CN104777674A - 一种用于光配向的光罩装置及应用设备 - Google Patents

一种用于光配向的光罩装置及应用设备 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种用于光配向的光罩装置及应用设备,包括彼此部分重叠的第一光罩和第二光罩,以使得该第一光罩和第二光罩分别包括第一重叠区、第一非重叠区和第二重叠区、第二非重叠区,同时该第一重叠区、第一非重叠区、第二重叠区和第二非重叠区分别包括多个开口部;该第一重叠区开口部的高度和该第二重叠区开口部的高度分别按照三角函数平方平滑变化,且使得重叠区在相同位置处叠加后的开口部高度与第一或第二非重叠区开口部的高度相同。与现有技术相比,本发明能够消除后续工艺中带状mura缺陷,提高产品的显示质量。

Description

一种用于光配向的光罩装置及应用设备
技术领域
本发明涉及液晶显示器的技术领域,特别是涉及一种用于光配向的光罩装置及应用设备。
背景技术
液晶显示器通过施加电场到其上、下显示面板的场产生电极,使得液晶层中的液晶在电场的作用下偏转方向,因此可通过控制入射到该液晶层中的偏振光实现显示图像。目前,垂直配向(VA,vertical alignment)模式的液晶显示器由于具有高对比度和宽标准视角已得到广泛研究和应用。
在液晶显示器的制作过程中,常使用摩擦配向和光配向两种方法。其中摩擦配向方法会产生静电和颗粒的污染,而光配向方法是一种非接触式的配向技术,其利用线偏振光照射在光敏感的高分子聚合物配向膜上,使得液晶层中的液晶与显示面板形成倾角。
目前常用的光配向方法是UV2A(ultra violet vertical alignment)技术,其原理是采用一定角度的紫外光(ultra violet)通过光罩照射到阵列基板或彩膜基板的光配向膜层上,使得光配向膜层发生配向反应进而使得液晶分子以与阵列基板或彩膜基板法线成一定夹角(1-5°)排列。而用于光配向工艺的光罩尺寸通常小于市场上液晶显示器的尺寸,因此需要使用多个光罩重叠设置且同时工作,其重叠区(overlap区)会照射两次光线。
请查阅图1a,图1a是现有技术中用于光配向的两个光罩的重叠区开口部的结构示意图。如图1所示,该两个光罩110和光罩120具有重叠区,其中该光罩110的重叠区记为1101,非重叠区记为1102,其上分别设有多个开口部1103和1104,其中开口部是能够透射光线的曝光区;该光罩120的重叠区记为1201,非重叠区记为1202,其上分别也设有多个开口部1203和1204。请查阅图1b,图1b是图1a中两个光罩的重叠区开口部(或对应的曝光量)变化趋势的结构示意图,具体的,以该光罩120进行示例说明,其重叠区1201上开口部1203的变化趋势记为曲线12011,其呈直线变化,且非重叠区1202上开口部1204的变化趋势记为曲线(或直线)1022112021,其为直线常数;同理,该光罩110重叠区域1101上的开口部1103的变化趋势为曲线11011,呈直线变化,且非重叠区域1102上开口部1104的变化趋势记为曲线(或直线)11021(图1b中未示出),其也为直线常数,并与曲线12021的常数相同。其中在重叠区满足曲线11011和曲线12011在相同位置(相同x)处其叠加值与该光罩110或120的非重叠区的开口部的曲线11021或12021数值相同,即通过该光罩110和光罩120重叠区开口部1101和1201的叠加曝光量与该光罩110或光罩120非重叠区域的开口部1102或1202的曝光量相同。
但是现有技术中用于光配向的多个光罩重叠区中开口部呈直线变化,即对应的曝光量也呈直线变化,使得后续生产的显示面板中具有带状mura缺陷,妨碍产品的显示质量。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种用于光配向的光罩装置及应用设备,能够实现两个光罩重叠区的开口部的曝光量呈曲线(平滑)变化,进而消除后续产品中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是,提供一种装置,该装置包括:
第一光罩和第二光罩;
该第一光罩包括第一重叠区和第一非重叠区;
该第二光罩包括第二重叠区和第二非重叠区;
该第一重叠区和该第二重叠区彼此重叠;
该第一重叠区包括沿第一方向排列的多个透射的开口部;
该第一非重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部;
该第二重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部;
该第二非重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部;
该第一非重叠区的开口部和该第二非重叠区的开口部相同;
该第一重叠区的开口部的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L);
该第二重叠区的开口部的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L);
其中H是该第一非重叠区域的开口部和该第二非重叠区域的开口部的高度,X=L-M,L是该第一重叠区和该第二重叠区的长度,M是该第一重叠区和该第二重叠区距离该第一非重叠区或该第二非重叠区的距离。
其中,该第一非重叠区的开口部和该第二非重叠区的开口部是第一长方形;
该第一长方形的宽度方向与该第一方向相同;
该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部是第二长方形,且该第二长方形在该第一方向上的尺寸与该第一长方形的宽度相同。
可选的,该第一非重叠区的开口部和该第二非重叠区的开口部是第一长方形;
该第一长方形的宽度方向与该第一方向相同;
该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部是多个第三长方形;且该第三长方形的在该第一方向上的尺寸与该第一长方形的宽度相同或不同。
进一步的,该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部是通过马赛克算法得到。
进一步可选的,该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部彼此重叠。
该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部彼此不重叠。
该第一重叠区的开口部和该第二重叠区的开口部的布置形式对称或不对称。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是,提供一种设备,该设备包括:
上述一技术方案中涉及的装置以及第一光源和第二光源;
该第一光源用于向该第一光罩的开口部提供光;
该第二光源用于向该第二光罩的开口部提供光。
该第一光源和该第二光源是紫外光。
本发明的有益效果是:本发明提供的装置及设备包括彼此部分重叠的第一光罩和第二光罩,以使得该第一光罩包括第一重叠区和第一非重叠区,该第二光罩包括第二重叠区和第二非重叠区,且该第一重叠区和该第二重叠区彼此重叠;同时该第一重叠区包括沿第一方向排列的多个透射的开口部,该第一非重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部;该第二重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部,该第二非重叠区包括沿该第一方向排列的多个透射的开口部;具体的,该第一非重叠区的开口部和该第二非重叠区的开口部相同;该第一重叠区的开口部的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L),该第二重叠区的开口部的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L);其中H是该第一非重叠区域的开口部和该第二非重叠区域的开口部的高度,X=L-M,L是该第一重叠区和该第二重叠区的长度,M是该第一重叠区和该第二重叠区距离该第一非重叠区或该第二非重叠区的距离。与现有用于光配向的多个光罩重叠区域中开口部呈直线变化的技术相比,本发明将两个光罩重叠区中开口部呈符合三角函数平方的曲线变化,使得开口部的曝光量更平滑(smooth)变化,且在重叠区域的相同位置满足Hsin2(πX/2L)+Hcos2(πX/2L)=H,即该两个光罩重叠后其重叠区的开口部的曝光量与非重叠区的开口部的曝光量相同,进而实现该两个光罩衔接的重叠区的曝光量与非重叠区的曝光量相同,使得后续液晶显示器中显示效果均匀,同时曲线变化的开口部能够实现消除后续液晶显示器中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
附图说明
图1a是现有技术中用于光配向的两个光罩的重叠区开口部的结构示意图;
图1b是图1a中两个光罩的重叠区开口部(或对应曝光量)变化趋势的结构示意图;
图2a是本发明提供的用于光配向的光罩装置第一实施方式的结构示意图;
图2b是图2a中两个光罩的重叠区开口部高度变化趋势的结构示意图;
图2c是图2a中两个光罩的重叠区开口部的布置形式不对称的结构示意图;
图2d是图2a中两个光罩的重叠区开口部彼此重叠的结构示意图;
图2e是图2a中两个光罩的重叠区开口部彼此不重叠的结构示意图;
图3a是本发明提供的用于光配向的光罩装置第二实施方式的结构示意图;
图3b是图3a中两个光罩的重叠区开口部包括多个第三长方形的一结构示意图;
图3c是图3a中两个光罩的重叠区开口部包括多个第三长方形的另一结构示意图;
图4是本发明提供的用于光配向的曝光设备第三实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明进行详细说明。
请参阅图2a和图2b,图2a是本发明提供的用于光配向的光罩装置第一实施方式的结构示意图;图2b是图2a中两个光罩的重叠区开口部高度变化趋势的结构示意图。
该光罩装置20包括:
第一光罩210和第二光罩220;
该第一光罩210包括第一重叠区2101和第一非重叠区2102;
该第二光罩220包括第二重叠区2201和第二非重叠区2202;
该第一重叠区2101和该第二重叠区2201彼此重叠;
该第一重叠区2101包括沿第一方向Da排列的多个透射的开口部2103;
该第一非重叠区2102包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部2104;
该第二重叠区2201包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部2203;
该第二非重叠区2202包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部2204;
该第一非重叠区2102的开口部2104和该第二非重叠区2202的开口部2204相同;
该第一重叠区2101的开口部2103的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L);
该第二重叠区2201的开口部2203的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L);
其中H是该第一非重叠区2102的开口部2104和该第二非重叠区2202的开口部2204的高度,X=L-M,L是该第一重叠区2101和该第二重叠区2201的长度,M是该第一重叠区2101和该第二重叠区2201距离该第一非重叠区2102或该第二非重叠区2202的距离。
其中开口部2104和开口部2204相同,表示其具有相同的形状和尺寸。
在其他实施方式中,可选第一重叠区2101的开口部2103的高度Y1满足Y1=Hcos2(πX/2L),同理,该第二重叠区2201的开口部2203的高度Y2满足Y2=Hsin2(πX/2L)。
具体实施时,可根据应用液晶显示器的尺寸设计光罩非重叠区开口部高度H,及重叠区的长度L,即非重叠区开口部高度H及重叠区域的长度L是已知或预设的数据。进一步的,将两个光罩重叠区2101和2201中开口部2103和2203呈符合三角函数平方的曲线变化,使得开口部的曝光量更平滑变化,能够实现消除后续液晶显示器中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
请继续参阅图2b,具体的,以该光罩220进行示例说明,其重叠区2201上开口部2203的变化趋势记为曲线22011,其呈三角函数平方如sin2(πX/2L)变化,且非重叠区域2202上开口部2204的变化趋势记为曲线(或直线)22021,其为直线常数H;同理,该光罩210重叠区2101上的开口部2103的变化趋势为曲线21011,其也呈三角函数平方如cos2(πX/2L)变化,且非重叠区2102上开口部2104的变化趋势记为曲线21021(图1b中未示出),其也为直线常数H。
其中该第一重叠区2101的开口部2103的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L),且该第二重叠区2201的开口部2203的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L),那么该第一光罩210和该第二光罩220重叠后,在彼此重叠区的开口部,对于相同位置(相同x)处满足叠加后的开口部高度为Y1+Y2=H,即与非重叠区域的开口部具有相同的高度,使得能够良好匹配现有的光照曝光工艺条件。
具体的,该第一非重叠区2102的开口部2104和该第二非重叠区2202的开口部2204是第一长方形;
该第一长方形的宽度方向与该第一方向Da相同;
该第一重叠区2101的开口部2103和该第二重叠区2201的开口部2203是第二长方形,且该第二长方形在该第一方向Da上的尺寸与该第一长方形的宽度相同。进而使得通过该第一光罩210和该第二光罩220彼此重叠的开口部2103和2203的有效曝光面积和尺寸与非重叠区2102或2203开口部2104或2204的曝光面积和尺寸相同,以使得通过该光罩210和该光罩220的衔接重叠区开口部的曝光量与非重叠区开口部的曝光量相同。
其中图2a中的第一重叠区2101和第二重叠区2201的开口部2103和3303具有对称布置形式,在其他实施方式中可选具有不对称布置形式。
请查阅图2c,图2c是图2a中两个光罩的重叠区开口部的布置形式不对称的结构示意图。如图2c所示,其中该第一重叠区2101的开口部2103均与该第一非重叠区2102的开口部2104具有相同的底边水平位置,而该第二重叠区2201的开口部2203具有关于第二光罩220水平中线自对称的布置形式。
进一步可选的,该第一重叠区2101的开口部2103中至少一个具有与该第一非重叠区2102的开口部2104具有相同的顶边水平位置;或该第二重叠区2201的开口部2203中至少一个具有与该第二非重叠区2202的开口部2204具有相同的底边或顶边水平位置,以使得第一重叠区2101的开口部2103与第二非重叠区2102的开口部2104具有对称或不对称的布置形式。
请查阅图2d,图2d是图2a中两个光罩的重叠区域开口部彼此重叠的结构示意图。如图2d所示,其中该第一重叠区2101的开口部2103均与该第一非重叠区2102的开口部2104具有相同的底边水平位置,且该第二重叠区2201的开口部2203也均与该第二非重叠区2202的开口部2204具有相同的底边水平位置,因此在该第一非重叠区2102的开口部2104与该第二非重叠区2202的开口部2204相同的情况下,在该第一光罩210和该第二光罩220重叠时,该第一重叠区2101的开口部2103与该第二重叠区2201的开口部2203彼此重叠。
其中,如图2a所示的该两个光罩210和220的重叠区的开口部也是彼此重叠的布置形式,如图2c所示的该两个光罩210和220的重叠区的开口部具有彼此部分重叠的布置形式。
请查阅图2e,图2e是图2a中两个光罩的重叠区域开口部彼此不重叠的结构示意图。如图2e所示,其中该第一重叠区2101的开口部2103均与该第一非重叠区2102的开口部2104具有相同的底边水平位置,但该第二重叠区2201的开口部2203均与该第二非重叠区2202的开口部2204具有相同的顶边水平位置,因此在该第一非重叠区2102的开口部2104与该第二非重叠区2202的开口部2204相同的情况下,在该第一光罩210和该第二光罩220重叠时,该第一重叠区2101的开口部2103与该第二重叠区2201的开口部2203彼此不重叠。
区别于现有技术的情况,本实施方式将两个光罩重叠区中开口部呈符合三角函数平方的曲线变化,使得开口部的曝光量更平滑变化,且在重叠区中相同位置满足Hsin2(πX/2L)+Hcos2(πX/2L)=H,即该两个光罩重叠后其重叠区开口部的曝光量与非重叠区开口部的曝光量相同,进而实现该两个光罩衔接的重叠区的曝光量与非重叠区的曝光量相同,使得后续液晶显示器中显示效果均匀,同时曲线变化的开口部能够实现消除后续液晶显示器中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
请参阅图3a,图3a是本发明提供的用于光配向的光罩装置第二实施方式的结构示意图。该光罩装置30包括:
第一光罩310和第二光罩320;
该第一光罩310包括第一重叠区3101和第一非重叠区3102;
该第二光罩320包括第二重叠区3201和第二非重叠区3202;
该第一重叠区3101和该第二重叠区3201彼此重叠;
该第一重叠区3101包括沿第一方向Da排列的多个透射的开口部3103;
该第一非重叠区3102包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部3104;
该第二重叠区3201包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部3203;
该第二非重叠区3202包括沿该第一方向Da排列的多个透射的开口部3204;
该第一非重叠区3102的开口部3104和该第二非重叠区3202的开口部3204相同;
该第一重叠区3101的开口部3103的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L);
该第二重叠区2201的开口部3203的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L);
其中H是该第一非重叠区3102的开口部3104和该第二非重叠区3202的开口部3204的高度,X=L-M,L是该第一重叠区3101和该第二重叠区3201的长度,M是该第一重叠区3101和该第二重叠区3201距离该第一非重叠区3102或该第二非重叠区3202的距离;
其中,该第一非重叠区3102的开口部3104和该第二非重叠区3202的开口部3204是第一长方形;
该第一长方形的宽度方向与该第一方向Da相同;
该第一重叠区3101的开口部3103和该第二重叠区3201的开口部3203是多个第三长方形,且该第三长方形在该第一方向Da上的尺寸与该第一长方形的宽度相同或不同。
其中第二重叠区3201上开口部3203的高度变化曲线32011(图3a中未示出)和第一重叠区3101上开口部3103的高度变化曲线31011(图3a中未示出),满足叠加后与第二非重叠区3202上开口部3204的高度相同,具体可参考上述第一实施方式中的相关内容,此处不再赘述。进而设置该多个第三长方形形成的开口部3103和3203的布置形式(如图3a所示的该第三长方形在第一方向上的尺寸与非重叠区3102或3202的开口部3104或3204的宽度相同),使得重叠后的该第一光罩310和第二光罩302的重叠区3101和3202的同一位置的曝光量与第一非重叠区3102和第二非重叠区3202的曝光量相同。
进一步的,该多个第三长方形的形状和尺寸相同或不同,其中图3a中以该多个第三长方形的形状和尺寸相同为示例。
请参阅图3b,图3b是图3a中两个光罩的重叠区域开口部包括多个长方形的一结构示意图。如图3b所示,以该多个第三长方形中至少两个第三长方形的形状和尺寸不相同为例进行说明,其中该第一重叠区3101和该第二重叠区3201的每个开口部3103和3203均包括多个形状和尺寸不相同的第三长方形,且使得重叠后的该第一光罩310和第二光罩302的重叠区3101和3202通过同一位置开口部3103和3203的曝光量与通过第一非重叠区3102和第二非重叠区3202的开口部3104和3204的曝光量相同。
其中,可选多个第三长方形中至少一个第三长方形在该第一方向Da上的尺寸与非重叠区开口部的第一长方形的宽度不同。
请参阅图3c,图3c是图3a中两个光罩的重叠区开口部包括多个长方形的另一结构示意图。如图3c所示,该第一重叠区3101和该第二重叠区3201的每个开口部3103和3203均包括多个形状和尺寸相同的第三长方形,且该第三长方形足够小,以使得组成的开口部3103和3203随机分布在对应的重叠区3101和3201,但满足使得重叠后的该第一光罩310和第二光罩302的重叠区3101和3202通过同一位置的开口部3103和3203的曝光量与通过第一非重叠区3102或第二非重叠区3202的开口部3104或3204的曝光量相同。
其中第三长方形可选包括但不限于是正方形的形状。
可选的,该随机分布的多个第三长方形是通过马赛克(mosaic)算法得到,具体实施时,预设该第三长方形的形状和尺寸,并选取需要设置开口部的高度Y1和Y2,进而通过马赛克算法可获得多个第三长方形随机分布组成重叠区域的开口部。
进一步的,该第一光罩310和该第二光罩的第一重叠区3101和第二重叠区3201的开口部3103和3203的布置形式对称或不对称。具体可参考上述第一实施方式中相关内容,此处不再赘述。
进一步可选的,该第一光罩310和该第二光罩320的第一重叠区3101和第二重叠区3201的开口部3103和3203彼此重叠或不重叠。具体可参考上述第一实施方式中相关内容,此处不再赘述。
区别于现有技术、上述第一实施方式的情况,本实施方式将两个光罩重叠区域中开口部设置为包括多个第三长方形的结构,如马赛克的布置形式,且重叠区开口部的高度变化符合三角函数平方的曲线变化,使得开口部的曝光量更平滑变化,且在重叠区域的相同位置满足Hsin2(πX/2L)+Hcos2(πX/2L)=H,即该两个光罩重叠后其重叠区开口部的曝光量与非重叠区开口部的曝光量相同,进而实现该两个光罩衔接的重叠区的曝光量与非重叠区的曝光量相同,使得后续液晶显示器中显示效果均匀,同时曲线变化的开口部能够实现消除后续液晶显示器中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
请参阅图4,图4是本发明提供的用于光配向的曝光设备第三实施方式的结构示意图。
其中该曝光设备40包括上述第一、第二实施方式中涉及的光罩装置410以及第一光源420和第二光源430;
该第一光源420用于向该第一光罩411的开口部提供光;
该第二光源430用于向该第二光罩412的开口部提供光。
其中该第一光源420和该第二光源430与现有曝光设备中配置相同,其可选设置于该曝光设备的侧面,并分别通过多个反射镜和偏振器以不同角度照射到该第一光罩411和该第二光罩412上。
在其他实施方式中可选只有一个光源,其通过多个反射镜及分束器使得光线分别以不同角度照射到该第一光罩410和该第二光罩420上。其与现有技术相同,此处不再赘述。
其中该第一光源和该第二光源是紫外光,与现有技术相同,此处不再赘述。
区别于现有技术、上述第一、二实施方式的情况,本实施方式将两个光罩重叠区域中开口部的高度变化分别符合三角函数平方的曲线变化,使得开口部的曝光量更平滑变化,且在重叠区域的相同位置满足Hsin2(πX/2L)+Hcos2(πX/2L)=H,即该两个光罩重叠后其重叠区开口部的曝光量与非重叠区域开口部的曝光量相同,进而实现该两个光罩衔接的重叠区的曝光量与非重叠区的曝光量相同,使得后续液晶显示器中显示效果均匀,同时曲线变化的开口部能够实现消除后续液晶显示器中带状mura的缺陷,提高产品的显示质量。
以上仅为本发明的实施方式,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (9)

1.一种用于光配向的光罩装置,其特征在于,包括:
第一光罩和第二光罩;
所述第一光罩包括第一重叠区和第一非重叠区;
所述第二光罩包括第二重叠区和第二非重叠区;
所述第一重叠区和所述第二重叠区彼此重叠;
所述第一重叠区包括沿第一方向排列的多个透射的开口部;
所述第一非重叠区包括沿所述第一方向排列的多个透射的开口部;
所述第二重叠区包括沿所述第一方向排列的多个透射的开口部;
所述第二非重叠区包括沿所述第一方向排列的多个透射的开口部;
所述第一非重叠区的开口部和所述第二非重叠区域的开口部相同;
所述第一重叠区的开口部的高度Y1满足Y1=Hsin2(πX/2L);
所述第二重叠区的开口部的高度Y2满足Y2=Hcos2(πX/2L);
其中H是所述第一非重叠区域的开口部和所述第二非重叠区域的开口部的高度,X=L-M,L是所述第一重叠区和所述第二重叠区的长度,M是所述第一重叠区和所述第二重叠区距离所述第一非重叠区或所述第二非重叠区的距离。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述第一非重叠区的开口部和所述第二非重叠区的开口部是第一长方形;
所述第一长方形的宽度方向与所述第一方向相同;
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部是第二长方形,且所述第二长方形在所述第一方向上的尺寸与所述第一长方形的宽度相同。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述第一非重叠区的开口部和所述第二非重叠区的开口部是第一长方形;
所述第一长方形的宽度方向与所述第一方向相同;
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部是多个第三长方形;且所述第三长方形的在所述第一方向上的尺寸与所述第一长方形的宽度相同或不同。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部是通过马赛克算法得到。
5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部彼此重叠。
6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部彼此不重叠。
7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述第一重叠区的开口部和所述第二重叠区的开口部的布置形式对称或不对称。
8.一种曝光设备,其特征在于,
所述曝光设备包括权利要求1至7任一项所述的光罩装置以及第一光源和第二光源;
所述第一光源用于向所述第一光罩的开口部提供光;
所述第二光源用于向所述第二光罩的开口部提供光。
9.根据权利要求8所述的曝光设备,其特征在于,
所述第一光源和所述第二光源是紫外光。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105068375A (zh) * 2015-09-01 2015-11-18 深圳市华星光电技术有限公司 用于光配向的光罩及光配向方法
CN106405891A (zh) * 2016-10-24 2017-02-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种马赛克区域拼接方法及系统
CN107167937A (zh) * 2017-06-01 2017-09-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩膜板、彩色滤光板及其显示面板
CN107807492A (zh) * 2016-09-06 2018-03-16 三星显示有限公司 利用曝光用掩膜的曝光方法
CN109270743A (zh) * 2018-11-13 2019-01-25 成都中电熊猫显示科技有限公司 用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI657324B (zh) * 2017-08-07 2019-04-21 財團法人金屬工業研究發展中心 自動對位設備之系統轉換參數優化方法
WO2019202551A1 (en) * 2018-04-19 2019-10-24 Eulitha A.G. Methods and systems for printing large periodic patterns by overlapping exposure fields

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001281669A (ja) * 2000-03-30 2001-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶配向膜とその製造方法、およびそれを用いた液晶表示装置とその製造方法
JP2002350858A (ja) * 2001-05-28 2002-12-04 Sony Corp 光配向装置
CN1534380A (zh) * 2003-03-28 2004-10-06 ̨������·����ɷ����޹�˾ 转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法
CN101390008A (zh) * 2006-01-26 2009-03-18 夏普株式会社 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置
CN103261955A (zh) * 2010-12-15 2013-08-21 株式会社V技术 取向处理装置及取向处理方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4334166B2 (ja) * 2001-08-01 2009-09-30 シャープ株式会社 液晶表示装置及び配向膜の露光装置及び配向膜の処理方法
WO2011089772A1 (ja) * 2010-01-25 2011-07-28 シャープ株式会社 露光装置、液晶表示装置及びその製造方法
KR101782013B1 (ko) * 2011-06-03 2017-10-24 삼성디스플레이 주식회사 노광 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법
CN103869547A (zh) * 2014-03-31 2014-06-18 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种光配向设备及其制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001281669A (ja) * 2000-03-30 2001-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶配向膜とその製造方法、およびそれを用いた液晶表示装置とその製造方法
JP2002350858A (ja) * 2001-05-28 2002-12-04 Sony Corp 光配向装置
CN1534380A (zh) * 2003-03-28 2004-10-06 ̨������·����ɷ����޹�˾ 转移光罩图形的方法与装置以及制造光罩的方法
CN101390008A (zh) * 2006-01-26 2009-03-18 夏普株式会社 液晶显示装置的制造方法和液晶显示装置
CN103261955A (zh) * 2010-12-15 2013-08-21 株式会社V技术 取向处理装置及取向处理方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180035864A (ko) * 2015-09-01 2018-04-06 센젠 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 광 배향용 광마스크 및 광 배향 방법
US10345696B2 (en) 2015-09-01 2019-07-09 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Photomask for optical alignment and optical alignment method
WO2017035909A1 (zh) * 2015-09-01 2017-03-09 深圳市华星光电技术有限公司 用于光配向的光罩及光配向方法
CN105068375B (zh) * 2015-09-01 2017-05-31 深圳市华星光电技术有限公司 用于光配向的光罩及光配向方法
KR102179033B1 (ko) * 2015-09-01 2020-11-16 티씨엘 차이나 스타 옵토일렉트로닉스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 광 배향용 광마스크 및 광 배향 방법
GB2556285B (en) * 2015-09-01 2020-11-11 Shenzhen China Star Optoelect Photomask for optical alignment and optical alignment method
GB2556285A (en) * 2015-09-01 2018-05-23 Shenzhen China Star Optoelect Photomask for optical alignment and optical alignment method
JP2018526678A (ja) * 2015-09-01 2018-09-13 深▲セン▼市華星光電技術有限公司 光配向に用いられるフォトマスク及び光配向の方法
CN105068375A (zh) * 2015-09-01 2015-11-18 深圳市华星光电技术有限公司 用于光配向的光罩及光配向方法
CN107807492A (zh) * 2016-09-06 2018-03-16 三星显示有限公司 利用曝光用掩膜的曝光方法
CN107807492B (zh) * 2016-09-06 2022-09-30 三星显示有限公司 利用曝光用掩膜的曝光方法
CN106405891A (zh) * 2016-10-24 2017-02-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种马赛克区域拼接方法及系统
CN107167937A (zh) * 2017-06-01 2017-09-15 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩膜板、彩色滤光板及其显示面板
CN109270743A (zh) * 2018-11-13 2019-01-25 成都中电熊猫显示科技有限公司 用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组
CN109270743B (zh) * 2018-11-13 2024-02-13 成都京东方显示科技有限公司 用于光配向的掩膜板及用于光配向的掩膜组

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