CN104766933A - 一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，解决了通过现有的隔离柱形成的多个条状第一电极中相邻的两个条状电极容易导通的问题。一种隔离柱，包括第一材料图案以及位于第一材料图案上面的第二材料图案，第一材料图案包括相对的上表面、下表面以及位于上表面和下表面之间相对的第一隔离侧面和第二隔离侧面，第二材料图案包括相对的上表面和下表面，第一材料图案的上表面与第二材料图案的下表面直接接触，第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在第二材料图案下表面所在平面的投影位于第二材料图案下表面的边缘之间。应用于PMOLED显示面板及其制作方法。

Description

一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置。
背景技术
目前，在平板显示技术中，有机发光二极管具有自发光性、高对比度、高反应速度、广视角等优点，在平板显示技术中发挥着越来越重要的作用。作为新一代显示器件，OLED(Organic Light-EmittingDiode,有机发光二极管)在显示器、MP3、电视、手机等数码产品以及军事领域都有广阔的发展空间和应用前景。
OLED的驱动方式主要有有源驱动和无源驱动两种方式。驱动控制电路是有源发光二极管中必不可少的重要组成部分，其性能的优劣直接关系到整个系统性能的好坏，因此，高性能的驱动控制电路的设计在有源驱动的OLED显示设计中起着举足轻重的作用，有源驱动的OLED的制作复杂、成本高。而采用无源驱动的OLED具有制作简单、低成本等优点。
无源驱动的OLED的显示面板如图1、图3所示，包括形成在衬底基板1上的多个条状的第一电极5、多个条状的第二电极3、向第一电极5输入电流信号的第一信号线51、向第二电极3输入电流信号的第二信号线31、位于第一电极5和第二电极3之间的发光功能层4、钝化层2、以及隔离柱6。OLED显示面板的驱动原理如图1、图2所示，第一电极5和第二电极3的交叉区域形成一个显示单元，通过控制向不同行第一电极3和不同列的第二电极5输入的驱动电流，控制各显示单元的显示。
如图1、图3所示，钝化层2用于使得位于钝化层2下面的第一信号线51、第二信号线31与位于钝化层2上面的第一电极5或第二电极3绝缘。由于第一电极形成在发光功能层4的上面，其一般只能采用蒸镀法形成，而直接蒸镀导电材料形成的第一电极为一个平面电极，为了形成多个条状的第一电极，在蒸镀导电材料之前形成隔离柱，使得蒸镀导电材料时在隔离柱处断开，形成条状的第一电极。
如图3所示，为了使得蒸镀第一电极时，第一电极在隔离柱断开，现有技术中一般将隔离柱设置为倒梯形。形成的倒梯形夹角一般很小，则很容易在隔离柱的侧面沉积导电材料，从而使得相邻的第一电极导通，显示面板无法正常显示。
发明内容
本发明的实施例提供一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置，所述隔离柱用于蒸镀形成电极时，使得电极自动在隔离柱处断开，本发明实施例中的隔离柱包括第一材料图案以及位于所述第一材料图案上面的第二材料图案，通过使得蒸镀形成的电极表面低于第一材料图案的上表面，从而使得蒸镀形成的电极与第二材料图案侧面的电极绝缘，避免电极之间电连接。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案；
一方面，本发明实施例提供了一种隔离柱，包括第一材料图案以及位于所述第一材料图案上面的第二材料图案，其中，所述第一材料图案包括相对的上表面、下表面以及位于所述上表面和所述下表面之间相对的第一隔离侧面和第二隔离侧面，所述第二材料图案包括相对的上表面和下表面，其中，所述第一材料图案的上表面与所述第二材料图案的下表面直接接触，且所述第一材料图案的所述第一隔离侧面和所述第二隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影位于所述第二材料图案下表面的边缘之间。
另一发面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的多个隔离柱以及位于相邻两个隔离柱之间的第一电极，其中，所述隔离柱为本发明实施例提供的任一所述的隔离柱，所述第一电极包括上表面和下表面，所述第一电极上表面所在平面低于所述隔离柱的第一材料图案的上表面所在平面。
另一方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的所述显示面板。
再一方面，本发明实施例提供了一种隔离柱的制作方法，包括：
沉积第一材料形成第一材料层；
沉积第二材料形成第二材料层；
利用干刻工艺或光刻工艺对所述第二材料层进行构图使所述第二材料层图形化，图形化后形成的第二材料图案包括第二材料层去除区域和第二材料层保留区域；
利用刻蚀液刻蚀位于所述第二材料层去除区域以及部分第二材料层保留区域的第一材料层，其中所述刻蚀液刻蚀所述第二材料层且不刻蚀所述第一材料层。
本发明的实施例提供一种隔离柱及其制作方法、显示面板及显示装置，隔离柱主要用于在蒸镀形成电极时，使得电极自动在隔离柱处断开。本发明实施例中的隔离柱包括第一材料图案以及位于所述第一材料图案上面的第二材料图案，且蒸镀形成的电极表面低于第一材料图案的上表面，从而使得蒸镀形成的电极与第二材料图案侧面的电极绝缘，避免电极之间电连接。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的PMOLED显示面板示意图；
图2为图1所示显示面板的等效电路图；
图3为图1所示的A-A′向示意图；
图4为本发明实施例提供的一种隔离柱示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种隔离柱示意图；
图6为本发明实施例提供的另一种隔离柱示意图；
图7为本发明实施例提供的一种条状隔离柱的示意图；
图8为本发明实施例提供的一种显示面板示意图；
图9为本发明实施例提供的一种隔离柱的制作方法示意图；
图10为在基板上沉积形成第一材料层和第二材料层的示意图；
图11为对第二材料层进行构图后的示意图；
图12为以第二材料层进行掩膜刻蚀第一材料图案后的示意图；
图13为本发明实施例提供的另一种隔离柱的制作方法示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种隔离柱的制作方法示意图；
图15为本发明实施例提供的另一种隔离柱的制作方法示意图；
图16为在基板上形成绝缘图案的示意图；
图17为在第一材料层上形成过孔的示意图；
图18为沉积第二材料层的示意图；
图19为对第二材料层进行构图后的示意图；
图20为湿法刻蚀第一材料层后的示意图。
附图标记：
1-衬底基板；2-钝化层；3-第二电极；4-发光功能层；5-第一电极；6-隔离柱；31-第二信号线；51-第一信号线；61-第一材料图案；610-第一材料层；611-第一隔离侧面；612-第二隔离侧面；613-第一部分；614-第二部分；62-第二材料图案；620-第二材料层；621-第二材料图案的上表面；622-第二材料图案的下表面；63-绝缘图案；630-绝缘层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明所有实施例中，需要阐明“层”以及“图案”的定义，以及之间的关系。其中，“层”是指利用某一种材料在基板上利用沉积或其他工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“层”还需构图工艺，则在构图工艺前称为“层”，构图工艺后称为“图案”。
所谓“构图工艺”是将薄膜形成包含至少一个图案的层的工艺；而构图工艺通常包含：在薄膜上涂胶，利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，再利用显影液将需去除的光刻胶冲蚀掉，再刻蚀掉未覆盖光刻胶的薄膜部分，最后将剩下的光刻胶剥离。
本发明实施例提供了一种隔离柱6，如图4所示，包括第一材料图案61以及位于第一材料图案61上面的第二材料图案62，其中，第一材料图案61包括相对的上表面、下表面以及位于上表面和下表面之间相对的第一隔离侧面611和第二隔离侧面612，第二材料图案62包括相对的上表面621和下表面622，其中，第一材料图案61的上表面与第二材料图案62的下表面622直接接触，且第一材料图案61的第一隔离侧面611和第二隔离侧面612在第二材料图案62下表面622所在平面的投影位于第二材料图案62下表面622的边缘之间。
第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在第二材料图案下表面的投影位于第二材料图案下表面的边缘之间，即第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面缩进在第二材料图案的下表面。
需要说明的是，本发明实施例提供的隔离柱，主要用于在蒸镀形成电极时，使得电极自动在隔离柱处断开。一方面，通过所述隔离柱蒸镀形成的电极在隔离柱自动断开，且蒸镀形成的电极表面低于第一材料图案的上表面，从而使得蒸镀形成的电极与第二材料图案侧面的电极绝缘，避免电极之间电连接；另一方面，第一材料图案缩进第二材料图案的下表面，使得蒸镀形成的电极与第一材料图案不接触。在第二材料图案下表面为平面的情况下，所述第二材料图案下表面所在平面即为所述第二材料图案的下表面。
优选的，第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案下表面边缘的最小距离不小于1微米。具体的，如图4所示，第一材料图案61的第一隔离侧面611在第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案62的下表面622边缘的最小距离d1不小于1微米，即d1≥1μm；第一材料图案61的第二隔离侧面612在第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案62的下表面622边缘的最小距离d2不小于1微米，即d2≥1μm。
需要说明的是，本发明实施例及附图以第一材料图案为长方体，则其第一隔离侧面和第二隔离侧面为平面为例进行详细说明。由于在制作过程中，不可能形成绝对的平面，则所述第一材料图案的第一隔离侧面距离第二材料图案下表面边缘的最小距离，可以为第一隔离侧面距离第二材料图案下表面边缘的所有的距离中的最小距离。
进一步优选的，第一材料图案的第一隔离侧面在第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案下表面边缘的最小距离等于第二隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案下表面边缘的最小距离。及如图4所示，第一材料图案61的第一隔离侧面611在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案62的下表面622边缘的最小距离d1等于第一材料图案61的第二隔离侧面612在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离第二材料图案62的下表面622边缘的最小距离d2。即若第一材料图案和第二材料图案对称，则优选使得第一材料图案和第二材料图案的对称轴重合。
可选的，形成第一材料图案的材料为导电材料，形成第二材料图案的材料为绝缘材料。具体的，形成第一材料图案的材料可以是ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)、也可以是金属等导电材料。形成第二材料图案的材料可以是树脂、氧化硅、氮化硅等绝缘材料。进一步的，形成第二材料图案的材料为感光树脂，则第二材料图案可以通过光刻形成。本发明实施例中均以形成第一材料图案的材料为金属、形成第二材料图案的材料为树脂为例进行详细说明。则即使形成第一材料图案的材料为金属材料，由于第一材料图案缩进第二材料图案的下表面，则蒸镀形成的电极与第一材料图案不接触，避免通过第一材料图案发生不必要的电连接。
可选的，如图5所示，隔离柱6还包括位于第一材料图案61下面的绝缘图案63，绝缘图案63包括相对的上表面和下表面；绝缘图案63的上表面与第一材料图案61的下表面直接接触；
其中，第一材料图案61的第一隔离侧面611和第二隔离侧面612位于绝缘图案63的第一隔离侧面631和第二隔离侧面632之间。
第一材料图案61的第一隔离侧面和第二隔离侧面位于绝缘图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面之间，即第一材料图案的侧面缩进所述绝缘图案下表面。这样，若绝缘图案下面形成有导电层，第一材料图案为导电层的情况下，可以通过绝缘图案与绝缘图案下面的第一材料图案绝缘。
优选的，第一材料图案上形成有过孔，过孔将第一材料图案分成互不接触的两部分，第一隔离侧面和第二隔离侧面分别位于两部分。具体的，如图6所示，过孔将第一材料图案分成第一部分613和第二部分614，其中，第一材料图案的第一隔离侧面611位于第一部分613，第一材料图案的第二隔离侧面612位于第二部分614。过孔将第一材料图案分成互不接触的两部分，则隔离柱两侧的第一电极即使与第一材料图案接触，也不能实现电连接，进一步保证了第一电极之间互不接触。
进一步的，如图4-图6所示，第二材料图案62的上表面621的边缘位于下表面622的边缘之间。即第二材料图案为正梯形，这样第二材料图案通过正常的干刻、光刻、湿刻的工艺形成，相比于形成倒梯形的制作更为简单。
可选的，隔离柱为条状，第一隔离侧面和第二隔离侧面为沿隔离柱长轴方向的侧面。如图7所示，隔离柱的长轴沿101方向，以第一材料图案的第一隔离侧面611和第二材料图案的第二隔离侧面612为例，其均为沿101方向的侧面。
本发明实施例提供了一种显示面板，如图8所示，包括衬底基板1以及形成在衬底基板1上的多个隔离柱6以及位于相邻两个隔离柱6之间的第一电极5，其中，隔离柱6为本发明实施例提供的任一种隔离柱(图8仅以一种为例)，第一电极5包括上表面和下表面，第一电极5上表面所在平面低于隔离柱6的第一材料图案61的上表面所在平面。即如图8所示，在第一电极5和第一材料图案61的上表面均为平面的情况下，第一电极5的上表面与第一材料图案61的上表面的距离为c。
需要说明的是，本发明实施例中，所述第一电极的上表面所在平面低于隔离柱的第一材料图案的上表面所在平面，是以基板为基准面，在基板上形成隔离柱的方向上，第一电极上表面低于第二材料图案的上表面。
本发明实施例提供的一种显示面板，包括本发明实施例提供的隔离柱以及第一电极，一方面，第一电极的上表面所在平面低于隔离柱的第一材料图案的上表面所在平面，则即使隔离柱第二材料图案的侧面沉积有电极，第一电极也不能与其接触；另一方面，第一材料图案缩进第二材料图案的下表面，则即使第一电极层为导电层，蒸镀形成的第一电极与第一材料图案也不接触。
进一步的，第一电极上表面与隔离柱的第一材料图案的上表面的距离差不小于400纳米。即图8所示的第一电极上表面与隔离柱的第一材料图案的上表面的距离c≥400nm。以保证第一电极的上表面所在平面低于隔离柱第一材料图案的上表面所在平面，防止第一电极的上表面与隔离柱第二材料图案侧面沉积的电极接触电连接，导致多条第一电极之间导通。
可选的，如图8所示，显示面板还包括：第二电极3以及位于第一电极5和第二电极3之间的发光功能层4，其中，第二电极3位于第一电极5和隔离柱6的下面，且第二电极3通过隔离柱6的绝缘图案63与隔离柱6的第一材料图案61绝缘。由于第一材料图案可以采用导电金属形成，则为了防止第一材料图案与第二电极电连接，第一材料图案和第二电极之间还形成有绝缘图案。
可选的，本发明实施例提供的显示面板为无源驱动的OLED显示面板。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的任一所述的显示面板。所述显示装置可以为OLED显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
本发明实施例提供了一种隔离柱的制作方法，如图9所示，包括：
步骤101、沉积第一材料形成第一材料层。
步骤102、沉积第二材料形成第二材料层。如图10所示，依次在基本1上沉积第一材料层610和第二材料层620。
步骤103、利用干刻工艺或光刻工艺对第二材料层进行构图使第二材料层图形化，图形化后形成的第二材料图案包括第二材料层去除区域和第二材料层保留区域。
图形化后形成的第二材料图案62如图11所示，第二材料层的部分被去除。具体干刻或光刻对第二材料层进行构图可以根据现有的干刻工艺或光刻工艺进行，本发明实施例在这里不作赘述。
步骤104、利用刻蚀液刻蚀位于第二材料层去除区域以及部分第二材料层保留区域的第一材料层，其中刻蚀液刻蚀第二材料层且不刻蚀第一材料层。
如图12所示，以第二材料图案62进行掩膜，利用刻蚀液刻蚀对应第二材料层去除区域的第一材料层，以形成隔离柱。具体可以通过控制刻蚀时间，控制第一材料层缩进第二材料图案的距离。
可选的，在形成第一材料图案的材料为导电材料的情况下，如图13所示，在上述步骤101之前，方法还包括：
步骤105、形成绝缘图案，其中，绝缘图案包括相对的上表面和下表面；
其中，第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在绝缘图案上表面所在平面的投影位于绝缘图案上表面的边缘之间。
即在基板上形成绝缘图案之后，再在形成有绝缘图案的基板上沉积第一材料、第二材料，利用刻蚀工艺再形成隔离柱。具体形成绝缘图案可以是通过光刻、干刻等工艺形成，本发明实施例在这里不作赘述。
优选的，如图14所示，在上述步骤101之后，在上述步骤102之前，所述方法还包括：
步骤106、对第一材料层进行构图，在第一材料层上形成过孔，过孔将隔离柱的第一材料图案分成互不接触的两部分。形成后的隔离柱如图6、图7所示。
上述步骤106具体包括：
步骤1061、在第一材料层上形成光刻胶。
步骤1062、利用掩膜板对光刻胶进行曝光和显影，显影后形成光刻胶保留部分和光刻胶去除部分，其中，光刻胶去除部分对应过孔区域。
步骤1063、利用湿法或干法刻蚀光刻胶去除部分的第一材料层以形成过孔。
步骤1064、将光刻胶去除。
下面，本发明实施例提供一具体的制作示意图，详细说明采用制作方法形成如图5、图6所示的隔离柱的步骤。如图15所示，所述方法包括：
步骤201、如图16所示，在基板1上形成绝缘图案63。具体可以通过干法刻蚀或湿法刻蚀的工艺形成如图16所示的绝缘图案63。
步骤202、沉积第一材料形成第一材料层，并对第一材料图案进行构图，在第一材料层上形成过孔。具体采用上述步骤1061-1064形成如图17所示的第一材料层610。
这里需要说明的是，对第一材料层进行构图，具体可以是通过感光树脂作为光刻胶进行构图，在形成第一材料层时，将作为光刻胶的感光树脂剥离。
步骤203、如图18所示，沉积形成第二材料形成第二材料层620。具体的，第二材料层可以是树脂材料。形成第二材料层的树脂材料，相对于对第一材料层进行构图的感光树脂具有更好的耐热、耐高温的化学性质。
步骤204、利用干刻工艺或光刻工艺对第二材料层进行构图使第二材料图案图形化，如图19所示，图形化后形成的第二材料图案包括第二材料层去除区域和第二材料层保留区域。
步骤205、如图20所示，利用刻蚀液刻蚀位于第二材料层去除区域以及部分第二材料层保留区域的第一材料层。
通过上述步骤201-步骤205形成的隔离柱如图5、图6所示。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (18)

1.一种隔离柱，其特征在于，包括第一材料图案以及位于所述第一材料图案上面的第二材料图案，其中，所述第一材料图案包括相对的上表面、下表面以及位于所述上表面和所述下表面之间相对的第一隔离侧面和第二隔离侧面，所述第二材料图案包括相对的上表面和下表面，其中，所述第一材料图案的上表面与所述第二材料图案的下表面直接接触，且所述第一材料图案的所述第一隔离侧面和所述第二隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影位于所述第二材料图案下表面的边缘之间。
2.根据权利要求1所述的隔离柱，其特征在于，所述第一材料图案的所述第一隔离侧面和所述第二隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离所述第二材料图案下表面边缘的最小距离不小于1微米。
3.根据权利要求2所述的隔离柱，其特征在于，所述第一材料图案的所述第一隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离所述第二材料图案下表面边缘的最小距离等于所述第二隔离侧面在所述第二材料图案下表面所在平面的投影距离所述第二材料图案下表面边缘的最小距离。
4.根据权利要求1所述的隔离柱，其特征在于，形成所述第一材料图案的材料为导电材料，形成所述第二材料图案的材料为绝缘材料。
5.根据权利要求1-4任一项所述的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱还包括位于所述第一材料图案下面的绝缘图案，所述绝缘图案包括相对的上表面和下表面；所述绝缘图案的上表面与所述第一材料图案的下表面直接接触；
其中，所述第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在所述绝缘图案上表面所在平面的投影位于所述绝缘图案上表面的边缘之间。
6.根据权利要求1-3任一项所述的隔离柱，其特征在于，所述第一材料图案上形成有过孔，所述过孔将所述第一材料图案分成互不接触的两部分，所述第一隔离侧面和所述第二隔离侧面分别位于所述两部分。
7.根据权利要求4所述的隔离柱，其特征在于，所述第一材料为金属，所述第二材料为感光树脂。
8.根据权利要求1所述的隔离柱，其特征在于，所述第二材料图案的上表面的边缘位于所述第二材料图案的下表面的边缘之间。
9.根据权利要求1所述的隔离柱，其特征在于，所述隔离柱为条状，所述第一隔离侧面和所述第二隔离侧面为沿所述隔离柱长轴方向的侧面。
10.一种显示面板，其特征在于，包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上的多个隔离柱以及位于相邻两个隔离柱之间的第一电极，其中，所述隔离柱为权利要求1-9任一项所述的隔离柱，所述第一电极包括上表面和下表面，所述第一电极上表面所在平面低于所述隔离柱的第一材料图案的上表面所在平面。
11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述第一电极上表面所在平面与所述隔离柱的第一材料图案的上表面所在平面的距离差不小于400纳米。
12.根据权利要求10或11所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：第二电极以及位于所述第一电极和所述第二电极之间的发光功能层，其中，所述第二电极位于所述第一电极和所述隔离柱的下面，且所述第二电极通过所述隔离柱的绝缘图案与所述隔离柱的第一材料图案绝缘。
13.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为无源驱动的OLED显示面板。
14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求10-13任一项所述的显示面板。
15.一种隔离柱的制作方法，其特征在于，包括：
沉积第一材料形成第一材料层；
沉积第二材料形成第二材料层；
利用干刻工艺或光刻工艺对所述第二材料层进行构图使所述第二材料层图形化，图形化后形成的第二材料图案包括第二材料层去除区域和第二材料层保留区域；
利用刻蚀液刻蚀位于所述第二材料层去除区域以及部分第二材料层保留区域的第一材料层，其中所述刻蚀液刻蚀所述第二材料层且不刻蚀所述第一材料层。
16.根据权利要求15所述的制作方法，其特征在于，在形成所述第一材料图案的材料为导电材料的情况下，在沉积第一材料形成第一材料层之前，所述方法还包括：
形成绝缘图案，其中，所述绝缘图案包括相对的上表面和下表面；
其中，所述第一材料图案的第一隔离侧面和第二隔离侧面在所述绝缘图案上表面所在平面的投影位于所述绝缘图案上表面的边缘之间。
17.根据权利要求15或16所述的制作方法，其特征在于，在沉积第一材料形成第一材料层之后，在沉积第二材料形成第二材料层之前，所述方法还包括：
对所述第一材料层进行构图，在所述第一材料层上形成过孔，所述过孔将所述隔离柱的第一材料图案分成互不接触的两部分。
18.根据权利要求17所述的制作方法，其特征在于，所述对所述第一材料层进行构图，在所述第一材料层上形成过孔具体包括：
在所述第一材料层上形成光刻胶；
利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光和显影，显影后形成光刻胶保留部分和光刻胶去除部分，其中，所述光刻胶去除部分对应所述过孔区域；
利用湿法或干法刻蚀所述光刻胶去除部分的第一材料层以形成过孔；
将所述光刻胶去除。
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