CN104743892A - 制备疏水层的方法、疏水组件以及玻璃 - Google Patents

Abstract

一种制备疏水层的方法，疏水组件及玻璃。该方法包括：提供金属有机物的气体分子；燃烧金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶；将基底放置在金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在基底上形成包含金属氧化物颗粒的多孔膜层；在所述多孔膜层上沉积低表面能材料，其中，金属包括以下一种或多种：硅，钛，铝，锆。该疏水组件通过该方法获得。该玻璃包括该疏水组件。

Description

制备疏水层的方法、疏水组件以及玻璃

技术领域

本发明涉及疏水层。具体涉及包括多孔膜层的疏水层的制备方法以及结构。

背景技术

材料表面的光反射、湿气凝结和灰尘污染一直是困扰人们日常生活的问题，而目前能够解决这些问题的技术手段还很少。例如，玻璃表面的污染大大降低了其透明性能和美观度，光电领域的诸多器件也需要通过器件表面的自清洁功能化而延长使用寿命。这些方面都要求材料表面具有的疏水自清洁性能。

疏水表面一般是指固体表面与水的接触角大于90°的表面。由于疏水表面与水滴的接触面积非常小，水滴极易从表面滚落。因此，疏水表面不仅具有自清洁功能，而且还具有防电流传导、防腐蚀、防水、防雾、防毒、防雪、防霜冻、防黏附、防污染等功能，因而在建筑、服装纺织、液体输送、生物医学、日用品与包装、交通运输工具以及微量分析等领域都具有广泛的应用前景。

一般来说，物体的疏水性能依赖于其表面上修饰的低表面能物质。

一种现有的疏水层包括：基底和位于所述基底表面的低表面能涂层，所述低表面能涂层由含氟的硅氧烷构成。由于所述低表面能涂层的作用，使得整个疏水组件板的表面呈现疏水的特性。但是，该现有的疏水层与水的接触角的极限约为120°，无法满足较高的疏水要求。

一种增大接触角的方法是使用多孔材料层（例如二氧化硅层）作为基底层，在该基底层上涂敷低表面能涂层。相比于仅使用低表面能涂层的结构，该包括了多孔材料层的结构的疏水性能有所提高，但仍无法达到满意效果。

此外，本发明的发明人发现，虽然现有的一些疏水层与水具有较大的接触角，但通常情况下，水雾或水气仍倾向于附着在疏水层上，即在需要一定的外力将水从疏水层上去除，因此影响了整体疏水性能。

此外，现有的采用多孔材料层（例如二氧化硅层）作为基底的疏水层的制备方法通常对设备有较高的要求（例如真空气相沉积）或生产效率较低（例如溶胶凝胶法），因此不适合大规模生产。

因此，如何提高疏水性能就成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。

发明内容

针对现有技术中提出的问题，本发明一方面提供一种制备疏水层的方法，包括：a.提供金属有机物的气体分子；b.燃烧所述金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶；c.将基底放置在所述金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在所述基底上形成包含所述金属氧化物颗粒的多孔膜层；以及d.在所述多孔膜层上沉积低表面能材料。其中，所述金属包括以下一组中的一种或多种：硅，钛，铝，锆。

该方法制备得到的疏水层由金属氧化物颗粒堆叠成，具有多孔、多层的结构。实验结果表明，该方法制备得到的疏水层具有较好的疏水效果，且与传统方法制备得到的多孔氧化硅膜层相比，水更容易从表面去除。此外，该方法不要求真空条件，适合大规模生产。此外，该方法无需复杂的设备或者步骤，实现起来简单、快速。此外，由于该方法可以在常压下操作，在放置新的基底时，不需要准备真空条件的时间，因此该方法可以实现连续生产。

可选的，步骤a包括：加热所述金属有机物；使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且加热所述金属有机物的溶液；或者在所述金属有机物或者所述金属有机物的溶液中通入载气。

可选的，所述有机溶剂包括以下一组中的一种或多种：甲醇，乙醇，异丙醇，甲苯，二甲苯，四氢呋喃。

可选的，所述步骤a和步骤b通过以下步骤实现：燃烧所述金属有机物；或者使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且燃烧所述金属有机物的溶液。

可选的，所述步骤c和步骤d之间还包括：e.加固所述多孔膜层。

由此可以增强疏水层的抗刮擦能力。

可选的，所述步骤e包括：沉积金属氧化物材料，所述金属氧化物材料填充所述多孔膜层的至少部分所述金属氧化物颗粒之间的空隙。

可选的，采用化学气相沉积或者溅射沉积制备该金属氧化物材料。

可选的，所述步骤e中的金属氧化物材料包括以下一组中的一种或多种：氧化硅，氧化钛，氧化铝，氧化锆。

可选的，所述步骤e包括：加热所述多孔膜层，使得所述金属氧化物颗粒的表面呈熔融态。

可选的，所述方法在常压下进行。

可选的，所述金属有机物是正硅酸乙酯，所述金属氧化物颗粒是氧化硅。

可选的，所述低表面能材料包括以下一组的一种或多种：甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷链化合物。

本发明另一方面提供一种疏水组件，包括位于基底上的包含金属氧化物颗粒的多孔膜层、以及位于所述多孔膜层上的低表面能材料层，其中所述多孔膜层通过以下方法获得：a.提供金属有机物的气体分子；b.燃烧所述金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶；以及c.将所述基底放置在所述金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在所述基底上形成包含所述金属氧化物颗粒的多孔膜层。

本发明另一方面提供一种玻璃，包括基底、以及根据本发明的疏水组件。

附图说明

图1是根据本发明一个实施例的制备疏水层的方法的流程图；

图2是图1所示方法的一个例子的流程图；

图3是根据本发明另一个实施例的制备疏水层的方法的流程图；

图4是根据本发明一个实施例的疏水组件的示意图；

图5是根据本发明另一个实施例的疏水组件的局部放大示意图。

除非指明，否则不同附图中的相应标记和符号一般表示相应的部分。绘制附图是为了清晰地示出本公开内容的实施方式的有关方面，而未必是按照比例绘制的。为了更为清晰地示出某些实施方式，在附图标记之后可能跟随有字母，其指示相同结构、材料或者过程步骤的变形。

具体实施方式

下面详细讨论实施例的实施和使用。然而，应当理解，所讨论的具体实施例仅仅示范性地说明实施和使用本发明的特定方式，而非限制本发明的范围。

在下文中，为示范目的，产品实施例参照方法实施例描述。然而，应该理解本发明中产品和方法的实现互相独立。也就是说，所公开的产品实施例可以依照其他方法制备，所公开的方法实施例不仅限于实现产品实施例。

图1是根据本发明一个实施例的制备疏水层的方法的流程图。

首先，在步骤S120中，提供金属有机物的气体分子。该金属有机物可以是硅、钛、铝、锆中的一种或者多种金属所对应的有机物。

具体的，在一个例子中，可以通过加热金属有机物的方式获得金属有机物的气体分子。例如，正硅酸乙酯（Tetraethyl orthosilicate）在一个大气压下的沸点约为168℃，通过加热正硅酸乙酯到150℃可以得到正硅酸乙酯的气体分子。再例如，二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯，Titaniumdiisopropoxide bis(acetylacetonate)，在一个大气压下的沸点约为85℃，通过加热二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯至80℃可以得到二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯的气体分子。

为了得到金属有机物气体分子，在另一个例子中，可以先使用有机溶剂稀释金属有机物、从而获得该金属有机物的溶液，然后再加热该金属有机物的溶液。这样做的目的之一在于调节所获得的金属有机物气体分子的浓度。例如，将正硅酸乙酯溶解在乙醇中，正硅酸乙酯占溶液的重量百分比为30%，然后以150℃的温度加热正硅酸乙酯的溶液，从而得到浓度较低的正硅酸乙酯的气体分子。例如，三乙酰丙酮铝（Aluminumacetylacetonate）在一个大气压下的沸点约为315℃。将三乙酰丙酮铝溶于二甲基甲酰胺（Dimethylformamide），三乙酰丙酮铝占溶液的重量百分比为5%，然后以150℃的温度加热三乙酰丙酮铝的溶液，从而得到三乙酰丙酮铝的气体分子。其他可选的有机溶剂还包括：甲醇，异丙醇，甲苯，二甲苯，四氢呋喃。

为了得到金属有机物气体分子，在另一个例子中，在金属有机物或者金属有机物的溶液中通入载气。例如，采用在正硅酸乙酯中通入载气的方式获得正硅酸乙酯的气体分子。更具体的，使用具有两个开口的容器承载正硅酸乙酯，一个开口用于导入载气（例如，氢气、氧气、丙烷、乙炔、氢气和氧气的混合气体、或任何其他适合的气体），另一个开口收集载气和金属有机物气体分子的混合气体。

接着，在步骤S140中，燃烧步骤S120中获得的金属有机物气体分子，从而得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶。

具体的，可以采用喷枪点燃金属有机物的气体分子，该步骤可以在大气下进行，也可以在富氧的环境下进行。通过点燃该金属有机物气体分子，能够得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶。例如步骤S120中获得的是正硅酸乙酯气体分子，在空气中点燃正硅酸乙酯，发生如下化学反应，得到氧化硅气溶胶。

Si(OC₂H₅)₄+12O₂→SiO₂+10H₂O+8CO₂

接着，在步骤S160中，将基底放置在上述金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在该基底上形成包含该金属氧化物颗粒的多孔膜层。

最后，在步骤S180中，在上述多孔膜层上沉积低表面能材料。该低表面能材料可以选自以下一组的一种或多种：甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷链化合物。低表面能材料层通常仅为分子级厚度，因此不会改变上述多孔膜层的结构。

通过图1所示的方法获得的结构示意图参考图4，包括基底100，基底100上的多孔膜层200，多孔膜层由金属氧化物颗粒220构成，以及多孔膜层200上的低表面能材料（未示出）。

具体的，该基底可以是玻璃、塑料或其他需要疏水处理的表面。在采用例如喷枪燃烧金属有机物气体分子的情况下，获得的金属氧化物颗粒基本上沿着火焰喷出的方向行进，因此将基底放置在垂直于火焰喷出的方向上。本领域的技术人员应能理解，该多孔膜层的致密度和厚度受以下多种因素的影响：基底与金属氧化物颗粒气溶胶的距离，距离越远沉积的速率越低；沉积的时间，沉积得越久得到的膜厚越厚；金属氧化物颗粒气溶胶的浓度，浓度越高、沉积速率越快；以及燃烧温度，燃烧金属有机物气体分子的温度越高、越倾向于获得较大尺寸的金属氧化物颗粒。

需要说明的是，在实际操作中，上述步骤S120和步骤S140可以分别实现，也可以在一个操作中实现。

例如，参考图2，步骤S120和步骤S140通过步骤S220实现，即燃烧金属有机物或者金属有机物的溶液。虽然仅有一个燃烧的操作，在该操作中仍发生以下过程：金属有机物或其溶液气化成为气体分子、该气体分子反应生成包含金属氧化物颗粒的气溶胶。

在图2所示方法的一个例子中，在酒精灯中存储正硅酸乙酯，灯芯的一端浸入正硅酸乙酯，另一端暴露在空气中，由于毛细作用，正硅酸乙酯将润湿灯芯，之后点燃浸润了正硅酸乙酯的灯芯，即可得到包含氧化硅颗粒的气溶胶。应当理解的是，虽然仅有点燃灯芯这样一个操作，在该操作中仍然发生以下过程：a.正硅酸乙酯在火焰温度下气化为正硅酸乙酯气体分子（对应图1的步骤S120）；以及b.该气体分子与氧气反应生成氧化硅颗粒（对应图1的步骤S140）。

需要说明的是，步骤S120和步骤S140并不必然按照结束步骤S120、然后再开始步骤S140这样的顺序。在该例子中，在过程a（对应步骤S120）开始之后、过程b（对应步骤S140）旋即开始，即过程a（对应步骤S120）和过程b（对应步骤S140）在时间上是存在交叉的。具体地，在该例子中，点燃灯芯后，正硅酸乙酯气化为正硅酸乙酯气体分子（即过程a开始），该气体分子旋即反应生成氧化硅颗粒的气溶胶（即过程b开始），在过程b（对应步骤S140）的进行当中、该过程a（对应步骤S120）仍然是持续的，该过程a（对应步骤S120）的持续转而为过程b（对应步骤S140）的继续进行提供了气体分子；在熄灭灯芯后，正硅酸乙酯停止气化（即过程a停止），气体分子反应生成氧化硅颗粒的过程也继续同时停止（即过程b停止）。

还需要说明的是，虽然在上述图2的例子中，过程a（对应步骤S120）和过程b（对应步骤S140）几乎同时停止，然而该图2的例子仅是示例性的，步骤S120和步骤S140并不必然同时停止。在其他例子中，在停止步骤S120之后，已经产生的金属有机物气体分子并不随之消失，仍然可以利用存有的金属有机物气体分子继续进行步骤S140、直至耗尽金属有机物气体分子。

在图2所示方法的另一个例子中，先雾化正硅酸乙酯（雾化装置是本领域所熟知的，在此不详细描述雾化装置的结构），即形成包含正硅酸乙酯小液滴的气雾，然后使用电子打火枪在丙烷和氧气的混合气氛或者其他助燃气氛下点燃正硅酸乙酯气雾，即可得到包含氧化硅颗粒的气溶胶。类似于前述图2的例子，应当理解的是，虽然仅有点燃这样一个操作，在该操作中仍然发生以下过程：a.正硅酸乙酯在火焰温度下气化为正硅酸乙酯气体分子（对应图1的步骤S120）；以及b.该气体分子与氧气反应生成氧化硅颗粒（对应图1的步骤S140）。

以下结合多个实验例说明。

实施例1

使用玻璃基底，使用酒精灯承载正硅酸乙酯的乙醇溶液，正硅酸乙酯的重量百分比为5%，灯芯的一端浸入正硅酸乙酯的乙醇溶液，另一端暴露在空气中，点燃灯芯的暴露在空气中的一端，玻璃基底与酒精灯火焰的距离为4厘米，沉积时间为1S，重复4次，获得包含二氧化硅颗粒的多孔膜层，厚度约为20nm，然后将带有该二氧化硅多孔膜层的玻璃基底、放置在全氟辛基三乙氧基硅烷的挥发气氛中、以形成全氟辛基三乙氧基硅烷低表面能材料层，最终获得的疏水层（结构参考图4的疏水层200）的接触角约为160°。

对比例1

传统二氧化硅疏水层制备：将二氧化硅颗粒分散液（二氧化硅颗粒直径10nm左右，分散在水中或者乙醇中，浓度在2wt%），以3mm/s速度提拉镀膜方式涂敷在玻璃基板上，膜厚约为400nm，干燥后经过480度热处理，然后再用与实施例1相同的方式进行低表面能化。该结构与水的接触角约为130°。

将实施例1和对比例1得到的带有疏水层的基底倾斜45°放置，喷洒水滴，相比于对比例，实施例1获得的疏水层上的水滴更容易脱附。除了实施例1的疏水层相对于对比例的接触角更大，另一个可能的因素是：当疏水层200的上表面存在水时，部分空气被水形成的液膜困在颗粒之间的空隙中。液膜在空隙开口处和被困的空气之间形成液膜/空气界面。液膜/空气界面必须克服能量壁垒才能向下移动把空气排出。由于根据本发明的方法获得的疏水层200是一种多层、多孔结构，这种结构增加了液膜/空气界面下降所需的克服的能量壁垒，因此液膜比较容易从疏水层200上脱附。

实施例2

使用玻璃基底，使用酒精灯承载正硅酸乙酯，灯芯的一端浸入正硅酸乙酯，另一端暴露在空气中，点燃灯芯的暴露在空气中的一端，，玻璃基底与酒精灯火焰的距离为4厘米，沉积时间为1S，重复4次，获得包含二氧化硅颗粒的多孔膜层，厚度约为200nm，然后在该二氧化硅多孔膜层上涂敷全氟辛基三乙氧基硅烷，最终获得的疏水层（结构参考图4的疏水层200）的接触角约为160°。

通过改变金属有机物溶液的浓度可以改变获得的金属氧化物颗粒的大小。通常金属有机物所占的比重越大，获得的金属氧化物的颗粒越大，金属氧化物颗粒的调整范围约为4-50nm。

实施例3

使用玻璃基底，使用加热板加热二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯的丙酮溶液，二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯所占的重量比为10%，使用电弧点燃二（乙酰乙酮）钛酸二异丙酯的气体分子，获得氧化钛的气溶胶。玻璃基底距离火焰约5cm，沉积时间为2S，重复10次，获得包含二氧化钛颗粒的多孔膜层，厚度约为100nm，然后在该二氧化钛多孔膜层上涂敷十六烷基三甲氧基硅烷，最终获得的疏水层（结构参考图4的疏水层200）的接触角约为165°。

实施例4

使用玻璃基底，使用加热板加热丙醇锆的丙醇溶液，丙醇锆所占的重量比为10%，使用电弧点燃丙醇锆的气体分子，获得氧化锆的气溶胶。玻璃基底距离火焰约10cm，沉积时间为1S，重复5次，获得包含氧化锆颗粒的多孔膜层，厚度约为25nm，然后在该氧化锆多孔膜层上涂敷全氟辛基三乙氧基硅烷低表面能材料层，最终获得的疏水层（结构参考图4的疏水层200）的接触角约为165°。

实验例5

使用玻璃基底，使用加热板加热三乙酰丙酮铝的二甲基甲酰胺溶液，三乙酰丙酮铝所占的重量比为5%，使用电弧点燃三乙酰丙酮铝的气体分子，获得氧化铝的气溶胶。玻璃基底距离火焰约10cm，沉积时间为1S，重复5次，获得包含氧化铝颗粒的多孔膜层，厚度约为25nm，然后在该氧化铝多孔膜层上涂敷全氟辛基三乙氧基硅烷低表面能材料层，最终获得的疏水层（结构参考图4的疏水层200）的接触角约为165°。

需要说明的是，以上以前驱液采用单一成分的金属有机物或者其溶液为例进行了说明，然而本发明不限于此。在其他例子中，可以使用两种或者两种以上成分的金属有机物或者其溶液作为前驱液，从而最终得到的多孔膜层包括两种或者两种以上的金属有机物颗粒。

还需要说明的是，以上以金属有机物或者其溶液作为前驱液为例进行了说明，然而本发明不限于此。图1的步骤S120，即提供金属有机物的气体分子，可以通过将金属无机物溶解在有机溶剂中，形成金属有机物，然后加热获得金属有机物的气体分子。

此外，在上述例子中，通过将基底放置在火焰上方适当距离处、使得基底能够“接收”到金属氧化物颗粒，在其他例子中，也可以通过将包含金属氧化物颗粒的气溶胶以及基底放置在电场中、控制金属氧化物颗粒的行进路径。具体地，可以将生成金属氧化物颗粒的装置（例如酒精灯、电弧点燃装置等）放置在两个平板电极之间，在该平板电极之间加电压，由于金属氧化物颗粒通常吸附带电离子，因此该金属氧化物颗粒的行进路径是可控的。

综上，图1所示的方法得到的疏水层具有较好的疏水性，且水气/水雾较容易从疏水层的表面脱附，此外，图1所示的方法不需要复杂的设备，也不需要真空的沉积条件，在常压下就可以实施，相比于真空沉积通常受到腔室面积的限制，图1所示的方法在大面积沉积上更有优势，因此适于工业上使用。此外，该方法无需复杂的设备或者步骤，实现起来简单、快速。此外，由于该方法可以在常压下操作，在放置新的基底时，不需要准备真空条件的时间，因此该方法可以实现连续生产。

图3是根据本发明另一个实施例的制备疏水层的方法的流程图。与图1所示的方法相比，图3的方法在步骤S160和步骤S180之间还包括步骤S370：加固多孔膜层200（多孔膜层200的结构示意图见图4）。

步骤S370可以包括：沉积金属氧化物材料，该金属氧化物材料填充该多孔膜层的至少部分金属氧化物颗粒之间的缝隙。优选地，采用化学气相沉积或者溅射沉积制备该金属氧化物材料，从而该金属氧化物材料不会改变该多孔膜层的多孔的特性。具体地，在一个例子中，多孔膜层是如实验例1得到的二氧化硅膜层，在涂敷低表面能材料之前，采用化学气相沉积沉积二氧化硅材料，该二氧化硅材料优先沉积在颗粒与颗粒之间的夹角处，通过控制沉积时间，可以得到如图5所示的结构，多孔膜层300包括金属氧化物颗粒220、以及填充部分氧化物颗粒220之间的缝隙的金属氧化物材料320（如图中黑色示出的部分），该金属氧化物材料320起到加强金属氧化物颗粒220之间连接的作用。实验结果显示，多孔膜层300相比多孔膜层200具有更好的抗刮擦性能。由于金属氧化物材料320仅填充金属氧化物颗粒220之间的缝隙，因此不会影响多孔膜层300的多孔结构，因此多孔膜层300与多孔膜层200具有类似的疏水性能。

需要说明的是，该金属氧化物材料320不必须与金属氧化物颗粒220的材料相同，该金属氧化物材料320的材料可以是：氧化硅、氧化钛、氧化铝和氧化锆中的一种或多种。

在另一个例子中，步骤S370可以包括：加热多孔膜层200，使得该多孔膜层200的金属氧化物颗粒220的表面呈熔融态。金属氧化物颗粒220的表面呈熔融态使得颗粒与颗粒之间的接触面积变大，因此在金属氧化物颗粒220冷却之后颗粒与颗粒之间的结合加强。实验结果显示，如此得到的多孔膜层相比多孔膜层200具有更好的抗刮擦性能。由于仅金属氧化物颗粒220的表面呈熔融态，因此不会实质改变多孔膜层200的多孔结构，因此该加固的多孔膜层与多孔膜层200具有类似的疏水性能。

根据本发明的一个方面，提供了一种疏水组件，如图4所示，包括位于基底100上的包含金属氧化物颗粒220的多孔膜层200、以及位于多孔膜层200上的低表面能材料层，其中多孔膜层200通过以下方法获得：a.提供金属有机物的气体分子；b.燃烧该金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒220的气溶胶；以及c.将基底100放置在所述金属氧化物颗粒220的行进路径上，从而在所述基底100上形成包含所述金属氧化物颗粒220的多孔膜层200。该金属是硅、钛、铝、锆中的一种或者多种。

低表面能材料可以包括以下一组的一种或多种：甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷链化合物。

获得多孔膜层200的方法可以参照以上描述的方法实施例。

在一个例子中，参考图5示出的多孔膜层300的局部放大视图，多孔膜层300还包括填充部分金属氧化物颗粒220之间的空隙的金属氧化物材料320（如图中黑色示出的部分），该金属氧化物材料320可以是氧化硅、氧化钛、氧化铝和氧化锆中的一种或多种。该金属氧化物材料320起到加强金属氧化物颗粒220之间连接的作用。实验结果显示，多孔膜层300相比多孔膜层200具有更好的抗刮擦性能。由于金属氧化物材料320仅填充金属氧化物颗粒220之间的缝隙，因此不会影响多孔膜层300的多孔结构，因此多孔膜层300与多孔膜层200具有类似的疏水性能。

需要说明的是，该金属氧化物材料320不必须与金属氧化物颗粒220的材料相同。

金属氧化物材料320的制备可以参照前文描述的方法实施例。

根据本发明的另一个方面，提供了一种玻璃，包括根据本发明的疏水组件。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (21)

1.一种制备疏水层的方法，包括：

a.提供金属有机物的气体分子；

b.燃烧所述金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶；

c.将基底放置在所述金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在所述基底上形成包含所述金属氧化物颗粒的多孔膜层；以及

d.在所述多孔膜层上沉积低表面能材料，

其中，所述金属包括以下一组中的一种或多种：硅，钛，铝，锆。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述步骤a包括：

加热所述金属有机物；

使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且加热所述金属有机物的溶液；或者

在所述金属有机物或者所述金属有机物的溶液中通入载气。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包括以下一组中的一种或多种：甲醇，乙醇，异丙醇，甲苯，二甲苯，四氢呋喃。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述步骤a和步骤b通过以下步骤实现：

燃烧所述金属有机物；或者

使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且燃烧所述金属有机物的溶液。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述步骤c和步骤d之间还包括：

e.加固所述多孔膜层。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述步骤e包括：

沉积金属氧化物材料，所述金属氧化物材料填充所述多孔膜层的至少部分所述金属氧化物颗粒之间的空隙。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述步骤e中的沉积包括：化学气相沉积或者溅射沉积。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，所述步骤e中的金属氧化物材料包括以下一组中的一种或多种：氧化硅，氧化钛，氧化铝，氧化锆。

9.根据权利要求5所述的方法，其中，所述步骤e包括：

加热所述多孔膜层，使得所述金属氧化物颗粒的表面呈熔融态。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述方法在常压下进行。

11.根据权利要求1所述的方法，其中，所述金属有机物是正硅酸乙酯，所述金属氧化物颗粒是氧化硅。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，所述低表面能材料包括以下一组的一种或多种：甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷链化合物。

13.一种疏水组件，包括位于基底上的包含金属氧化物颗粒的多孔膜层、以及位于所述多孔膜层上的低表面能材料层，其中所述多孔膜层通过以下方法获得：

a.提供金属有机物的气体分子；

b.燃烧所述金属有机物的气体分子，以得到包含金属氧化物颗粒的气溶胶；以及

c.将所述基底放置在所述金属氧化物颗粒的行进路径上，从而在所述基底上形成包含所述金属氧化物颗粒的多孔膜层,

所述金属包括以下一组中的一种或多种：硅，钛，铝，锆。

14.根据权利要求13所述的疏水组件，其中，步骤a包括：

加热所述金属有机物；

使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且加热所述金属有机物的溶液；或者

在所述金属有机物或者所述金属有机物的溶液中通入载气。

15.根据权利要求13所述的疏水组件，其中，所述步骤a和步骤b通过以下步骤实现：

燃烧所述金属有机物；或者

使用有机溶剂稀释所述金属有机物以获得所述金属有机物的溶液，且燃烧所述金属有机物的溶液。

16.根据权利要求13所述的疏水组件，还包括填充所述多孔膜层的至少部分所述金属氧化物颗粒之间的空隙的金属氧化物材料。

17.根据权利要求16所述的疏水组件，其中，所述填充至少部分所述金属氧化物颗粒之间的空隙的金属氧化物材料通过以下步骤获得：

化学气相沉积或者溅射沉积所述金属氧化物材料。

18.根据权利要求16所述的疏水组件，其中，所述填充至少部分所述金属氧化物颗粒之间的空隙的金属氧化物材料包括以下一组中的一种或多种：氧化硅，氧化钛，氧化铝，氧化锆。

19.根据权利要求13所述的疏水组件，所述步骤c和步骤d之间还包括：

f.加热所述多孔膜层，使得所述金属氧化物颗粒的表面呈熔融态。

20.根据权利要求13所述的疏水组件，其中，所述低表面能材料包括以下一组的一种或多种：甲氧基硅烷、烷基硅烷、含氟硅烷和接枝硅氧烷链化合物。

21.一种玻璃，包括基底、以及如权利要求13至20中任一项所述的疏水组件。