CN104802063A - Led陶瓷支架抛光研磨机 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种LED陶瓷支架抛光研磨机,包括机架、工件输送装置、抛光研磨装置及PLC控制器,工件输送装置包括输送带、输送辊轴及电机,输送带上方设置有定位辊轴;抛光研磨装置包括竖向基座、主动轮、从动轮、砂带,输送带配置有压力传感器,从动轮配置有升降驱动结构,以及,砂带配置有用于感应其位置偏差的偏移感应开关和用于推移校正砂带绕设位置的校正机构;PLC控制器分别连接控制于电机、压力传感器、升降驱动结构、偏移感应开关及校正机构,通过自动感应砂带与工件间的接触压力、砂带的绕设位置,并实时根据实际情况自动调节,大大提高了该抛光研磨机的自动化、智能化程度,其提高了加工效率,也更好地确保了抛光研磨质量。
Description
技术领域
本发明涉及抛光研磨机,尤其是指一种LED陶瓷支架抛光研磨机。
背景技术
LED陶瓷支架为板状式的工件,在加工成型后,其表面通常需要抛光机来进行抛光处理,现有技术中,有些通过手工拿取抛光,其加工效率极其低下,同时,常常会因人为误差导致很难获得一致性的表面抛光效果;
后来也有些自动化的抛光机器出现,例如申请号为201410361029.2的发明专利文献中所公开的一种带式抛光机,其主要适用于平板式的工件,将工件沿输送带输送,在输送过程中受砂带的抛光加工,其存在诸多缺陷,例如:工件在输送带上输送过程中,容易出现偏移导致所需抛光表面不能一次性抛光处理,影响了加工效率,也易导致抛光表面效果不一致的不良现象;还有工件(例如LED陶瓷支架)在输送抛光过程中,极易因摩擦过热导致工件之产品质量下降,例如变形等。
因此,急需研究出一种新的技术方案来解决上述问题。
发明内容
有鉴于此,本发明针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种LED陶瓷支架抛光研磨机,其PLC控制器实时接收压力传感器、偏移感应开关等反馈的信号,根据实际情况自动调节,大大提高了抛光研磨机的自动化、智能化程度,其提高了加工效率,也更好地确保了抛光研磨质量。
为实现上述目的,本发明采用如下之技术方案:
一种LED陶瓷支架抛光研磨机,包括有机架、工件输送装置、抛光研磨装置及PLC控制器,其中,该工件输送装置、抛光研磨装置设置于机架上,该PLC控制器分别连接控制于工件输送装置、抛光研磨装置;
该工件输送装置包括有输送带、用于驱动输送带水平移动的输送辊轴及用于驱动输送辊轴的电机,前述PLC控制器连接控制于电机;该输送带上方设置有一个或多个定位辊轴;
该抛光研磨装置包括有竖向基座和安装于竖向基座前侧的主动轮、从动轮、砂带,该主动轮及从动轮均沿垂直于前述输送带的输送方向延伸设置,该主动轮位于下方,该从动轮位于上方,该砂带绕于主动轮、从动轮上,该砂带底面与输送带的上表面之间形成供工件穿过的抛光研磨区域,针对该区域的输送带部位配置有压力传感器,该从动轮配置有升降驱动结构;以及,针对砂带配置有用于感应其位置偏差的偏移感应开关和用于推移校正砂带绕设位置的校正机构;前述PLC控制器分别连接控制于压力传感器、升降驱动结构、偏移感应开关及校正机构。
作为一种优选方案,所述主动轮为一个,从动轮为两个,其三者呈倒三角形结构布局,三者间围合形成让位空间,前述升降驱动结构包括有竖向升降架、连接驱动竖向升降架的升降驱动器,前述两从动轮分别安装于竖向升降架上端左、右侧部位,竖向升降架前侧连接有L形让位连接杆,该L形让位连接杆包括有与从动轮平行延伸的横向让位杆部和竖向连接于横向让位杆部前端缘的竖向让位杆部,该竖向让位杆位于主动轮前侧区域,前述升降驱动器上下驱动于竖向让位杆。
作为一种优选方案,针对前述抛光研磨区域,配置有用于对在抛光研磨工件实时进行冲水降温除尘的喷水单元,以及,于机架上对应抛光研磨区域部位开设供冲洗水下漏的排水槽,前述PLC控制器连接控制于喷水单元。
作为一种优选方案,所述定位辊轴分别设置于主动轮左、右侧,主动轮与其相邻定位辊轴之间形成供砂带穿过的定位夹槽。
作为一种优选方案,所述主动轮左、右侧均并排式设置有第一定位辊轴和第二定位辊轴,前述定位夹槽由主动轮与第一定位辊轴夹设而成,该第二定位辊轴间距式位于第一定位辊轴的侧旁;以及,所述第一定位辊轴和第二定位辊轴处于同一水平面位置。
作为一种优选方案,所述输送带为环形输送带,其具有上侧输送带和下侧输送带;对应前述抛光研磨区域的输送带部位,于上侧输送带底部放置有辅助定位垫板,该辅助定位垫板避让式位于上侧输送带和下侧输送带之间位置。
作为一种优选方案,所述抛光研磨装置外部围设有箱体,该箱体具有顶壁、后壁、左侧壁、右侧壁及前侧可拆卸式箱门。
作为一种优选方案,所述机架上形成有抛光研磨工作平台,前述抛光研磨装置设置于抛光研磨工作平台。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,具体而言,由上述技术方案可知:
其主要是通过工件输送装置、抛光研磨装置及PLC控制器的设计,PLC控制器实时接收压力传感器、偏移感应开关等反馈的信号,根据实际情况自动调节,大大提高了抛光研磨机的自动化、智能化程度,其提高了加工效率,也更好地确保了抛光研磨质量;
其次是,特别设计的喷水单元能够及时对抛光研磨中的工件进行降温除尘,提高加工效果,避免工件因与砂带接触摩擦产生高温而影响损坏工件质量;
再者是,本发明之抛光研磨装置结构设计简单、巧妙、合理,其主动轮、从动轮呈倒三角形布置,巧妙形成中间避让区域供升降驱动结构布设,使得整体空间均得到有效利用,各结构布局紧凑,有利于减少整个设备的占用场地面积及空间大小;同时,倒三角形结构布置,使得砂带的绕设更为稳固,砂带传动更为平稳,使得抛光研磨加工表面平整、一致性佳。
为更清楚地阐述本发明的结构特征、技术手段及其所达到的具体目的和功能,下面结合附图与具体实施例来对本发明作进一步详细说明。
附图说明
图1是本发明之实施例的立体结构示意图;
图2是本发明之实施例的主视图;
图3是本发明之实施例的截面结构示意图;
图4是本发明之实施例的另一立体结构示意图(未示机架、箱体结构);
图5是本发明之实施例的截面结构示意图(未示机架、箱体结构);
图6是图4所示结构的侧视图;
图7是图4所示结构的俯视图;
图8是本发明之实施例的控制连接框图。
附图标识说明:
10、机架 11、抛光研磨工作平台
12、箱体 121、箱门
20、工件输送装置 21、输送带
22、输送辊轴 23、第一定位辊轴
24、第二定位辊轴 25、辅助定位垫板
30、抛光研磨装置 301、竖向基板
31、主动轮 32、从动轮
33、砂带 34、竖向升降架
35、L形让位连接杆 351、横向让位杆部
352、竖向让位杆部
41、PLC控制器 42、第一电机
43、第二电机 44、压力传感器
45、升降驱动器 46、偏移感应开关
47、校正机构 48、喷水单元。
具体实施方式
请参照图1至图8所示,其显示出了本发明之实施例的具体结构,其包括有机架10、工件输送装置20、抛光研磨装置30及PLC控制器41,其中,该机架10上形成有抛光研磨工作平台11,前述工件输送装置20、抛光研磨装置30设置于抛光研磨工作平台11上,该PLC控制器41分别连接控制于工件输送装置20、抛光研磨装置30。
该工件输送装置20包括有输送带21、用于驱动输送带21水平移动的输送辊轴22及用于驱动输送辊轴22的电机,前述PLC控制器41连接控制于该电机,此处将该电机定义为第一电机42;该输送带21上方设置有一个或多个定位辊轴,此处是于下述主动轮31左、右侧均并排式设置有第一定位辊轴23和第二定位辊轴24,主动轮31与其相邻定位辊轴(即第一定位辊轴23)之间形成供砂带33穿过的定位夹槽,该第二定位辊轴24间距式位于第一定位辊轴23的侧旁;以及,所述第一定位辊轴23和第二定位辊轴24处于同一水平面位置;
前述输送带21为环形输送带,其具有上侧输送带和下侧输送带;对应前述抛光研磨区域的输送带部位,于上侧输送带底部放置有辅助定位垫板25,该辅助定位垫板25避让式位于上侧输送带和下侧输送带之间位置;如此,主动轮31所在下述抛光研磨区域的输送方向进、出侧均有作定位,使得板状工件在被抛光研磨时能够保持水平状态。
该抛光研磨装置30外部围设有箱体12,该箱体12具有顶壁、后壁、左侧壁、右侧壁及前侧可拆卸式箱门121;该抛光研磨装置30包括有竖向基座301和安装于竖向基座301前侧的主动轮31、从动轮32、砂带33,该主动轮31通常由电机驱动,此处定义为第二电机43,该主动轮31及从动轮32沿垂直于前述输送带21的输送方向延伸设置,该主动轮31位于下方,该从动轮32位于上方,该砂带33绕于主动轮31、从动轮32上,不同砂带33直接决定抛光研磨效果,本设备中可按需拆卸更换不同砂带;该砂带33底面与输送带21的上表面之间形成供工件穿过的抛光研磨区域,针对该区域的输送带部位配置有压力传感器44,该从动轮32配置有升降驱动结构;针对砂带33配置有用于感应其位置偏差的偏移感应开关46和用于推移校正砂带33绕设位置的校正机构47;前述PLC控制器41分别连接控制于压力传感器44、升降驱动结构、偏移感应开关46及校正机构47。
于本实施例中,如图3和图5所示,所述主动轮31为一个,从动轮32为两个,其三者呈倒三角形结构布局,三者间围合形成让位空间,前述升降驱动结构包括有竖向升降架34、连接驱动竖向升降架34的升降驱动器45,前述两从动轮32分别安装于竖向升降架34上端左、右侧部位,竖向升降架34前侧连接有L形让位连接杆35,该L形让位连接杆35包括有与从动轮32平行延伸的横向让位杆部351和竖向连接于横向让位杆部351前端缘的竖向让位杆部352,该竖向让位杆352位于主动轮31前侧区域,前述升降驱动器45上下驱动于竖向让位杆352;藉此,本发明设计方案中巧妙形成中间避让区域供升降驱动结构布设,使得整体空间均得到有效利用,各结构布局紧凑,有利于减少整个设备的占用场地面积及空间大小;同时,倒三角形结构布置,使得砂带33的绕设更为稳固,砂带33传动更为平稳,抛光研磨加工质量稳定。
在前述抛光研磨过程中, 工件因与砂带33接触摩擦产生高温,其容易损坏工件质量;此处,针对前述抛光研磨区域,配置有用于对在抛光研磨工件实时进行冲水降温除尘的喷水单元48,以及,于机架10上对应抛光研磨区域部位开设供冲洗水下漏的排水槽,前述PLC控制器41连接控制于喷水单元48。
由上,利用本发明之抛光研磨机对LED陶瓷支架进行抛光研磨加工时,只需通过人工上料将LED陶瓷支架放在输送带21上入口侧位置,加工完成的LED陶瓷支架则由输送带21上出口侧输出(如图7中箭头方向所示);当然,这里所述之LED陶瓷支架上料、下料均可采用人工或自动方式,其实现采用常规方式即可,在此不再作赘述;以及,LED陶瓷支架也可进行一次抛光研磨或按需进行两次以上重复抛光研磨加工。
本发明的设计重点在于,其主要是通过工件输送装置、抛光研磨装置及PLC控制器的设计,PLC控制器实时接收压力传感器、偏移感应开关等反馈的信号,根据实际情况自动调节,大大提高了该抛光研磨机的自动化、智能化程度,其提高了加工效率,也更好地确保了抛光研磨质量;
其次是,特别设计的喷水单元能够及时对抛光研磨中的工件进行降温除尘,提高加工效果,避免工件因与砂带接触摩擦产生高温而影响损坏工件质量;
再者是,本发明之抛光研磨装置结构设计简单、巧妙、合理,其主动轮、从动轮呈倒三角形布置,巧妙形成中间避让区域供升降驱动结构布设,使得整体空间均得到有效利用,各结构布局紧凑,有利于减少整个设备的占用场地面积及空间大小;同时,倒三角形结构布置,使得砂带的绕设更为稳固,砂带传动更为平稳,使得抛光研磨加工表面平整、一致性佳。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明的技术范围作任何限制,故凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何细微修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (8)
1.一种LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:包括有机架、工件输送装置、抛光研磨装置及PLC控制器,其中,该工件输送装置、抛光研磨装置设置于机架上,该PLC控制器分别连接控制于工件输送装置、抛光研磨装置;
该工件输送装置包括有输送带、用于驱动输送带水平移动的输送辊轴及用于驱动输送辊轴的电机,前述PLC控制器连接控制于电机;该输送带上方设置有一个或多个定位辊轴;
该抛光研磨装置包括有竖向基座和安装于竖向基座前侧的主动轮、从动轮、砂带,该主动轮及从动轮均沿垂直于前述输送带的输送方向延伸设置,该主动轮位于下方,该从动轮位于上方,该砂带绕于主动轮、从动轮上,该砂带底面与输送带的上表面之间形成供工件穿过的抛光研磨区域,针对该区域的输送带部位配置有压力传感器,该从动轮配置有升降驱动结构;以及,针对砂带配置有用于感应其位置偏差的偏移感应开关和用于推移校正砂带绕设位置的校正机构;前述PLC控制器分别连接控制于压力传感器、升降驱动结构、偏移感应开关及校正机构。
2.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述主动轮为一个,从动轮为两个,其三者呈倒三角形结构布局,三者间围合形成让位空间,前述升降驱动结构包括有竖向升降架、连接驱动竖向升降架的升降驱动器,前述两从动轮分别安装于竖向升降架上端左、右侧部位,竖向升降架前侧连接有L形让位连接杆,该L形让位连接杆包括有与从动轮平行延伸的横向让位杆部和竖向连接于横向让位杆部前端缘的竖向让位杆部,该竖向让位杆位于主动轮前侧区域,前述升降驱动器上下驱动于竖向让位杆。
3.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:针对前述抛光研磨区域,配置有用于对在抛光研磨工件实时进行冲水降温除尘的喷水单元,以及,于机架上对应抛光研磨区域部位开设供冲洗水下漏的排水槽,前述PLC控制器连接控制于喷水单元。
4.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述定位辊轴分别设置于主动轮左、右侧,主动轮与其相邻定位辊轴之间形成供砂带穿过的定位夹槽。
5.根据权利要求4所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述主动轮左、右侧均并排式设置有第一定位辊轴和第二定位辊轴,前述定位夹槽由主动轮与第一定位辊轴夹设而成,该第二定位辊轴间距式位于第一定位辊轴的侧旁;以及,所述第一定位辊轴和第二定位辊轴处于同一水平面位置。
6.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述输送带为环形输送带,其具有上侧输送带和下侧输送带;对应前述抛光研磨区域的输送带部位,于上侧输送带底部放置有辅助定位垫板,该辅助定位垫板避让式位于上侧输送带和下侧输送带之间位置。
7.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述抛光研磨装置外部围设有箱体,该箱体具有顶壁、后壁、左侧壁、右侧壁及前侧可拆卸式箱门。
8.根据权利要求1所述的LED陶瓷支架抛光研磨机,其特征在于:所述机架上形成有抛光研磨工作平台,前述抛光研磨装置设置于抛光研磨工作平台。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
EXSB | Decision made by sipo to initiate substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20150729 |