CN107057599A - 一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法 - Google Patents

一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。本发明由胶黏剂和抗蓝光助剂得到的抗蓝光功能层具有良好的抗蓝光功能；有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂发生协同作用，得到的抗磁功能层具有良好的抗磁功能。

Description

一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法
技术领域
本申请涉及触摸屏(TP)保护技术领域，尤其涉及一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法。
背景技术
随着电子科技的飞速发展，越来越多的人使用着电脑、手机、数码相机等电子产品，人们的日常生活更是越来越离不开电子产品，随之而来的视力问题也日益凸显。有新研究表明，蓝光会通过提高视觉细胞对光的敏感度和光氧化反应导致细胞死亡，损害视力。同时，电子产品更高的性能和更快的速度产生的高频化噪声和高频电磁波。而电磁屏蔽材料能够防止高频电磁波干扰，能够抑制噪声源和敏感设备距离较远时通过磁场耦合产生的干扰，因此，兼具抗蓝光抗磁屏蔽膜材料开发显得尤为重要。
发明内容
有鉴于此，本申请提供一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法，本申请提供的抗磁抗蓝光保护膜具有良好的抗磁和抗蓝光的特性同时防冲击效果好。
本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：
第一剥离层；
复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；
复合在所述抗磁功能层上的基材层；
复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；
复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。
优选的，所述抗磁功能层由如下组分制备得到：
有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种
优选的，所述改性本征型导电高分子树脂选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种。
优选的，所述金属纤维选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径为200nm～2μm。
优选的，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。
优选的，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比为(5～50μm)：(25～100μm)：(10～55μm)。
优选的，所述胶黏剂选自硅胶、亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；所述抗蓝光助剂选自水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类中的一种或几种；所述胶黏剂与抗蓝光助剂的质量比为(95～99.95)：(0.05～5)。
优选的，所述第一剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种；所述第二剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。
本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜的制备方法，包括以下步骤：
在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层；在所述抗磁功能层上复合第一剥离层；
在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层；在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。
优选的，所述涂布抗磁胶水的方式为微凹辊涂布；所述涂布抗蓝光胶水的方式为微凹辊涂布。
与现有技术相比，本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。本发明提供的由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到的抗蓝光功能层具有良好的抗蓝光功能；本发明的有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂发生协同作用，制备得到的抗磁功能层具有良好的抗磁功能，并且与现有技术相比，金属纤维不会发生沉淀，抗磁功能良好。同时，本发明制备得到的抗磁抗蓝光保护膜抗冲击性能良好。
附图说明
图1为本发明实施例制备得到的抗磁抗蓝光保护膜的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：
第一剥离层；
复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；
复合在所述抗磁功能层上的基材层；
复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；
复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。
本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜包括第一剥离层。本发明所述第一剥离层优选选自PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。所述第一剥离层的厚度优选为25～75μm；更优选为30～70μm；最优选为40～60μm。
本发明剥离层可以为离型膜或普通聚酯薄膜。离型膜又称剥离膜、隔离膜、分离膜等，通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理或涂氟处理或涂硅(silicone)离型剂于薄膜材质的表层上，如PET、PP等等，让它对于各种不同的有机压感胶可以表现出极轻且稳定的离型力。在本申请的优选实施例中，所述剥离层为离型膜；离型膜又可以为硅油离型膜、氟塑离型膜、非硅离型膜中的任意一种。本申请所述剥离层的离型力为5-15gf即可。
本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜包括复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层。
所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到。
在本申请一部分实施例中，所述抗磁功能层优选由如下组分制备得到：
有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种
在本申请另一部分实施例中，所述抗磁功能层优选由如下组分制备得到：
有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种
在本发明中，所述改性本征型导电高分子树脂优选选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种；更优选选自改性聚苯胺或改性聚吡咯中的一种或几种。
所述金属纤维优选选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径优选为200nm～2μm；更优选为300nm～1.5μm。
所述偶联剂包括但不限于有机硅环氧环、正硅酸乙酯或聚酞胺。上述组分的来源可以为市售，本发明对此不进行限定。
所述固化剂包括但不限于二月桂酸二丁基锡或间苯二胺中的一种或几种。上述组分的来源可以为市售，本发明对此不进行限定。
所述催化剂包括但不限于铂金固化剂；在本发明的一部分实施例中，优选选自上海信越有机硅CAT-PL。
所述溶剂包括但不限于甲苯和乙酸乙酯中的一种或几种。上述组分的来源可以为市售，本发明对此不进行限定。
本发明采用上述改性本征型导电高分子树脂和特定的金属纤维以及溶剂和助剂的协同配合，能够产生螯合作用，最终使得制备得到的抗磁功能层与现有的抗磁薄膜相比具有优异的抗磁效果。
本发明所述抗磁功能层的厚度优选为5～50μm；更优选为8～45μm；最优选为10～40μm。
本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜包括复合在所述抗磁功能层上的基材层。
在本发明中，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。所述基材层的厚度优选为25～100μm；更优选为30～90μm；最优选为40～80μm。
本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜包括复合在所述基材层上的抗蓝光功能层。
在本发明中，所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到。
上述抗蓝光功能层由抗蓝光胶水制备得到。抗蓝光胶水包括胶黏剂和抗蓝光助剂。
其中，所述胶黏剂优选选自硅胶、亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；更优选选自亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；
所述抗蓝光助剂优选选自水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类中的一种或几种；所述胶黏剂与抗蓝光助剂的质量比为(95～99.95)：(0.05～5)。也就是说，上述抗蓝光助剂占所述胶黏剂的质量百分比优选为0.05％～5％；更优选为0.1％～4％。
所述抗蓝光功能层的厚度优选为10～55μm；更优选为15～50μm；最优选为20～45μm；最最优选为20～40μm。
本发明通过上述胶黏剂和抗蓝光助剂的协同作用，使得本发明薄膜的抗蓝光效果好。
同时通过本发明抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的共同作用使得本发明抗磁抗蓝光保护膜的防冲击效果好。
在本发明中，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比优选为(5～50μm)：(25～100μm)：(10～55μm)；更优选为(10～40μm)：(30～90μm)：(15～50μm)。
本发明提供的抗磁抗蓝光保护膜包括复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。
本发明所述第二剥离层优选选自PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。所述第二剥离层的厚度优选为25～75μm；更优选为30～70μm；最优选为40～60μm。
本发明剥离层可以为离型膜或普通聚酯薄膜。离型膜又称剥离膜、隔离膜、分离膜等，通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理或涂氟处理或涂硅(silicone)离型剂于薄膜材质的表层上，如PET、PP等等，让它对于各种不同的有机压感胶可以表现出极轻且稳定的离型力。在本申请的优选实施例中，所述剥离层为离型膜；离型膜又可以为硅油离型膜、氟塑离型膜、非硅离型膜中的任意一种。本申请所述剥离层的离型力为5-15gf即可。
结构参见图1，图1为本发明实施例制备得到的抗磁抗蓝光保护膜的结构示意图，其中，1为第一剥离层，2为抗磁功能层，3为基材层，4为抗蓝光功能层，5为第二剥离层。
本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜的制备方法，包括以下步骤：
在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层；在所述抗磁功能层上复合第一剥离层；
在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层；在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。
本发明抗磁抗蓝光保护膜的制备方法首先在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层。
上述抗磁胶水的具体组分和配比已经有清楚的描述，在此不再赘述。将上述组分的胶水涂布到基材的任意一面、固化得到抗磁功能层。
所述热固化涂布为本领域技术人员熟知的技术手段；该功能层的涂布方式可为辊涂、喷涂、浸涂、凹版涂布，优选为辊涂中的微凹辊涂布，可使涂层光滑、均匀，可靠性高。本申请实施例采用微凹辊涂布时，微凹辊的直径可为20-125mm，微凹辊的网目线数可为50-300LPI，网孔容积为2-10BCM；并且，网孔沿着微凹辊轴向呈20°-70°雕刻，优选呈45°雕刻。本申请实施例为了方便微凹辊涂布，可将改性丙烯酸酯树脂溶液稀释至30～40wt％固含；所述稀释采用本领域常用的溶剂按照常规工艺进行即可。
本发明还可以采用刮涂的方式，优选为逗号式刮刀涂布。
本发明抗磁功能层固化的方式可为热固化。
所述热固化的温度范围90-170℃、优选120～150℃下，烤30s-120s；可根据温度及涂布厚度来决定烘烤时间。
得到抗磁功能层后，在所述抗蓝光胶层上复合第一剥离层。上述剥离层已经有清楚的描述，在此不再赘述。本发明对于所述复合的具体方式不进行限定，常规覆上即可。
在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层。
上述抗蓝光胶水的具体组分和配比已经有清楚的描述，在此不再赘述。将上述组分的胶水涂布到基材的任意一面、固化得到抗蓝光功能层。
所述热固化涂布为本领域技术人员熟知的技术手段；该功能层的涂布方式可为辊涂、喷涂、浸涂、凹版涂布，优选为辊涂中的微凹辊涂布，可使涂层光滑、均匀，可靠性高。本申请实施例采用微凹辊涂布时，微凹辊的直径可为20-125mm，微凹辊的网目线数可为50-300LPI，网孔容积为2-10BCM；并且，网孔沿着微凹辊轴向呈20°-70°雕刻，优选呈45°雕刻。本申请实施例为了方便微凹辊涂布，可将改性丙烯酸酯树脂溶液稀释至30～40wt％固含；所述稀释采用本领域常用的溶剂按照常规工艺进行即可。
本发明还可以采用刮涂的方式，优选为逗号式刮刀涂布。
所述热固化的温度范围90-170℃、优选120～150℃下，烤30s-120s；可根据温度及涂布厚度来决定烘烤时间。
本发明对于所述在基材层的两面涂布抗蓝光功能层和抗磁功能层的顺序不进行限定。
在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。上述剥离层已经有清楚的描述，在此不再赘述。本发明对于所述复合的具体方式不进行限定，常规覆上即可。
本发明提供了一种抗磁抗蓝光保护膜，包括：第一剥离层；复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；复合在所述抗磁功能层上的基材层；复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。本发明提供的由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到的抗蓝光功能层具有良好的抗蓝光功能；本发明的有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂发生协同作用，制备得到的抗磁功能层具有良好的抗磁功能，并且与现有技术相比，金属纤维不会发生沉淀，抗磁功能良好。同时，本发明制备得到的抗磁抗蓝光保护膜抗冲击性能良好。
得到保护膜产品后，本发明优选采用如下方式对其抗蓝光、抗磁和抗冲击性能进行检测：
抗磁性能：用北京博兰顿磁电科技有限公司的BLD-1030三维数字高斯计测量。根据Schelkunoff电磁屏蔽理论，电磁波入射到物体上的能量损耗可分为反射损耗、吸收损耗和多次反射损耗，总的衰减就包括这三部分之和，用公式表示为：
SET＝SER+SEA+SEM
式中：SER——反射损失；SEA——吸收损失；SEM——多次反射损失。
先测钢板的电磁，再测贴了抗磁导热膜的钢板的电磁，两者相减即可。
抗蓝光性能：使用“林上科技LS108防蓝光测试仪”测试，结果显示本实施例提供的双面粘贴胶可以屏蔽30％的短波蓝光；
方法：1、插上电源，打开测试仪的电源开关。仪器首先进行自测试和自校准，自校准完成以后，三个显示器的显示值都为“100”，表示无被测物时的透过率为100％；
2、将被测试物放入测试位置。三个显示器分别显示被测物的紫光透过率，蓝光透过率和可见光透过率，用100减去被测物的蓝光透过率，即得到被测物(样品)的蓝光屏蔽率。
抗冲击性能：落球实验，750g钢球，300mm高度落下冲击，样品不损坏。
为了进一步说明本申请，下面结合实施例对本申请提供的一种抗磁抗蓝光及其制备方法进行详细地描述，但不能将它们理解为对本申请保护范围的限定。
实施例1
在50μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：OCA胶95份，苯并三唑5份；150℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：丙烯酸树脂45份、改性聚苯胺树脂乳液20份、金属铁纤维5份(日本进口，粒径500nm-2um)、正硅酸乙酯偶联剂1份、间苯二胺固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂28份，160℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜，按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
比较例1
在50μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：OCA胶95份，苯并三唑5份；150℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：丙烯酸树脂45份、改性聚苯胺树脂乳液25份、正硅酸乙酯偶联剂1份、间苯二胺固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂28份，160℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜,
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
比较例2
在50μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：OCA胶95份，苯并三唑5份；150℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：丙烯酸树脂45份、金属铁纤维8份(日本进口，粒径500nm-2um)、正硅酸乙酯偶联剂1份、间苯二胺固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂45份，160℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜,
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
比较例3
在50μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：OCA胶95份，苯并三唑5份；150℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：丙烯酸树脂55份、改性聚苯胺树脂乳液20份、金属铁纤维1份(日本进口，粒径500nm-2um)、正硅酸乙酯偶联剂2份、间苯二胺固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂28份，160℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
比较例4
在50μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：OCA胶95份，苯并三唑5份；150℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：丙烯酸树脂54份、改性聚苯胺树脂乳液20份、金属铁纤维18份(日本进口，粒径500nm-2um)、正硅酸乙酯偶联剂1份、间苯二胺固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂28份，160℃75S热固化后得到40μm的胶层，并覆上一层40μm厚的硅油离型膜。
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
实施例2
在70μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：亚克力胶95份，三嗪5份；150℃75S热固化后得到20μm的胶层，并覆上一层20μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：聚氨酯树脂45份、改性聚吡咯树脂乳液20份、金属铜纤维5份(日本进口，粒径500nm-1um)、聚钛胺偶联剂1份、二月硅酸二丁基锡固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、甲苯溶剂28份，160℃75S热固化后得到30μm的胶层，并覆上一层25μm厚的硅油离型膜。
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
实施例3
在70μm厚的热塑性聚氨酯弹性基材(TPU)上用逗号式刮刀涂布一层抗蓝光胶水，组分为：亚克力胶95份，三嗪5份；150℃75S热固化后得到20μm的胶层，并覆上一层20μm厚的硅油离型膜；
步骤1中TPU的另一面涂布一层抗磁胶水，组分为：环氧聚酯树脂40份、改性聚吡咯树脂乳液30份、金属银纤维10份(日本进口，粒径500nm-1um)、聚钛胺偶联剂1份、二月硅酸二丁基锡固化剂0.5份、有机硅CAT-PL催化剂0.5份、乙酸乙酯溶剂28份，160℃75S热固化后得到30μm的胶层，并覆上一层25μm厚的硅油离型膜。
按照本发明所述的方式测定其抗磁、抗蓝光和抗冲击性能，结果如表1所示，表1为本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果。
表1本发明实施例和比较例的抗磁抗蓝光保护膜的性能测定结果
抗蓝光性能 SE(dB) 抗冲击性能
实施例1 30％ 72 300mm，750g
实施例2 29％ 78 300mm，750g
实施例3 29％ 82 300mm，750g
比较例1 28％ 32 200mm，750g
比较例2 28％ 45 300mm，750g
比较例3 28％ 61 250mm，750g
比较例4 29％ 70 250mm，750g

Claims (10)

1.一种抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，包括：
第一剥离层；
复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；
复合在所述抗磁功能层上的基材层；
复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；
复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。
2.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层由如下组分制备得到：
3.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述改性本征型导电高分子树脂选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种。
4.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述金属纤维选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径为200nm～2μm。
5.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。
6.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比为(5～50μm)：(25～100μm)：(10～55μm)。
7.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述胶黏剂选自硅胶、亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；所述抗蓝光助剂选自水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类中的一种或几种；所述胶黏剂与抗蓝光助剂的质量比为(95～99.95)：(0.05～5)。
8.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述第一剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种；所述第二剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。
9.一种抗磁抗蓝光保护膜的制备方法，包括以下步骤：
在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层；在所述抗磁功能层上复合第一剥离层；
在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层；在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述涂布抗磁胶水的方式为微凹辊涂布；所述涂布抗蓝光胶水的方式为微凹辊涂布。
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