CN104841621B - 一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法 - Google Patents

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张丽娇
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Abstract

本发明涉及一种电磁屏蔽玻璃的制备方法，优选具体步骤如下：(1)、原材料检测、裁片和清洗，保证有机玻璃表面无其它杂质；(2)、在有机玻璃内侧涂底涂，底涂厚度控制在85～100微米，底涂后的玻璃进行加温固化，固化温度控制在50～80℃，固化时间不少于48小时；(3)、固化后的有机玻璃涂有底涂的一侧依次镀电磁屏蔽的Ti‑TiO2‑Au‑TiO2复合膜，Ti的厚度在20～40nm之间，TiO2厚度在10～30nm之间，Au膜厚度在5～17nm之间，要求温度控制在15～20℃以下，湿度15～20％；(4)、在电磁屏蔽膜的复合膜上涂上面涂，厚度在80～100微米，并常温固化。本发明具有电磁屏蔽的重要特点。

Description

一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法
技术领域
本发明提供一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，属于电磁屏蔽技术领域。
背景技术
一百多年以前，人类一直生活在没有人造电磁辐射的自然环境中。那时，自然界产生的电磁辐射主要是太阳的光辐射、宇宙射线、地球磁场辐射和地球热辐射等。人类已经适应了这种天然的电磁环境。今天，多种多样的电气和电子设备已广泛应用于国民经济的各个方面，而且还在继续迅速地扩大和发展。与此同时，电磁干扰现象也随之增大并日趋严重，它不仅在通信领域中对信号的产生、传播和接收造成了极大的影响，而且给人类社会的生产与生活带来了不容忽视的危害。目前，随着电子、计算机技术的不断发展，电子系统和电子设备之间存在电磁干扰，由此导致电磁信息泄露，因此，为防止电磁信息泄露，防护电磁辐射污染，有效保障仪器设备正常工作，保障机密信息安全，保障工作人员的身体健康，电磁屏蔽功能玻璃非常必要。电磁屏蔽玻璃可用于电子设备的观察窗口，例如CRT显示器、LCD显示器、OLED等数码显示屏幕、雷达显示器、精密仪器、仪表等显示器窗口，也可用于建筑物重点部位的观察窗，例如采光屏蔽窗、屏蔽室可视窗、可视隔断屏风等，同时在军事上可以用在指挥仪方舱和通讯车观察窗。为此本人发明了一种具有电磁屏蔽功能的玻璃可以用于日常的电磁屏蔽。
发明内容
本发明的目的在于提供一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，以屏蔽日常生活对人体无益的电磁辐射问题。
本发明提供的一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法为：在有机玻璃的一侧涂上底涂并固化后镀复合膜，所述复合膜为Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜，Ti的厚度在20～40nm之间，单层TiO2厚度在10～30nm之间，Au膜厚度在5～17nm之间。
所述制备方法可以采用如下具体步骤：
(1)、清洁有机玻璃；
(2)、在有机玻璃内侧涂底涂；
(3)、对步骤(2)中涂有底涂后的玻璃进行加温固化；
(4)、在步骤(3)中固化后的有机玻璃涂有底涂的一侧依次镀Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜；
(5)、在步骤(4)中所述的复合膜上涂上面涂。
优选地，所述的底涂由四个组分混合而成；具体为：组分一：羟基丙酸脂，10～16重量份，组分二：苏二尿4～7重量份；组分三：二甲苯，50～60重量份；组分四：乙酸乙酯，30～35重量份。
优选地，底涂厚度控制在85～100微米，固化温度控制在50～80℃，固化时间不少于48小时。
优选地，镀复合膜的温度控制在15～20℃，湿度15～20％。
优选地，所述步骤(5)所述的面涂是由三个组分混合而成；具体为：组分一：丙烯酸改性有机硅树脂，35～40重量份；组分二：二甲苯，35～40重量份；组分三：乙酸乙酯，20～30重量份。
优选地，所述面涂的厚度在80～100微米，并进行常温固化。
所述有机玻璃的材质可以为聚甲基丙烯酸甲酯。
利用所述制备方法制得的电磁屏蔽功能玻璃，其优点及功效在于：结构组分简单，膜层附着力强，透光性能在20～50％可调(根据控制Ti的氧化程度)，电磁屏蔽性能好。
附图说明
图1为本发明电磁屏蔽玻璃的生产工艺流程图。
图2电磁屏蔽玻璃的结构形式切面图。
图3为本发明电磁屏蔽玻璃的紫外、可见、近红外透过率曲线。
图中符号说明如下：
1 有机玻璃；2 有机底涂；3 Ti-TiO2-Au-TiO2膜层；4 有机面涂；
T％ 透光率；nm 纳米。
具体实施方式
本发明所述的有机玻璃可以替换为现有技术中各种有机透明材料，下文所述有机玻璃的材质为聚甲基丙烯酸甲酯(英文缩写PMMA)。
下面结合附图及具体实施例，对本发明的技术方案做进一步的说明。
实施例：
如图1所示，该工艺依次包括如下步骤：材料检测、裁片、清洗；涂有机底涂固化、镀Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜；涂有机面涂固化。具体步骤如下：
1、选取一块经过检测的有机玻璃进行裁片、清洗；保证有机玻璃表面无其它杂质；
2、在玻璃一侧表面涂底涂，厚度100微米；
底涂组份为：组分一：羟基丙酸脂，占底涂总组分的质量百分比为11％，组分二：苏二尿，占底涂总组分的质量百分比为4.5％；组分三：二甲苯，占底涂总组分的质量百分比为52％；组分四：乙酸乙酯，占底涂总组分的质量百分比为32.5％。
3、对步骤2中涂有底涂后的玻璃进行加温固化，固化温度控制在65℃，固化时间120小时；
4、在步骤3中固化后的有机玻璃涂有底涂的一侧依次镀Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜，Ti膜厚度在35nm,两层TiO2厚度都是35nm，Au膜厚度14nm，温度20℃，湿度16％；
5、在步骤4中隐身膜的复合膜上涂上面涂，厚度在94微米；
面涂组份为：组分一：丙烯酸改性有机硅树脂，占面涂总组分的质量百分比为37％；组分二：二甲苯，占面涂总组分的质量百分比为37％；组分三：乙酸乙酯，占面涂总组分的质量百分比为25％。
得到的电磁屏蔽功能玻璃的结构如图2所示，从下往上依次为有机玻璃1、有机底涂2、Ti-TiO2-Au-TiO2膜层3和有机面涂4。
实施例所得电磁屏蔽玻璃电磁反射、透射曲线如图3所示，从图中可以看到电磁反射率R≥-1dB，即电磁反射率≥80％，电磁透过率≤10％。电磁屏蔽玻璃的紫外、可见、近红外透过率曲线如图3所示，从图中可以看到电磁屏蔽玻璃具有优良的阻隔紫外线特性，可见光平均透过率38％,膜层附着力强。

Claims (4)

1.一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，其特征在于：该方法在有机玻璃的一侧涂上底涂并固化后镀复合膜，所述复合膜为Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜，Ti的厚度在20～40nm之间，单层TiO2厚度在10～30nm之间，Au膜厚度在5～17nm之间，
具体步骤如下：
(1)、清洁有机玻璃；
(2)、在有机玻璃内侧涂底涂；
(3)、对步骤(2)中涂有底涂后的玻璃进行加温固化；
(4)、在步骤(3)中固化后的有机玻璃涂有底涂的一侧依次镀Ti-TiO2-Au-TiO2复合膜；
(5)、在步骤(4)中所述的复合膜上涂上面涂，
其中，所述的底涂由四个组分混合而成；具体为：组分一：羟基丙酸脂，10～16重量份，组分二：苏二尿4～7重量份；组分三：二甲苯，50～60重量份；组分四：乙酸乙酯，30～35重量份；
所述步骤(5)所述的面涂是由三个组分混合而成；具体为：组分一：丙烯酸改性有机硅树脂，35～40重量份；组分二：二甲苯，35～40重量份；组分三：乙酸乙酯，20～30重量份；
所述有机玻璃的材质为聚甲基丙烯酸甲酯。
2.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，其特征在于：底涂厚度控制在85～100微米，固化温度控制在50～80℃，固化时间不少于48小时。
3.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，其特征在于：镀复合膜的温度控制在15～20℃，湿度15～20％。
4.根据权利要求1所述的一种电磁屏蔽功能玻璃的制备方法，其特征在于：所述面涂的厚度在80～100微米，并进行常温固化。
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