CN104765195A - 一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置，主要内容包括：通过在彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置至少一个凹槽，该凹槽对应阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，每个凹槽在阵列基板上的垂直投影能够覆盖与自身对应的交叉跨接结构，每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。从而，使得具有交叉跨接结构处的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，保证透明衬垫在该位置处有足够的容纳空间，不致于在对位贴合时对该交叉跨接结构的严重挤压，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

Description

一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

现有的液晶显示面板中，尤其针对窄边框设计的液晶显示面板而言，为了节省布线空间，阵列基板1a边框区域有可能会布设有各种金属线，甚至是由两条金属线(金属线1b和金属线1c)绝缘交叠形成的交叉跨接结构1d。如图1所示，当在边框区域涂布掺杂有透明衬垫1e的封框胶，并将上、下基板对位贴合之后，透明衬垫有可能会正好位于交叉跨接结构处，由于该交叉跨接结构的存在，使得该位置处与对侧基板1f之间的空隙间距较小，而且透明衬垫的体积较小，在对位贴合时，很容易对该交叉跨接结构造成严重挤压，导致本来应该处于绝缘交叠的两条金属线短路连接。

发明内容

本发明实施例提供一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置，用以解决现有技术中存在的由于边框区域存在的金属线交叉跨接结构被透明衬垫挤压而导致上、下金属线短路的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

一种液晶显示面板，包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，

针对所述液晶显示面板中涂布有封框胶的区域，在所述彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置有至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖与自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。

优选地，所述彩膜基板包括：

彩膜基底；

位于彩膜基底之上的具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层；

覆盖所述黑矩阵膜层的保护膜层。

优选地，所述彩膜基板包括：

彩膜基底；

位于彩膜基底之上的黑矩阵膜层；

位于所述黑矩阵膜层之上的具有至少一个凹槽结构的保护膜层。

优选地，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的图案为矩形、圆形或三角形。

优选地，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度范围为：380nm～500nm。

优选地，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度为500nm。

优选地，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的尺寸面积与所述交叉跨接结构的尺寸面积的比例范围为：1.2～2。

一种液晶显示面板的制作方法，包括：制作一阵列基板以及一彩膜基板，将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，形成液晶显示面板，所述彩膜基板的制作方法包括：在待涂布封框胶的区域形成至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于所述交叉跨接结构的高度。

优选地，所述彩膜基板的制作方法具体包括：

提供一彩膜基底；

在所述彩膜基底之上形成具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层；

在所述黑矩阵膜层之上形成保护膜层。

优选地，所述彩膜基板的制作方法具体包括：

提供一彩膜基底；

在所述彩膜基底之上形成黑矩阵膜膜层；

在所述黑矩阵膜层之上形成具有至少一个凹槽结构的保护膜层。

一种显示装置，包括所述的液晶显示面板。

在本发明实施例中，通过在彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置至少一个凹槽，该凹槽对应阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，而且，每个凹槽在阵列基板上的垂直投影能够覆盖与自身对应的交叉跨接结构，每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。从而，使得具有交叉跨接结构处的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距保持一致，保证透明衬垫在该位置处有足够的容纳空间，不致于在对位贴合时由于空隙间距小而造成对该交叉跨接结构的严重挤压，进一步，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中上下基板对位贴合时对交叉跨接结构造成挤压的效果示意图；

图2为本发明实施例提供的一种液晶显示面板中涂布有封框胶的边框区域的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的黑矩阵膜层的结构示意图；

图4为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的保护膜层的结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程示意图；

图6(a)为本发明实施例提供的阵列基板的示意图；

图6(b)为本发明实施利用方式一制作彩膜基板的工艺示意图；

图6(c)为本发明实施利用方式二制作彩膜基板的工艺示意图；

图6(d)为将利用方式一得到的彩膜基板与阵列基板对位贴合的工艺示意图；

图6(e)为将利用方式二得到的彩膜基板与阵列基板对位贴合的工艺示意图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明实施例中，通过在彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置至少一个凹槽，该凹槽对应阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，而且，每个凹槽在阵列基板上的垂直投影能够覆盖与自身对应的交叉跨接结构，每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。从而，使得具有交叉跨接结构处的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距保持一致，保证透明衬垫在该位置处有足够的容纳空间，不致于在对位贴合时由于空隙间距小而造成对该交叉跨接结构的严重挤压，进一步，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

下面通过具体的实施例对本发明的技术方案进行详细描述，本发明包括但并不限于以下实施例。

考虑到该边框区域涂布掺杂有透明衬垫的封框胶，其中，透明衬垫起到支撑作用。因此，边框区域的任意位置都可能分布有透明衬垫，为了避免现有技术中存在的位于交叉跨接结构处的透明衬垫的严重挤压造成的短路现象，本发明对现有的液晶显示面板作如下方案中的改进。

本发明实施例提供了一种液晶显示面板，如图2所示，为本发明实施例提供的一种液晶显示面板中涂布有封框胶的边框区域的剖面结构示意图，由图2可知，该液晶显示面板包括：阵列基板1，与阵列基板1相对设置的彩膜基板2，在彩膜基板2中靠近阵列基板1的一侧设置有至少一个凹槽21，每个凹槽21对应所述阵列基板1中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构11，其中，所述每个凹槽21在所述阵列基板1上的垂直投影覆盖与自身对应的交叉跨接结构11，且所述每个凹槽21在垂直阵列基板方向上的深度h1不小于自身对应的交叉跨接结构的高度h2。

通过上述改进方案，使得液晶显示面板中，具体到边框区域的每个交叉跨接结构处，在彩膜基板一侧均设置有一个凹槽，且凹槽的深度不小于相对应的交叉跨接结构的高度，凹槽在阵列基板上的垂直投影能够完全覆盖相对应的交叉跨接结构，从而，保证了具有交叉跨接结构的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，在该交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

进一步，在本发明实施例中，彩膜基板中的凹槽结构在平行于彩膜基板方向上的位置已经固定，由上可知，是根据相对应的交叉跨接结构确定的，但是，凹槽结构在垂直于彩膜基板方向上的位置，可以由以下两种结构体现：

结构一：

如图3所示，为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的黑矩阵膜层的结构示意图，该彩膜基板3包括：彩膜基底31，位于彩膜基底31之上的具有至少一个凹槽结构32的黑矩阵膜层33，覆盖所述黑矩阵膜层33的保护膜层34。

在该彩膜基板3中，通过在黑矩阵膜层33设置至少一凹槽结构32，进而，覆盖在黑矩阵膜层33之上的保护膜层34也会相应形成至少一凹槽结构32，这样，相当于黑矩阵膜层33的凹槽结构32间接体现在了保护膜层34上，总之，在彩膜基板3上形成了能够与对侧的阵列基板中的交叉跨接结构(可等同一凸起结构)相对应的凹槽结构32，进而，能够保证该彩膜基板3后续与对侧的阵列基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，由于该凹槽结构32的存在，使得在交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

结构二：

如图4所示，为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的保护膜层的结构示意图，该彩膜基板4包括：彩膜基底41，位于彩膜基底41之上的黑矩阵膜层43，覆盖所述黑矩阵膜层43的具有至少一凹槽结构42的保护膜层44。

考虑到在黑矩阵膜层设置凹槽结构时，如果对侧阵列基板上与该凹槽结构相对应的交叉跨接结构的高度较高，以至交叉跨接结构的高度非常接近黑矩阵膜层的厚度，那么，若仍在黑矩阵膜层设置凹槽结构的话，必定会对黑矩阵膜层造成严重损坏，甚至会导致黑矩阵膜层漏光，影响液晶显示面板的显示效果。因此，上述结构一比较适合交叉跨接结构的高度较低的情况，而结构二并不关心交叉跨接结构的高度，而是对所有涉及现有技术中交叉跨接结构的方案都适用，最为关键的是，结构二中的凹槽设置位置，同样可以达到如结构一中凹槽设置位置的效果，即：能够保证该彩膜基板4后续与对侧的阵列基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，由于该凹槽结构42的存在，使得在交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。

此外，需要说明的是，对于凹槽的设置位置在黑矩阵膜层还是在保护膜层，本发明并不进行限定，为了能够达到避免短路的问题，凹槽可以设置在黑矩阵膜层，也可以设置在保护膜层，其实，在不考虑工艺实现要求的情况下，针对同一凹槽结构，也可以部分设置在黑矩阵膜层，部分设置在保护膜层，或者，任意几个凹槽设置在黑矩阵膜层，其他凹槽设置在保护膜层。但是，为了实现本发明的技术效果的同时，不增加制作工艺难度，本发明仍以结构一和结构二的两种结构为主。

优选地，在本发明实施例中，由于绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构的图案一般为矩形、圆形、三角形等图案，因此，对侧相应形成的凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的图案也可以为矩形、圆形或三角形。

考虑到在阵列基板中布设的金属线的厚度有限，一般在340nm～460nm之间，因此，在彩膜基板侧设置的凹槽在垂直阵列基板方向上的深度范围为：380nm～500nm。优选地，在彩膜基板侧设置的凹槽在垂直阵列基板方向上的最佳深度为500nm。

在本发明实施例中，彩膜基板侧设置的凹槽在阵列基板方向上的垂直投影覆盖与自身相对应的交叉跨接结构，然而，在可接受误差允许的情况下，对位贴合会存在一定偏差，因此，为了保证对位贴合偏差存在的情况下，彩膜基板侧设置的凹槽在阵列基板方向上的垂直投影仍能够覆盖与自身相对应的交叉跨接结构，优选地，彩膜基板侧设置的凹槽结构在阵列基板上的垂直投影的尺寸面积与交叉跨接结构的尺寸面积的比例范围为：1.2～2。

在上述实施例中，任意两条绝缘交叠的金属线形成交叉跨接结构，其中，任意两条绝缘交叠的金属线可以是Vss信号线与时钟信号线，例如：Vss信号线与时钟信号线1形成交叉跨接结构1，Vss信号线与时钟信号线2形成交叉跨接结构2，或者，时钟信号线1与时钟信号线2形成交叉跨接结构3，诸如此类，在此不做赘述。

与本发明上述实施例提供的一种液晶显示面板属于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板的制作方法。

如图5所示，为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程示意图，该方法主要包括以下步骤：

步骤51：制作一阵列基板。

在本步骤51中，阵列基板的制作方法与现有技术类似，在此不做赘述。需要说明的是，本发明所涉及的液晶显示面板为窄边框设计，因此，如图6(a)所示，阵列基板61侧的布线，尤其是绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构611会出现在边框区域。

步骤52：制作一彩膜基板，在所述彩膜基板的待涂布封框胶的区域形成至少一个凹槽结构，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构。

其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于所述交叉跨接结构的高度。

首先，需要说明的是，本步骤52与上述步骤51的顺序可调，即可先制作彩膜基板，再制作阵列基板，本发明并不对两个基板制作的先后顺序进行限定。

其次，在本步骤52中，彩膜基板可以通过以下两种方式制作：

方式一：

提供一彩膜基底，在彩膜基底之上形成具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层，在所述黑矩阵膜层之上形成保护膜层。

如图6(b)所示，首先，提供一彩膜基底62，其中，该彩膜基底62可以是玻璃基底或石英基底等。然后，在彩膜基底62上，可以通过PEVCD等沉积工艺形成覆盖整个彩膜基底62的黑矩阵膜层621。接着，利用半透掩膜版63对黑矩阵膜层621进行曝光、显影，形成具有至少一个凹槽结构622的黑矩阵膜层623。最后，在黑矩阵膜层623之上形成覆盖整个彩膜基底62的保护膜层624。

方式二：

提供一彩膜基底，在所述彩膜基底之上形成黑矩阵膜膜层，在所述黑矩阵膜层之上形成具有至少一个凹槽结构的保护膜层。

如图6(c)所示，首先，提供一彩膜基底62＇，其中，该彩膜基底62＇可以是玻璃基底或石英基底等。然后，在彩膜基底62＇上，可以通过PEVCD等沉积工艺形成覆盖整个彩膜基底62＇的黑矩阵膜层621＇。接着，在黑矩阵膜层621＇上形成保护膜层622＇。最后，利用半透掩膜版63对保护膜层622＇进行曝光、显影，形成具有至少一个凹槽结构623＇的保护膜层624＇。

需要说明的是，在上述利用半透掩膜版63进行曝光、显影时，可通过控制曝光光强得到所需深度的凹槽。其中，半透掩膜版63的半透光区域的图案根据所需凹槽结构在垂直阵列基板方向上的投影的图案决定。

步骤53：将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，形成液晶显示面板。

如图6(d)所示，将阵列基板61与彩膜基底62形成的彩膜基板对位贴合，通过涂布的封框胶64粘合在一起，形成液晶显示面板A。其中，封框胶64中掺杂有球状的透明衬垫65，阵列基板61的交叉跨接结构611与彩膜基底62形成的彩膜基板的凹槽结构622之间的空隙间距与其他位置的空隙间距一致，保证了透明衬垫65有足够的容纳空间，不致于透明衬垫65对交叉跨接结构611进行严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路。

如图6(e)所示，将阵列基板61与彩膜基板62＇对位贴合，通过涂布的封框胶64粘合在一起，形成液晶显示面板B。其中，封框胶64中掺杂有球状的透明衬垫65，阵列基板61的交叉跨接结构611与彩膜基板62＇的凹槽结构623＇之间的空隙间距与其他位置的空隙间距一致，保证了透明衬垫65有足够的容纳空间，不致于透明衬垫65对交叉跨接结构611进行严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路。

此外，在本发明实施例中，还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述实施例所涉及的任意一种液晶显示面板，所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种液晶显示面板，包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，其特征在于，

针对所述液晶显示面板中涂布有封框胶的区域，在所述彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置有至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖与自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

彩膜基底；

位于彩膜基底之上的具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层；

覆盖所述黑矩阵膜层的保护膜层。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括：

彩膜基底；

位于彩膜基底之上的黑矩阵膜层；

位于所述黑矩阵膜层之上的具有至少一个凹槽结构的保护膜层。

4.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的图案为矩形、圆形或三角形。

5.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度范围为：380nm～500nm。

6.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度为500nm。

7.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的尺寸面积与所述交叉跨接结构的尺寸面积的比例范围为：1.2～2。

8.一种液晶显示面板的制作方法，包括：制作一阵列基板以及一彩膜基板，将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，形成液晶显示面板，其特征在于，

所述彩膜基板的制作方法包括：在待涂布封框胶的区域形成至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于所述交叉跨接结构的高度。

9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法具体包括：

提供一彩膜基底；

在所述彩膜基底之上形成具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层；

在所述黑矩阵膜层之上形成保护膜层。

10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法具体包括：

提供一彩膜基底；

在所述彩膜基底之上形成黑矩阵膜膜层；

在所述黑矩阵膜层之上形成具有至少一个凹槽结构的保护膜层。

11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一所述的液晶显示面板。