、入射面Ｌ１２−ａを通して第２プリズムＬ１２に入り、第２プリズムＬ１２内の反射面Ｌ１２−ｃによって第３光軸Ｏ３に沿う方向（後方から前方に向かう方向）に反射されて出射面Ｌ１２−ｂから出射され、撮像センサＩＳの撮像面上に結像される。第１光軸Ｏ１と第３光軸Ｏ３は略平行であり、第２光軸Ｏ２と共に同一の平面内に位置する。第１光軸Ｏ１と第２光軸Ｏ２と第３光軸Ｏ３を含む仮想の平面を基準平面（第１の基準平面）Ｐ１（図５、図６）とし、この基準平面Ｐ１に直交して第１光軸Ｏ１を含む仮想の平面を基準平面（第２の基準平面）Ｐ２（図５）とする。撮像ユニット１０は第２光軸Ｏ２に沿う方向に長い形状をなしており、第１レンズＬ１は撮像ユニット１０の長手方向の一端部（左側の端部）に近い位置に寄せて配置されている。

図１から図３に示すように、撮像ユニット１０は第２群Ｇ２、第３群Ｇ３、第４群Ｇ４、第２プリズムＬ１２及び撮像センサＩＳを保持する本体モジュール１１と、第１群Ｇ１を保持する１群ブロック１２を備えている。本体モジュール１１は、左右方向に長く前後方向の厚みが薄い箱状体のハウジング１３を有しており、ハウジング１３の長手方向の一端部（左方の端部）に１群ブロック１２が取り付けられ、ハウジング１３の長手方向の他端部（右方の端部）側には第４群Ｇ４と第２プリズムＬ１２と撮像センサＩＳが固定的に保持されている。

図２に示すように、第２群Ｇ２を保持する２群枠２０と第３群Ｇ３を保持する３群枠２１は、ハウジング１３内に設けたロッド２２、２３を介して第２光軸Ｏ２に沿って移動可能に支持されている。ハウジング１３には第１モータＭ１と第２モータＭ２が支持され、第１モータＭ１から突出する送りネジシャフトＭ１ａを回転駆動させると、２群枠２０に駆動力が伝達されて該２群枠２０がロッド２２、２３に沿って移動され、第２モータＭ２から突出する送りネジシャフトＭ２ａを回転駆動させると、３群枠２１に駆動力が伝達されて該３群枠２１がロッド２２、２３に沿って移動される。撮像ユニット１０の撮像光学系は焦点距離可変であり、第２光軸Ｏ２に沿う第２群Ｇ２と第３群Ｇ３の移動によってズーミング（変倍）動作が行われる。また、第２光軸Ｏ２に沿う第３群Ｇ３の移動によってフォーカシング動作が行われる。

撮像ユニット１０は、手振れなどの振動を原因とする像面上での像振れを軽減させる防振（像振れ補正）機構を備えている。この防振機構は第１群Ｇ１中の第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で駆動させるものである。本実施形態の説明及び図中における第１光軸Ｏ１は、第１レンズＬ１が防振機構による駆動範囲の中央に位置する状態（振れ補正動作を行なっていない光学設計上の初期位置にある状態）での、該第１レンズＬ１を通る光軸位置を示している。

図４に示すように、１群ブロック１２は、第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠（移動枠）３０と、第１プリズムＬ１１と第２レンズＬ２を保持するベース部材３１と、第１レンズ枠３０とベース部材３１を前方から覆うカバー部材３２を有している。図１１に示すように、ベース部材３１は正面（前方）から見て概ね矩形をなしており、図４、図６及び図７に示すように、第１光軸Ｏ１に対して略直交する板状のベース板部３５と、ベース板部３５から後方に突出する後面フランジ３６と、ベース板部３５の右側端部に位置する出射側フランジ３７を有する。後面フランジ３６や出射側フランジ３７をハウジング１３に対して当接させ、さらにロッド２２及び２３の端部を出射側フランジ３７に形成した孔に嵌合させることによって、本体モジュール１１に対する１群ブロック１２の支持位置が決まる（図１、図３参照）。ベース部材３１の後面フランジ３６に形成した穴３６ａ（図１、図２及び図４）に対して挿通したネジをハウジング１３側のネジ孔に螺合させることによって、１群ブロック１２が本体モジュール１１に対して固定される。図中では固定用のネジの図示を省略している。

図３、図４、図６、図７及び図１１に示すように、ベース部材３１には、ベース板部３５上に臨む前面と出射側フランジ３７に臨む右側面が開口するプリズム用凹部３８が形成されており、プリズム用凹部３８内に第１プリズムＬ１１が嵌合固定されている。第１プリズムＬ１１は、第１光軸Ｏ１上に位置し前方を向く入射面Ｌ１１−ａと、第２光軸Ｏ２上に位置し右方を向く出射面Ｌ１１−ｂと、入射面Ｌ１１−ａと出射面Ｌ１１−ｂに対して約４５度の角度で斜設される反射面Ｌ１１−ｃと、入射面Ｌ１１−ａ及び出射面Ｌ１１−ｂに対して直交する一対の側面Ｌ１１−ｄを備えている。第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂは基準平面Ｐ２と略平行な面であり、一対の側面Ｌ１１−ｄはそれぞれ基準平面Ｐ１と略平行な面である。ベース部材３１にはさらに、プリズム用凹部３８から出射側フランジ３７を右方に貫通するレンズ保持部３９が形成されており、レンズ保持部３９内に第２レンズＬ２が嵌合保持されている。

図４、図１０及び図１１に示すように、プリズム用凹部３８内に支持された第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａは２組の平行な対辺によって囲まれる細長矩形であり、上下方向に長辺（１組の対辺）を向け、左右方向に短辺（別の１組の対辺）を向けて配置されている。以下、入射面Ｌ１１−ａの一対の長辺のうち出射面Ｌ１１−ｂに隣接する（入射面Ｌ１１−ａと出射面Ｌ１１−ｂの境界部分を構成する）側の長辺を出射側長辺、これと反対の出射面Ｌ１１−ｂから遠い（入射面Ｌ１１−ａと反射面Ｌ１１−ｃの境界部分を構成する）側の長辺を先端側長辺と呼ぶ。入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺と先端側長辺を接続する一対の短辺は、入射面Ｌ１１−ａと一対の側面Ｌ１１−ｄの境界部分を構成している。

ベース部材３１のベース板部３５の前面側には、３箇所のガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃが形成されている。図５や図１１のように撮像ユニット１０を正面（前方）から見て、ガイド支持部４０Ａとガイド支持部４０Ｂは、第１プリズムＬ１１の一対の側面Ｌ１１−ｄ（入射面Ｌ１１−ａの一対の短辺）に沿う位置に、基準平面Ｐ１に関して対称な関係で配置されており、ガイド支持部４０Ｃは第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺とベース部材３１の左端の間に位置している。換言すれば、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａのうち出射側長辺を除く３辺に沿うコ字状の領域にガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃが設けられている。図４に示すように、ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃはそれぞれ、ベース部材３１の外縁側に向けて開放された開放長溝Ｔ１を有するコ字状断面形状を有している。ガイド支持部４０Ａとガイド支持部４０Ｂの開放長溝Ｔ１は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの短辺と略平行な方向に長手方向を向けた長溝であり、ガイド支持部４０Ｃの開放長溝Ｔ１は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺と略平行な方向に長手方向を向けた長溝である。

各ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃの開放長溝Ｔ１内にそれぞれ、ガイドシャフト４１Ａとガイドシャフト４１Ｂとガイドシャフト４１Ｃが挿入支持される。ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃは長手方向に一様断面の円柱状部材であり、金属や合成樹脂などの材質で形成される。ガイド支持部４０Ａの開放長溝Ｔ１は、上方に向く側部が開口されており、この側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ａが挿入される。ガイド支持部４０Ｂの開放長溝Ｔ１は、下方に向く側部が開口されており、この側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ｂが挿入される。ガイド支持部４０Ｃの開放長溝Ｔ１は、左方に向く側部が開口されており、この側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ｃが挿入される。各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃは、対応する開放長溝Ｔ１に対して、第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿って挿入可能で、挿入した状態で各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃの軸線が第１光軸Ｏ１と直交する同一平面内に含まれる。詳細には、図５や図１１に示すように、ガイドシャフト４１Ａの軸線とガイドシャフト４１Ｂの軸線が、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの短辺（一対の側面Ｌ１１−ｄ）や基準平面Ｐ１と略平行になり、さらにガイドシャフト４１Ａの軸線とガイドシャフト４１Ｂの軸線が基準平面Ｐ１から等距離に位置される。また、ガイドシャフト４１Ｃの軸線が、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺や基準平面Ｐ２と略平行になる。そして、図５に示すように、ガイドシャフト４１Ａとガイドシャフト４１Ｂの軸線方向の中央が基準平面Ｐ２上に位置し、ガイドシャフト４１Ｃの軸線方向の中央が基準平面Ｐ１上に位置する。この基準平面Ｐ１、Ｐ２上に位置する各ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃの中央部分には、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを保持しない形状の切欠き４２Ａ、４２Ｂ及び４２Ｃが形成されている。

ベース部材３１のベース板部３５の前面側にはさらに、前方へ突出する移動制限突起４３と揺動軸突起４４がそれぞれ一つずつ設けられている。図４や図１１に示すように、移動制限突起４３は、プリズム用凹部３８（第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの先端側長辺）と切欠き４２Ｃの間の位置に形成された円柱状の突出部である。揺動軸突起４４は、プリズム用凹部３８の周辺においてガイド支持部４０Ｂと出射側フランジ３７の境界付近（第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの下側の短辺と出射側長辺の境界付近の外側）に形成された円柱状の突出部である。

撮像ユニット１０における防振機構では、３つのガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを介して、第１レンズ枠３０がベース部材３１に対して第１光軸Ｏ１と直交する平面内で可動に支持される。図４や図１０に示すように、第１レンズ枠３０は、第１レンズＬ１を内部に嵌合固定させる筒状のレンズ保持部５０と、レンズ保持部５０から第２光軸Ｏ２が延びる方向と反対側（左方）に突出するフランジ５５を有し、レンズ保持部５０とフランジ５５の周囲に３つの摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃが設けられている。図５や図１０のように第１レンズＬ１を正面視すると、第２光軸Ｏ２が延びる側の周縁部で円形の一部を切り欠いたＤカット形状をなしており、レンズ保持部５０は第１レンズＬ１の外形形状に対応したＤカット状の円筒状形状を有する。摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃは、このレンズ保持部５０のＤカット部分を除いた第１レンズ枠３０の３辺に沿って形成されている。

詳細には、摺動支持部５１Ａと摺動支持部５１Ｂは、基準平面Ｐ１に関する対称の位置関係でレンズ保持部５０の周縁部に形成されており、摺動支持部５１Ｃは、フランジ５５の左端に形成されている。図５から図７に示すように、第１レンズ枠３０をベース部材３１に支持させた状態で、摺動支持部５１Ａは切欠き４２Ａ上に位置し、摺動支持部５１Ｂは切欠き４２Ｂ上に位置し、摺動支持部５１Ｃは切欠き４２Ｃ上に位置する。各切欠き４２Ａ、４２Ｂ及び４２Ｃは、第１レンズ枠３０がベース部材３１に対して防振用の移動を行うときに、各ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃが各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃに対して干渉しないようにさせる逃げ凹部として機能する。

図４、図６及び図７に示すように、摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃはそれぞれ、第１レンズ枠３０の外縁側に向けて開放された開放長溝Ｔ２を有するコ字状断面形状を有している。摺動支持部５１Ａと摺動支持部５１Ｂの開放長溝Ｔ２は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの短辺と略平行な方向に長手方向を向けた長溝であり、摺動支持部５１Ｃの開放長溝Ｔ２は、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺と略平行な方向に長手方向を向けた長溝である。摺動支持部５１Ａの開放長溝Ｔ２に対して、上方に向く側方開口部からガイドシャフト４１Ａが挿入され、摺動支持部５１Ｂの開放長溝Ｔ２に対して、下方に向く側方開口部からガイドシャフト４１Ｂが挿入され、摺動支持部５１Ｃの開放長溝Ｔ２に対して、左方に向く側方開口部からガイドシャフト４１Ｃが挿入される。組み立ての手順としては、ベース部材３１と第１レンズ枠３０を先に組み合わせ、続いて各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを挿入するとよい。各切欠き４２Ａ、４２Ｂ及び４２Ｃに対して各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃを位置合わせしてベース部材３１上に第１レンズ枠３０を載せると、ガイド支持部４０Ａの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ａの開放長溝Ｔ２、ガイド支持部４０Ｂの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ｂの開放長溝Ｔ２、ガイド支持部４０Ｃの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ｃの開放長溝Ｔ２がそれぞれ連通する位置関係になる（各開放長溝Ｔ１の延設方向の中間位置に各開放長溝Ｔ２が位置される）。この状態で、ガイド支持部４０Ａの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ａの開放長溝Ｔ２に対して、上方を向く側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ａを挿入する。同様に、ガイド支持部４０Ｂの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ｂの開放長溝Ｔ２に対して、下方を向く側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ｂ挿入し、ガイド支持部４０Ｃの開放長溝Ｔ１と摺動支持部５１Ｃの開放長溝Ｔ２に対して、左方を向く側方開口部から第１光軸Ｏ１に近づく方向にガイドシャフト４１Ｃを挿入する。挿入された各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃは、接着や圧入などによって対応する開放長溝Ｔ１内に固定され、カバー部材３２の外囲壁５７により開放長溝Ｔ１から外れないように保持される。

図４、図６及び図７示すように、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの開放長溝Ｔ２内には、第１光軸Ｏ１に沿う方向に対向する一対の突出部５２が突出形成されており、この一対の突出部５２によって対応するガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを挟んでいる。一対の突出部５２は、互いに接近するように突出して第１光軸Ｏ１に沿う方向での開放長溝Ｔ２の溝幅を部分的に狭くさせており、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを隙間なく（摺動を許す最低限のクリアランスのみ確保された状態で）挟んでいる。これにより、ベース部材３１に対して第１レンズ枠３０は第１光軸Ｏ１に沿う方向への相対移動が規制される。図４に示すように、各突出部５２は台形状の断面形状をなし、各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃに対する各突出部５２の当接部分は、第１光軸Ｏ１と略直交する平面（台形の上底側の面）として形成されている。そのため、各突出部５２は各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃに対して第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿う方向に摺動可能となっている。

図５に示すように、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの両側には、隣接するガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃとの間にクリアランスＤ１が設けられており、このクリアランスＤ１によって、各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃの軸線方向への各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの移動が許されている。また、図６及び図７に示すように、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの開放長溝Ｔ２内には、挿入されたガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃとの間にクリアランスＤ２が設けられており、このクリアランスＤ２によって、各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃの軸線と直交する開放長溝Ｔ２の奥行き方向への各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの移動が許されている。つまり、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃは、ベース部材３１上に固定的に支持されるガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを介して、第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿って移動可能に支持されている。

第１レンズ枠３０のフランジ５５には、ベース部材３１の移動制限突起４３を挿入させる移動制限孔５３が前後方向に向けて貫通形成されている。図５や図１０に示すように、移動制限孔５３は、第１光軸Ｏ１と直交する平面内において概ね矩形の内面形状を有している。第１レンズ枠３０は、移動制限孔５３の内面に移動制限突起４３を当接させるまでの範囲でベース部材３１に対して移動することができる。各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃに設定された上記のクリアランスＤ１、Ｄ２は、移動制限孔５３と移動制限突起４３により許される第１レンズ枠３０の可動範囲よりも大きく設定されており、ベース部材３１に対する第１レンズ枠３０の可動範囲は、移動制限突起４３と移動制限孔５３によって決められる。

第１レンズ枠３０にはさらに、ベース部材３１の揺動軸突起４４を嵌合させる軸支溝５４が形成されている。軸支溝５４は第１光軸Ｏ１を中心とする径方向へ延びる長溝であり、第１レンズ枠３０の外縁側に向けて開放されている。図５に示すように、軸支溝５４は揺動軸突起４４に対して長手方向に相対移動可能なクリアランスをもって係合し、該長手方向と直交する方向には揺動軸突起４４に対する相対移動が規制される。前述のように、各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃに対する各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの摺動関係によって、第１レンズ枠３０はベース部材３１に対して第１光軸Ｏ１と直交する平面内で可動に支持されているが、揺動軸突起４４と軸支溝５４の係合関係によって、該平面内での第１レンズ枠３０の移動方向が定められる。具体的には、第１レンズ枠３０はベース部材３１に対して、揺動軸突起４４を中心とする回動（揺動）方向の移動と軸支溝５４の長手方向の移動が可能に支持される。

移動制限突起４３と揺動軸突起４４はそれぞれ、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを組み付ける前の第１レンズ枠３０をベース部材３１上に載置させる段階で、対応する移動制限孔５３と軸支溝５４に挿入される。

図４に示すように、カバー部材３２は、第１光軸Ｏ１と直交する板状の前方壁５６と、５６から後方に突出する外囲壁５７を有しており、前方壁５６によって第１レンズ枠３０を前方から覆う形でベース部材３１に対して固定される。外囲壁５７は、この固定状態でベース部材３１の３つのガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃを外側から囲むコ字状の壁部であり、各ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃの開放長溝Ｔ１の側方開口部と、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの開放長溝Ｔ２の側方開口部が外囲壁５７によって塞がれる（図３参照）。前方壁５６には第１レンズＬ１を露出させる撮影開口５８が形成されている。

第１レンズ枠３０は電磁アクチュエータによって駆動される。電磁アクチュエータは、第１レンズ枠３０に支持される２つの永久磁石６０、６１と、カバー部材３２に支持される２つのコイル６２、６３を有するボイスコイルモータである。永久磁石６０と永久磁石６１は、第１レンズ枠３０のフランジ５５上に形成した保持孔内に嵌合保持されている（図８、図９）。永久磁石６０と永久磁石６１の形状及び大きさは略同一であり、それぞれ細長矩形の薄板状をなし、前述の基準平面Ｐ１に関して対称の関係で配置される。より詳しくは、永久磁石６０と永久磁石６１はそれぞれ、短手方向の略中央を通り長手方向に向く磁力境界線Ｑ１、Ｑ２（図５、図１０）で分割される半割領域の一方がＮ極で他方がＳ極となっており、左方から右方に向かうにつれて磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２が徐々に離間するように、永久磁石６０と永久磁石６１が「ハ」の字状に配置されている。基準平面Ｐ１に対する永久磁石６０の磁力境界線Ｑ１と永久磁石６１の磁力境界線Ｑ２の傾斜角は、正逆で約４５度に設定されている。つまり、永久磁石６０と永久磁石６１は互いの長手方向（磁力境界線Ｑ１、Ｑ２）を略直交させる関係にある。

図４に示すように、カバー部材３２の前方壁５６のうち撮影開口５８と重ならない領域に回路基板５９が取り付けられる。図８及び図９に示すように、電磁アクチュエータを構成するコイル６２、６３は前方壁５６の後面側に固定されており、該コイル６２、６３と回路基板５９が電気的に接続されている。図５や図１０に示すように、コイル６２、６３は、略平行な一対の長辺部と該長辺部を接続する一対の湾曲部を有する空芯コイルであり、その形状及び大きさは略同一で、基準平面Ｐ１に関して対称の関係で配置される。より詳しくは、第１レンズＬ１が防振機構による駆動範囲の中央に位置する状態（振れ補正動作を行なっていない光学設計上の初期位置にある状態）で、図５や図１０のように正面（前方）から見て、コイル６２において長辺部と平行で中央の空芯部を通る長軸が永久磁石６０の磁力境界線Ｑ１と略一致しており、コイル６３において長辺部と平行で中央の空芯部を通る長軸が永久磁石６１の磁力境界線Ｑ２と略一致している。すなわちコイル６２、６３は、永久磁石６０、６１と同様に、左方から右方に向かうにつれて徐々に互いの長軸の間隔が離間するように「ハ」の字状に配置されている。基準平面Ｐ１に対するコイル６２の長軸とコイル６３の長軸の傾斜角は、正逆で約４５度に設定されている。つまり、コイル６２とコイル６３は互いの長軸を略直交させる関係にある。

コイル６２とコイル６３に対して回路基板５９を介して通電制御が行われる。コイル６２に通電すると、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で永久磁石６０の磁力境界線Ｑ１（コイル６２の長軸）と略直交する方向への推力が作用する。この推力の作用方向を図５、図８及び図１０に矢印Ｆ１で示した。コイル６３に通電すると、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で永久磁石６１の磁力境界線Ｑ２（コイル６３の長軸）と略直交する方向への推力が作用する。この推力の作用方向を図５、図９及び図１０に矢印Ｆ２で示した。コイル６２への通電による推力の作用方向Ｆ１は軸支溝５４の長手方向に概ね平行であり、コイル６２に通電したときに、第１レンズ枠３０はベース部材３１に対して軸支溝５４の長手方向に沿って直線的に移動することができる。一方、コイル６３への通電による推力の作用方向Ｆ２は軸支溝５４の長手方向に概ね直交しており、当該方向には揺動軸突起４４に対する軸支溝５４の相対移動が制限されているため、コイル６３に通電したときに、第１レンズ枠３０はベース部材３１に対して揺動軸突起４４を中心とする回動（揺動）を行う。この各コイル６２、６３への通電制御の組み合わせによって、ベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で任意の位置に移動させることができる。前述の通り、ベース部材３１に対する第１レンズ枠３０の移動範囲は、移動制限突起４３が移動制限孔５３の内面に当接することによって規制される。

図５と図１０に示すＵ１は、第１光軸Ｏ１と直交する平面内における永久磁石６０とコイル６２の中心（外形形状に関する中心）であり、同様にＵ２は永久磁石６１とコイル６３の中心（外形形状に関する中心）である。永久磁石６０、６１における中心Ｕ１、Ｕ２は、磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う長手方向の中心であり、かつ磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に直交する短手方向の中心である。コイル６２、６３における中心Ｕ１、Ｕ２は、長軸に沿う長手方向の中心であり、かつ長軸に直交する短手方向の中心である。図５と図１０は、第１レンズ枠３０が移動制限突起４３と移動制限孔５３によって許される移動範囲の中央に位置する状態であり、このとき永久磁石６０とコイル６２の中心Ｕ１の位置が一致し、永久磁石６１とコイル６３の中心Ｕ２の位置が一致する。コイル６２、６３への通電によって第１レンズ枠３０が移動すると、コイル６２、６３の中心に対する永久磁石６０、６１の中心位置が変化する。

図８及び図９に示すように、カバー部材３２の前方壁５６の後面側にはさらに磁気センサ６５、６６が支持されている。磁気センサ６５と磁気センサ６６はホールセンサからなり、回路基板５９に対して電気的に接続されている。図５や図１０のように正面（前方）から見て、磁気センサ６５は、推力作用方向Ｆ１におけるコイル６２の両側領域のうち第１レンズＬ１と反対側の領域（第１光軸Ｏ１から遠い領域）に、コイル６２の長辺部に隣接して設けられており、推力の作用方向Ｆ１に沿って見ると磁気センサ６５の一部とコイル６２の一部がオーバーラップする（図８参照）。また、磁気センサ６６は、推力作用方向Ｆ２におけるコイル６３の両側領域のうち第１レンズＬ１と反対側の領域（第１光軸Ｏ１から遠い領域）に、コイル６３の長辺部に隣接して設けられており、推力の作用方向Ｆ２に沿って見ると磁気センサ６６の一部とコイル６３の一部がオーバーラップする（図９参照）。この磁気センサ６５とコイル６２のオーバーラップ範囲と、磁気センサ６６とコイル６３のオーバーラップ範囲を図８と図９にＫ１で示した。

カバー部材３２をベース部材３１に対して組み付けると、磁気センサ６５は永久磁石６０の近傍に位置し、磁気センサ６６は永久磁石６１の近傍に位置する。図８と図９に示すように、第１光軸Ｏ１に沿う撮像ユニット１０の前後方向において、磁気センサ６５は永久磁石６０の前方に位置し、磁気センサ６６は永久磁石６１の前方に位置する。図８に示すように、推力の作用方向Ｆ１では、コイル６２の短手方向幅よりも永久磁石６０の短手方向幅の方が大きく永久磁石６０がコイル６２の両側に突出しており、永久磁石６０において第１光軸Ｏ１（第１レンズＬ１）から遠い側の突出部分と磁気センサ６５の一部が正面（前方）から見てオーバーラップする。図９に示すように、推力の作用方向Ｆ２では、コイル６３の短手方向幅よりも永久磁石６１の短手方向幅の方が大きく永久磁石６１がコイル６３の両側に突出しており、永久磁石６１における第１光軸Ｏ１（第１レンズＬ１）から遠い側の突出部分と磁気センサ６６の一部が正面（前方）から見てオーバーラップする。この磁気センサ６５と永久磁石６０のオーバーラップ範囲と、磁気センサ６６と永久磁石６１のオーバーラップ範囲を図８と図９にＫ２で示した。

図５や図１０に示すように、磁気センサ６５と磁気センサ６６の正面投影形状は細長の矩形であり、同図中のＵ３、Ｕ４は第１光軸Ｏ１と直交する平面内における磁気センサ６５、６６の中心位置を示している。磁気センサ６５の長手方向は永久磁石６０の磁力境界線Ｑ１と略平行で、磁気センサ６６の長手方向は永久磁石６１の磁力境界線Ｑ２と略平行である。図５に示すように、磁気センサ６５の中心Ｕ３を通り、永久磁石６０とコイル６２による推力の作用方向Ｆ１に向く直線と、磁気センサ６６の中心Ｕ４を通り、永久磁石６１とコイル６３による推力の作用方向Ｆ２に向く直線は、基準平面Ｐ１上で交差する。この配置によって、電磁アクチュエータによる第１レンズ枠３０の移動に応じて永久磁石６０の位置が変化すると磁気センサ６５の出力が変化し、永久磁石６１の位置が変化すると磁気センサ６６の出力が変化し、この２つの磁気センサ６５、６６の出力変化によって、第１レンズ枠３０の駆動位置を検出することができる。撮像ユニット１０の起動時などに、移動制限突起４３と移動制限孔５３によって制限される移動端まで第１レンズ枠３０を駆動させることにより、各磁気センサ６５、６６の校正が行われる。

以上の構成の１群ブロック１２を本体モジュール１１に組み付けて完成された撮像ユニット１０を前方に位置する被写体に向けると、該被写体の反射光（撮影光）は第１レンズＬ１を透過した後に入射面Ｌ１１−ａから第１プリズムＬ１１の内部に入り、第１プリズムＬ１１の反射面Ｌ１１−ｃによって出射面Ｌ１１−ｂ側に進行方向を９０°変換されながら反射される。第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂを出た該反射光は、第２レンズＬ２と第２群Ｇ２と第３群Ｇ３と第４群Ｇ４を透過した後に入射面Ｌ１２−ａから第２プリズムＬ１２の内部に入り、第２プリズムＬ１２の反射面Ｌ１２−ｃによって出射面Ｌ１２−ｂ側に進行方向を９０°変換されながら反射され、撮像センサＩＳの撮像面によって撮像（受光）される。第１モータＭ１と第２モータＭ２を利用して第２群Ｇ２や第３群Ｇ３をロッド２２、２３に沿って進退させることにより上記撮像光学系をズーミング動作及びフォーカシング動作させれば、被写体像を変倍及び合焦させた状態で撮像可能となる。

さらに撮像ユニット１０では、第１群Ｇ１のうち第１プリズムＬ１１の前方に位置する第１レンズＬ１を用いて防振（像振れ補正）動作を行う。前述の通り、防振機構はハウジング１３に対して固定関係にあるベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を第１光軸Ｏ１と直交する平面内で可動に支持し、電磁アクチュエータによって第１レンズ枠３０を駆動させるものである。

防振時の第１レンズＬ１の移動方向は第１光軸Ｏ１と直交する方向である。すなわち第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠３０は、撮像ユニット１０の厚み方向である前後方向には移動しない。また、ベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を移動させるための支持機構（ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃ、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃ、切欠き４２Ａ、４２Ｂ及び４２Ｃ、移動制限突起４３、揺動軸突起４４、摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃ、移動制限孔５３、軸支溝５４など）や駆動手段（永久磁石６０、６１、コイル６２、６３など）は、第１光軸Ｏ１を中心として第１レンズＬ１や第１プリズムＬ１１を囲む位置に配されており、撮像ユニット１０の前後方向に占める配置スペースが小さくて済む構成になっている。そのため第１レンズＬ１を防振用の光学要素として選択することで、防振機構を備えつつ撮像ユニット１０を前後方向に薄型に構成することができる。例えば本実施形態と異なり、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２と直交する方向に移動させる防振機構を想定した場合、２群枠２０や３群枠２１の移動用のスペースを確保したり、２群枠２０や３群枠２１の駆動手段を配置したりすることによって、ハウジング１３内に必要とされる前後方向のスペースが図示実施形態よりも広くなり、撮像ユニット１０の厚みが増してしまう。

また、第１レンズ枠３０が支持する第１レンズＬ１は、撮像センサＩＳのような電気部品と異なり回路基板と接続させる必要がないため、基板の取り回しで構造が複雑化したり、基板によって防振時の移動抵抗が作用したりするおそれがない。例えば本実施形態と異なり、撮像センサＩＳを第３光軸Ｏ３と直交する方向に移動させる防振機構を想定した場合、回路基板と撮像センサＩＳを接続するフレキシブル基板には、撮像センサＩＳの移動に対して移動抵抗を与えない十分な長さを持たせる必要があるが、撮像センサＩＳの周囲にはスペースの余裕がなく、フレキシブル基板を長くすると他の部材と干渉してしまうおそれがある。これを避けるために撮像センサＩＳと回路基板の前後方向間隔を空けると、撮像ユニット１０の薄型化が阻害されてしまう。

防振用の光学要素として第１レンズＬ１を選択したことにより、以上のような不具合を回避して、簡略な構成で撮像ユニット１０の薄型化に寄与する防振機構を得ることができる。防振制御に際して駆動されるのが第１群Ｇ１の全体ではなく第１レンズＬ１のみであるから、可動部がコンパクトで駆動負荷が小さくて済むという利点もある。なお一般的な防振機構では、レンズ群を構成する一部のレンズのみを光軸直交方向に移動させると収差が悪化して実用的でなくなるおそれがある。これに関して本実施形態の第１群Ｇ１では、パワーを有する第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間に、光束の反射のみを行う第１プリズムＬ１１が配されているため、第１レンズＬ１と第２レンズＬ２の間の距離が大きくなっており、第１レンズＬ１を単独で移動させて防振制御を行なっても収差劣化が少ない。つまり、撮像光学系としては第１レンズＬ１から第２レンズＬ２までの第１群Ｇ１全体で収差が管理されるが、防振に関しては、第１プリズムＬ１１を挟んで光軸方向間隔が大きくなっている第１レンズＬ１と第２レンズＬ２を実質的に別のレンズ群であるように扱っても光学性能を確保できることに着眼して、第１レンズＬ１のみを防振用の光学要素に設定している。

ズーミングや沈胴に際して光軸方向の長さ（最も物体側のレンズの像面からの距離）が変化するテレスコピック型のレンズ鏡筒と異なり、撮像ユニット１０では第１レンズＬ１の入射面から像面（撮像センサＩＳの撮像面）までの光路長が常に一定である。そのため、撮像ユニット１０を携帯電子機器内に組み込んで第１レンズＬ１の前方を保護用のガラスなどで覆うことが可能であり、最前方の第１レンズＬ１に防振用の移動を行わせても実用上の問題は生じない。

先に述べたように、第１群Ｇ１のうち第１プリズムＬ１１の前方に位置する第１レンズＬ１を単独で防振駆動させる構造は、群の一部を駆動させる形態としては収差などへの影響が生じにくいが、群全体を防振駆動させる形態の防振機構に比して第１レンズＬ１に関する動作精度の要求が高いため、第１レンズＬ１を保持する第１レンズ枠３０を高精度に支持及び駆動して防振性能と光学性能の安定化を図ることが求められる。また、撮像光学系を構成するレンズの中で最大径の第１レンズＬ１を防振駆動させるにあたり、防振機構をできるだけコンパクトにして、撮像ユニットの小型化に寄与することが求められる。この防振機構の特徴を説明する。

説明の前提として、図５に示すように、基準平面Ｐ１と基準平面Ｐ２で分けられる４つの象限Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３及びＶ４を設定すると、第１プリズムＬ１１によって偏向された第２光軸Ｏ２に沿う光束の進行方向側に第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４が位置し、第２光軸Ｏ２が延びる側と反対側に第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３が位置する。

基準平面Ｐ２を挟んだ左側領域と右側領域のうち、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４が含まれる右側領域には、第２光軸Ｏ２に沿って第２レンズＬ２、第２群Ｇ２、第３群Ｇ３、第４群Ｇ４、第２プリズムＬ１２などの光学要素が配置されている。第２群Ｇ２と第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させるため進退駆動機構を構成する、ロッド２２、２３、第１モータＭ１、第２モータＭ２といった要素も基準平面Ｐ２の右側領域に配されている。

一方、基準平面Ｐ２を挟んで第２光軸Ｏ２の進行方向と反対の左側領域に位置する第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３には、第１レンズＬ１を防振駆動させる電磁アクチュエータ（ボイスコイルモータ）を構成する永久磁石６０、６１とコイル６２、６３や、第１レンズＬ１の駆動位置を検出する磁気センサ６５、６６が配置されている。具体的には、永久磁石６０とコイル６２と磁気センサ６５が第２象限Ｖ２に配置され、永久磁石６１とコイル６３と磁気センサ６６が第３象限Ｖ３に配置されており、第２象限Ｖ２に配置される各要素と第３象限Ｖ３に配置される各要素は、基準平面Ｐ１に関して互いに略対称な配置になっている。前述のように、永久磁石６０と永久磁石６１は、互いの磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２が基準平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係をなす「ハ」の字状に配置されているが、その傾きの方向は、基準平面Ｐ２から離れて左方に進むにつれて基準平面Ｐ１に接近する（磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２の間隔を小さくする）ように設定されている。コイル６２とコイル６３も同様に、互いの長軸が基準平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係をなす「ハ」の字状の配置であり、基準平面Ｐ２から離れて左方に進むにつれて基準平面Ｐ１に接近する（互いの長軸の間隔を小さくする）傾き方向に設定されている。別言すれば、各永久磁石６０、６１の磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿って延びる２つの直線の交点と、各コイル６２、６３の長軸に沿って延びる２つの直線の交点はそれぞれ、第２光軸Ｏ２が延びる側とは反対の基準平面Ｐ２の左側領域に位置する。

第１レンズＬ１の防振機構を構成する永久磁石６０、６１やコイル６２、６３をこのように配置したことにより、以下の効果が得られる。まず、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３は、第１プリズムＬ１１により偏向された光束の進行方向と逆側の領域であり、撮像光学系を構成する光学要素のうち第１プリズムＬ１１から先の光学要素が配置されていないため、電磁アクチュエータの配置に関してスペース的な制約を受けにくい。例えば、永久磁石６０、６１やコイル６２、６３を、図示実施形態における位置に対して基準平面Ｐ２を挟んで対称となるように第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４内に配置しても、第１レンズＬ１を駆動させることは可能である。しかし、第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４には、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂに隣接する位置に第２レンズＬ２が位置しており、第２レンズＬ２と干渉させずに電磁アクチュエータの全体を配置するスペースを確保することが難しいという問題がある。これに対して、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３への配置にはこのような制約がない。

一般的に、永久磁石とコイルを有するボイスコイルモータによって駆動対象を所定の平面に沿って駆動させるには、推力の作用方向が互いに異なる２組の永久磁石とコイルが用いられる。本実施形態では、互いの長手方向（磁力境界線Ｑ１に沿う方向）が平行な永久磁石６０とコイル６２のセットと、互いの長手方向（磁力境界線Ｑ２に沿う方向）が平行な永久磁石６１とコイル６３のセットを備え、前者のセットによる推力の作用方向Ｆ１と後者のセットによる推力の作用方向Ｆ２が互いに直交している。これによって第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿って任意の位置に移動させることが可能になっている。そして、永久磁石６０とコイル６２のセットと、永久磁石６１とコイル６３のセットが、第２光軸Ｏ２が延びる右方に進むにつれて互いの磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や長軸の間隔を大きくさせ、これと反対の左方に進むにつれて互いの磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や長軸の間隔を小さくさせる傾き方向に設定されている。この配置によると、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３内で、第１レンズ枠３０の円筒状をなすレンズ保持部５０の周辺領域にスペース効率良く永久磁石６０、６１とコイル６２、６３を収めることができる。

第１レンズＬ１を駆動させるという目的に限れば、基準平面Ｐ１に対する永久磁石６０、６１やコイル６２、６３の傾き方向を、以上の構成とは異ならせることも可能である。例えば、永久磁石６０の磁力境界線Ｑ１とコイル６２の長軸が基準平面Ｐ１と基準平面Ｐ２のいずれか一方と平行で、永久磁石６１の磁力境界線Ｑ２とコイル６３の長軸が基準平面Ｐ１と基準平面Ｐ２の他方と平行となる配置であっても、第１レンズＬ１を第１光軸Ｏ１と直交する面内で駆動させることは可能である。しかしこの配置では、永久磁石６０とコイル６２のセットと、永久磁石６１とコイル６３のセットの少なくとも一方が、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４内に大きく進入するため、スペース的な制約の少ない第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３を用いるという上記の利点が損なわれる。また、図５における移動制限突起４３と移動制限孔５３の左方に、永久磁石６０とコイル６２のセットと、永久磁石６１とコイル６３のセットのいずれかが配置されることになるため、基準平面Ｐ１に沿う方向の寸法が増大するというデメリットもある。

これに対して、図５のように正面視した状態での永久磁石６０、６１やコイル６２、６３の傾き方向を図示実施形態のように設定することで、第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に防振機構をスペース効率良く収めることができ、撮像ユニット１０の小型化を図ることができる。なお、図示実施形態では各永久磁石６０、６１の磁力境界線Ｑ１、Ｑ２や、各コイル６２、６３の長軸が、基準平面Ｐ１に対して正逆で約４５度の関係で対称的に設定されているが、以上に述べた省スペース化の効果は、基準平面Ｐ１に対する磁力境界線Ｑ１、Ｑ２やコイルの長軸の角度を若干変化させても得られる。具体的には、磁力境界線Ｑ１、Ｑ２の直交関係を維持しつつ、基準平面Ｐ１に対する磁力境界線Ｑ１と磁力境界線Ｑ２の傾き角を正逆に３５度から５５度の範囲内で定めると、防振機構の省スペースな配置を実現できる。

また、第１プリズムＬ１１から先の光路上には、第２光軸Ｏ２に沿って可動の第２群Ｇ２や第３群Ｇ３が設けられており、第２群Ｇ２や第３群Ｇ３の駆動機構を構成する第１モータＭ１と第２モータＭ２には金属部分が含まれ、ロッド２２、２３も金属製の部品である。このような金属部品が磁性体金属からなる場合、電磁アクチュエータに接近していると防振駆動に影響を及ぼすおそれがある。特に、可動の第１レンズ枠３０上に永久磁石６０、６１を支持したムービングマグネットタイプの電磁アクチュエータでは、高精度な駆動制御を行わせるために、永久磁石６０、６１の磁界に対する外部の磁性体からの影響を排除することが求められる。第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置した永久磁石６０、６１やコイル６２、６３は、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４に配置した場合に比べて各モータＭ１、Ｍ２や各ロッド２２、２３からの距離が大きいため、これらの部材が磁性体金属を含んでいる場合も電磁アクチュエータの駆動に影響が及びにくい。

以上のように、第１レンズＬ１を駆動する防振機構の配置において、第１プリズムＬ１１により偏向された第２光軸Ｏ２と反対側の領域（第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３）に永久磁石６０、６１やコイル６２、６３を設け、さらに第２光軸Ｏ２の進行方向と反対方向に進むにつれて長手方向線の間隔を互いに小さくする傾き関係で永久磁石６０、６１とコイル６２、６３を配置したことで、スペース効率と駆動性能に優れた防振機構が得られる。

なお、以上の実施形態では永久磁石６０、６１とコイル６２、６３の全体が第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３に配置されているが、永久磁石６０、６１やコイル６２、６３の一部が基準平面Ｐ２を超えて第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４側に突出する構成としてもよい。この場合、防振機構のスペース効率と駆動性能に関する上記効果を得るための条件として、少なくとも、永久磁石６０、６１やコイル６２の中心Ｕ１と永久磁石６１やコイル６３の中心Ｕ２を基準平面Ｐ２の左方、すなわち第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３内に配置することが望ましい。

また、撮像ユニット１０では前後方向（奥行き方向）における防振機構の薄型化も実現されている。防振機構の駆動源を構成する永久磁石６０、６１は、第１レンズ枠３０のフランジ５５上に固定されている。フランジ５５は、第１レンズＬ１を保持する円筒状のレンズ保持部５０から側方に突出しており、第１光軸Ｏ１に沿う方向において、レンズ保持部５０による第１レンズＬ１の支持位置よりもフランジ５５の方が後方（奥側）にずれて位置している（図７参照）。その結果、フランジ５５上に支持される永久磁石６０、６１の前後方向位置は、第１レンズＬ１よりも後方の第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａに近い位置に設定されている。

永久磁石６０、６１と共に防振機構の駆動源を構成するコイル６２、６３と、第１レンズＬ１の位置を検出する磁気センサ６５、６６は、カバー部材３２をベース部材３１に取り付けた状態で、第１レンズＬ１の一部と重なる前後方向位置に保持されている（図２参照）。

以上のように、第１レンズＬ１及び第１プリズムＬ１１の側方スペースに、前後方向に積層する態様で永久磁石６０、６１とコイル６２、６３を配置したため、電磁アクチュエータを前後方向にスペース効率よく収めることができ、撮像ユニット１０の薄型化に寄与している。

また、図５、図８、図９及び図１０に示すようにコイル６２、６３の外側に磁気センサ６５、６６を配置した構成もスペース効率の点で優れている。永久磁石６０、６１とコイル６２、６３は基準平面Ｐ２から離れるにつれて基準平面Ｐ１に接近する傾きを持たせた配置であり、概ね矩形の正面投影形状を有する１群ブロック１２の角部分（図５や図１１におけるベース部材３１のベース板部３５の左上と左下のコーナー部分）と電磁アクチュエータの配置領域との間に三角状のスペースが得られる。磁気センサ６５、６６は当該スペースを利用して配置されている。特に、電磁アクチュエータの推力の作用方向Ｆ１、Ｆ２においてコイル６２、６３よりも永久磁石６０、６１が幅広であり、磁気センサ６５、６６は幅狭のコイル６２、６３の長辺部の外側に隣接して配置されているため、永久磁石６０、６１を基準とした場合に、第１光軸Ｏ１から離れる方向への磁気センサ６５、６６の突出量はごく小さく抑えられている。従って、磁気センサ６５、６６の設置による撮像ユニット１０の正面投影形状の大型化を防ぐことができる。

なお、図５や図１０に示すように、磁気センサ６５、６６の中心Ｕ３、Ｕ４は永久磁石６０、６１の中心Ｕ１、Ｕ２から外れて位置しているが、図８及び図９にオーバーラップ範囲Ｋ２として示すように、永久磁石６０、６１の正面投影形状の範囲内に磁気センサ６５、６６の一部が含まれる程度に近接した関係が保たれているため、磁気センサ６５、６６によって十分な検出精度を得ることができる。

本実施形態と異なり第１光軸Ｏ１に沿う方向で永久磁石６０、６１の後方に磁気センサ６５、６６を位置させても第１レンズ枠３０の位置検出が可能であるが、この場合は永久磁石６０、６１の後方にセンサ配置用のスペースが必要となる。これに比して本実施形態の磁気センサ６５、６６の配置によると、永久磁石６０、６１の後方にセンサ配置用のスペースが不要であり、電磁アクチュエータ周りにおける前後方向の厚みを小さくさせる効果も得られる。特に、図８及び図９にオーバーラップ範囲Ｋ１として示すように、第１光軸Ｏ１に沿う方向で磁気センサ６５、６６とコイル６２、６３の互いの一部が重なる関係にあるため、より一層の薄型化が実現される。

以上で１群ブロック１２における電磁アクチュエータの配置における特徴を説明したが、続いてベース部材３１に対する第１レンズ枠３０の支持構造の特徴を述べる。

まず、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを、第１光軸Ｏ１に沿う方向に対向する壁部を有するコ字状断面の摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃで保持（挟持）することで、第１光軸Ｏ１と直交する平面に沿って第１レンズ枠３０を可動に支持すると共に、第１光軸Ｏ１に沿う方向への第１レンズ枠３０の脱落を防いでいる。そのため、第１レンズ枠３０をベース部材３１上に保持させるためのバネなどの付勢部材が不要で、構造の簡略化が実現されている。各ガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃの開放長溝Ｔ１と各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂ及び５１Ｃの開放長溝Ｔ２に対して側方から各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを挿入させることで第１レンズ枠３０の支持状態が完成するため、組立作業性にも優れている。

前述のように、第１プリズムＬ１１により偏向された第２光軸Ｏ２の側（第１象限Ｖ１と第４象限Ｖ４）には第１プリズムＬ１１から先の光学要素が設けられるため、スペース的な制約がある。例えば、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂ（入射面Ｌ１１−ａの出射側長辺）に沿う位置に第１レンズ枠３０の支持手段を配置しようとすると、第２レンズＬ２やレンズ保持部３９と干渉してしまうおそれがある。これに関して本実施形態の１群ブロック１２では、ベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を可動に支持させるガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃやガイド支持部４０Ａ、４０Ｂ及び４０Ｃは、図５、図１０及び図１１のように第１光軸Ｏ１に沿って正面（前方）から見たとき、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａのうち出射側長辺を除く３辺に沿うコ字状の領域に配置されており、第２レンズＬ２やレンズ保持部３９と干渉することがない。

このうち２つのガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂとガイド支持部４０Ａ、４０Ｂは、図５のように正面から見て、基準平面Ｐ１の両側に、第１プリズムＬ１１の側面Ｌ１１−ｄ（入射面Ｌ１１−ａの短辺）に沿う位置関係で配置されている。図１０や図１１に示すように、それぞれのガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂの軸線は基準平面Ｐ１（第２光軸Ｏ２）と略平行であり、かつ各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂの軸線方向の長さが概ね第１プリズムＬ１１の設置範囲内に収まっている。よって、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂを設けたことによる撮像ユニット１０の左右方向（長手方向）への１群ブロック１２のサイズ増大が生じない。また図５や図１０に示すように、撮像ユニット１０の上下方向（幅方向）には、第１レンズ枠３０のレンズ保持部５０の両側（基準平面Ｐ１から離れる方向）へのガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂや摺動支持部５１Ａ、５１Ｂの突出量が、電磁アクチュエータを構成する永久磁石６０、６１やコイル６２、６３の突出量と同程度に抑えられているため、撮像ユニット１０の上下方向（幅方向）におけるコンパクト化も実現されている。特に、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で基準平面Ｐ１と略平行に軸線が向くようにガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂを配したことにより、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で基準平面Ｐ１と交差する方向に軸線を向けて配置した場合に比して、撮像ユニット１０の上下方向（幅方向）へのガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂの突出量を小さく抑えることができる。

また、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺方向に離間させて基準平面Ｐ１から略等距離にガイドシャフト４１Ａとガイドシャフト４１Ｂによる支持部分を配したことで、第１レンズ枠３０を上下方向にバランス良く支持することができる。加えて、各摺動支持部５１Ａ、５１Ｂの突出部５２が各ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂを挟んで保持する箇所が基準平面Ｐ２上に位置していることで、左右方向での支持バランスにも優れる。

ベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を安定して支持するには、３箇所以上で支持することが望ましい。そのため、基準平面Ｐ１の両側に配したガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂと摺動支持部５１Ａ、５１Ｂによる２箇所の支持部に加えて、第３の支持部としてガイドシャフト４１Ｃと摺動支持部５１Ｃを備えている。図５や図１０に示すように、ガイドシャフト４１Ｃと摺動支持部５１Ｃは、１群ブロック１２の左端部付近に、上下方向において永久磁石６０、６１とコイル６２、６３の間のスペースに概ね収まるように配置されている。よって、ガイドシャフト４１Ｃを設けたことによる撮像ユニット１０の上下方向（幅方向）への１群ブロック１２のサイズ増大が生じない。また、ガイドシャフト４１Ｃは、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で基準平面Ｐ２（第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの長辺）と略平行に軸線を向けて配されているため、第１光軸Ｏ１と直交する平面内で基準平面Ｐ２と交差する方向に軸線を向けて配置した場合に比して、撮像ユニット１０の左方へのガイドシャフト４１Ｃの突出量が最小限に抑えられる。

このように、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａのうち出射側長辺を除く３辺に沿う領域に配置したガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃによって第１レンズ枠３０を可動に支持する構造は、撮像ユニット１０の小型化に寄与する。

なお、本実施形態と異なる形態として、ガイドシャフト４１Ｃを設ける代わりにガイドシャフト４１Ａやガイドシャフト４１Ｂを軸線方向に延長して、この延長部分に第１レンズ枠３０の一部を嵌合させることによっても第３の支持部を得ることも可能である。しかし図５や図１０から分かるように、第１レンズＬ１の周囲のうち第２象限Ｖ２と第３象限Ｖ３の側には、電磁アクチュエータを構成する永久磁石６０、６１とコイル６２、６３や磁気センサ６５、６６が配置されており、ガイドシャフト４１Ａやガイドシャフト４１Ｂを第２象限Ｖ２や第３象限Ｖ３内で延長すると電磁アクチュエータと干渉してしまう。また、第１象限Ｖ１や第４象限Ｖ４の側には、本体モジュール１１と当接する出射側フランジ３７が設けられており、ガイドシャフト４１Ａやガイドシャフト４１Ｂを延長可能なスペースがほとんど存在しない。従って、第３の支持部として、基準平面Ｐ２に関して第２光軸Ｏ２が延びる側と反対のスペース（第２象限と第３象限）に、基準平面Ｐ２と平行な方向に軸線が向くガイドシャフト４１Ｃを設けた構成は、電磁アクチュエータを含めた全体的な配置スペース効率の向上という観点で優れている。別言すると、図５のように１群ブロック１２を正面視したとき、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを外形に含むコ字状の領域内に、電磁アクチュエータを構成する永久磁石６０、６１とコイル６２、６３、磁気センサ６５、６６、第１レンズＬ１などが配置されていることで、最適なスペース効率が実現されている。

移動制限突起４３と移動制限孔５３、揺動軸突起４４と軸支溝５４も第１レンズ枠３０の支持構造を構成する。図５、図１０及び図１１に示すように、移動制限突起４３と移動制限孔５３は、レンズ保持部５０、電磁アクチュエータ（永久磁石６０、６１とコイル６２、６３）、摺動支持部５１Ｃに囲まれた位置にスペース効率良く配置されている。

揺動軸突起４４と軸支溝５４は第４象限内に設けられており、第２象限や第３象限に設けた電磁アクチュエータなどの要素と干渉しない。また、揺動軸突起４４と軸支溝５４は第１レンズＬ１の円形外形部分とＤカット部分の境界付近の外側に配されており、第２レンズＬ２と干渉することなく第４象限内にスペース効率良く収められている。

以上、図示実施形態を利用して本発明を説明したが、本発明は様々な変形を施しながら実施可能である。例えば、図示実施形態の磁気センサ６５、６６はホール素子を用いたホールセンサであるが、ＭＲ素子（磁気抵抗効果素子）を用いたＭＲセンサなどを用いることも可能である。

図示実施形態の撮像ユニット１０は、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃを介してベース部材３１に対して第１レンズ枠３０を可動に支持させた構成である。前述のように、この支持構造は１群ブロック１２の小型化に寄与するが、本発明における電磁アクチュエータと磁気センサの配置構造は、ガイドシャフト４１Ａ、４１Ｂ及び４１Ｃに代えて球状のガイド部材を第１レンズ枠３０とベース部材３１の間に挿入した構成や、それ以外の手段によって第１レンズ枠３０を支持させた構成にも有効である。

また、撮像光学系に第２プリズムＬ１２を含まず光路をＬ字状としたタイプの撮像装置にも適用が可能である。あるいは、第１プリズムＬ１１と第２プリズムＬ１２に加えてさらに別の反射素子を有する屈曲光学系の撮像装置も適用対象となる。また図示実施形態の撮像光学系は、光路を屈曲させる反射素子としてプリズムを用いているが、プリズムに代えてミラーなどを反射素子として用いてもよい。反射素子による光軸の屈曲角度（反射角）は９０°以外の値であってもよい。

また、図示実施形態では、揺動軸突起４４と軸支溝５４を用いてベース部材３１に対する第１レンズ枠３０の動作方向を定めているが、揺動軸突起４４と軸支溝５４に代えて別のアクチュエータを設けて動作方向を定めることもできる。

また、図示実施形態の電磁アクチュエータは、可動の第１レンズ枠３０に永久磁石６０、６１を支持し、非可動のカバー部材３２にコイル６２、６３を支持したムービングマグネットタイプである。このタイプはコイルや磁気センサに対する配線のしやすさという点で優れているが、可動の第１レンズ枠３０にコイル６２、６３を支持し、非可動のベース部材３１やカバー部材３２に永久磁石６０、７２を支持したムービングコイルタイプの電磁アクチュエータを備えた防振機構にも本発明は適用可能である。この場合、磁気センサ６５、６６も第１レンズ枠３０側に設けるとよい。

また、図示実施形態の防振機構では、永久磁石６０、６１が磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う方向に長い矩形の正面形状を有し、コイル６２、６３も磁力境界線Ｑ１、Ｑ２に沿う方向に長い正面形状を有しているが、これらとは異なる形状の永久磁石やコイルを備えた防振機構に本発明を適用することも可能である。具体的には、正方形の永久磁石を用いるなどの変更が可能である。

また、図示実施形態では、第１レンズ枠３０が可動範囲の中央に位置するときに、第１光軸Ｏ１と直交する面内で、永久磁石６０とコイル６２の互いの中心Ｕ１の位置が略一致し、永久磁石６１とコイル６３の互いの中心Ｕ２の位置が略一致しているが、初期状態で永久磁石の中心とコイルの中心の位置が互いに異なっている防振機構を備えた撮像装置にも本発明は適用可能である。

また、図示実施形態では第２光軸Ｏ２上に第２群Ｇ２、第３群Ｇ３及び第４群Ｇ４が設けられているが、第２光軸Ｏ２上のレンズ群が２つ以下、または４つ以上タイプの撮像光学系にも本発明は適用が可能である。

さらに第１群Ｇ１において、第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａの前方の第１光軸Ｏ１上に配されるレンズや、第１プリズムＬ１１の出射面Ｌ１１−ｂの右方の第２光軸Ｏ２上に配されるレンズの数を異ならせることが可能である。例えば、図示実施形態の第１レンズＬ１に代えて、第１プリズムＬ１１の前方に２つ以上のレンズを配置してもよい。この場合は、第１プリズムＬ１１の前方の複数レンズの光軸方向間隔が狭くなるので、収差劣化を防ぐべく第１プリズムＬ１１の前方の複数のレンズを全て第１光軸Ｏ１と直交する方向に移動させて防振制御を行うとよい。また図示実施形態では第１プリズムＬ１１の右方に第２レンズＬ２が配されているが、第１群Ｇ１で第１プリズムＬ１１に続く光路上に配置されるレンズの数を、２つ以上とすることも可能である。さらには第１群Ｇ１で第１プリズムＬ１１に続く光路上にレンズを設けない態様にすることも可能である。

図示実施形態の撮像ユニット１０では第１レンズＬ１の入射面から像面までの光路長が常に一定である。このタイプの撮像光学系では一般的に最も物体側の第１レンズＬ１が負レンズとなる。但し本発明の防振制御用のレンズ（前方レンズ）は正レンズであってもよい。正、負を問わず屈折力を有するレンズであれば前方レンズとして適用が可能である。

また図示実施形態の撮像ユニット１０の撮像光学系は、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３を第２光軸Ｏ２に沿って移動させて変倍動作を行うズームレンズであるが、変倍機能を備えない撮像光学系を搭載した撮像装置においても本発明は適用可能である。例えば、第２群Ｇ２と第３群Ｇ３がズーミング用の移動を行わないものとし、第２群Ｇ２または第３群Ｇ３がフォーカシング用の移動のみを行う態様にすることもできる。

また、図示実施形態の第１プリズムＬ１１の入射面Ｌ１１−ａは横長矩形（長方形）であるが、プリズムの入射面が正方形、台形あるいはその他の形状をなすタイプの撮像装置にも本発明は適用可能である。

１０ 撮像ユニット（撮像装置）
１１ 本体モジュール
１２ １群ブロック
１３ ハウジング
２０ ２群枠
２１ ３群枠
３０ 第１レンズ枠（移動枠）
３１ ベース部材
３２ カバー部材
３５ ベース板部
３８ プリズム用凹部
３９ レンズ保持部
４０Ａ ４０Ｂ ４０Ｃ ガイド支持部
４１Ａ ガイドシャフト
４１Ｂ ガイドシャフト
４１Ｃ ガイドシャフト
４２Ａ ４２Ｂ ４２Ｃ 切欠き
４３ 移動制限突起
４４ 揺動軸突起
５０ レンズ保持部
５１Ａ ５１Ｂ ５１Ｃ 摺動支持部
５２ 突出部
５３ 移動制限孔
５４ 軸支溝
５５ フランジ
５６ 前方壁
５７ 外囲壁
５８ 撮影開口
５９ 回路基板
６０ ６１ 永久磁石
６２ ６３ コイル
６５ ６６ 磁気センサ
Ｆ１ 第１レンズ枠への推力の作用方向
Ｆ２ 第１レンズ枠への推力の作用方向
Ｇ１ 第１群（前方レンズ群）
Ｇ２ 第２群（後方レンズ群）
Ｇ３ 第３群（後方レンズ群）
Ｇ４ 第４群（後方レンズ群）
ＩＳ 撮像センサ
Ｋ１ 磁気センサとコイルのオーバーラップ範囲
Ｋ２ 磁気センサと永久磁石のオーバーラップ範囲
Ｌ１ 第１レンズ（前方レンズ）
Ｌ２ 第２レンズ
Ｌ１１ 第１プリズム
Ｌ１１−ａ 入射面
Ｌ１１−ｂ 出射面
Ｌ１１−ｃ 反射面
Ｌ１１−ｄ 側面
Ｌ１２ 第２プリズム
Ｌ１２−ｃ 反射面
Ｍ１ 第１モータ
Ｍ２ 第２モータ
Ｏ１ 第１光軸
Ｏ２ 第２光軸
Ｏ３ 第３光軸
Ｐ１ 基準平面（第１の基準平面）
Ｐ２ 基準平面（第２の基準平面）
Ｔ１ Ｔ２ 開放長溝
Ｕ１ Ｕ２ 永久磁石とコイルの中心
Ｕ３ Ｕ４ 磁気センサの中心

Claims (9)

1. 複数のレンズ群を含む撮像光学系を有する撮像装置において、
   上記撮像光学系を構成し、物体側から順に、少なくとも一つの前方レンズと、上記前方レンズから第１の光軸に沿って出射された光束を上記第１の光軸と非平行な第２の光軸方向へ反射させる反射素子とを有し、光軸方向位置が固定の前方レンズ群；
   上記撮像光学系を構成し、上記前方レンズ群よりも像面側に位置する少なくとも一つの後方レンズ群；
   少なくとも上記前方レンズ群の上記反射素子を固定的に支持するベース部材；
   上記前方レンズ群の上記前方レンズを支持し、上記ベース部材に対して上記第１の光軸と直交する平面に沿って可動に支持された移動枠；及び
   上記撮像光学系に加わる振れに応じて、上記ベース部材を移動させずに上記移動枠を駆動して像面上での像振れを抑制する駆動手段；
   を備え、
   上記駆動手段は、上記ベース部材と上記移動枠のいずれか一方に設けられたコイルに通電することにより、上記ベース部材と上記移動枠の他方に設けた永久磁石の磁力境界線と垂直な方向への推力を発生するボイスコイルモータを有し、上記第１の光軸と直交する平面内において互いの磁力境界線の方向が直交する関係で第１の永久磁石と第２の永久磁石が設けられ、上記第１の光軸と平行な方向で上記第１の永久磁石に対向させて第１のコイルが設けられ、上記第２の永久磁石に対向させて第２のコイルが設けられていること；
   上記第１の光軸と上記第２の光軸を含む第１の基準平面を挟んだ一方の領域に上記第１の永久磁石と上記第１のコイルが位置し、他方の領域に上記第２の永久磁石と上記第２のコイルが位置すること；
   上記第１と第２の永久磁石と上記第１の第２のコイルのそれぞれの中心は、上記第１の光軸を通り上記第１の基準平面に直交する第２の基準平面を挟んだ両側領域のうち、上記第２の光軸が延びる側と反対側の領域に配置されていること；
   上記第１の永久磁石と上記第２の永久磁石の磁力境界線はそれぞれ、上記第２の基準平面から離れるにつれて上記第１の基準平面に接近する傾きを有していること；
   上記第１の永久磁石と上記第１のコイルによる第１の推力作用方向での上記移動枠の位置を検知する第１の磁気センサと、上記第２の永久磁石と上記第２のコイルによる第２の推力作用方向での上記移動枠の位置を検知する第２の磁気センサを備えること；及び
   上記第１の光軸に沿って見たとき、上記第１の磁気センサは、上記第１の推力作用方向における上記第１のコイルの両側領域のうち上記前方レンズと反対側の領域に設けられ、上記第２の磁気センサは、上記第２の推力作用方向における上記第２のコイルの両側領域のうち上記前方レンズと反対側の領域に設けられていることを特徴とする撮像装置。
2. 請求項１記載の撮像装置において、上記第１の推力作用方向で上記第１の永久磁石は上記第１のコイルよりも幅広であり、上記第１の光軸に沿って見たとき上記第１の磁気センサと上記第１の永久磁石の互いの少なくとも一部が重なって位置し、上記第２の推力作用方向で上記第２の永久磁石は上記第２のコイルよりも幅広であり、上記第１の光軸に沿って見たとき上記第２の磁気センサと上記第２の永久磁石の互いの少なくとも一部が重なって位置する撮像装置。
3. 請求項１または２記載の撮像装置において、上記第１の推力作用方向に沿って見たとき上記第１の磁気センサと上記第１のコイルの互いの少なくとも一部が重なって位置し、上記第２の推力作用方向に沿って見たとき上記第２の磁気センサと上記第２のコイルの互いの少なくとも一部が重なって位置する撮像装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第１のコイルは上記第１の推力作用方向と垂直な方向に延びる一対の長辺部を有する細長形状であり、上記第２のコイルは上記第２の推力作用方向と垂直な方向に延びる一対の長辺部を有する細長形状であり、上記第１の磁気センサは上記第１のコイルの一方の長辺部に沿って位置し、上記第２の磁気センサは上記第２のコイルの一方の長辺部に沿って位置する撮像装置。
5. 請求項１ないし４のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第１の永久磁石と上記第２の永久磁石、上記第１のコイルと上記第２のコイル、上記第１の磁気センサと上記第２の磁気センサはそれぞれ、上記第１の基準平面に関して対称に配置されている撮像装置。
6. 請求項１ないし５のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第１の永久磁石と上記第２の永久磁石は上記移動枠に設けられ、上記第１のコイルと上記第２のコイル、上記第１の磁気センサと上記第２の磁気センサは上記ベース部材に対して固定的に支持されている撮像装置。
7. 請求項６記載の撮像装置において、上記ベース部材に固定され上記移動枠を覆うカバー部材を備え、上記第１のコイルと上記第２のコイル、上記第１の磁気センサと上記第２の磁気センサはそれぞれ上記カバー部材に設けられている撮像装置。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項記載の撮像装置において、上記第１の磁気センサと上記第２の磁気センサはそれぞれホールセンサである撮像装置。
9. 請求項１ないし８のいずれか１項記載の撮像装置において、上記前方レンズ群の上記反射素子はプリズムである撮像装置。

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