CN104736126B - 包含氧化铯的硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及包含氧化铯的硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃的用途，所述包含氧化铯的硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃特别适合于镶饰氧化物陶瓷修复体和金属修复体。

Description

包含氧化铯的硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃
本发明涉及硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅 酸锂玻璃包含氧化铯并且其特征在于在特别是8.0至17.0·10-6K-1的宽范围 内的可调节的线性热膨胀系数，因此其主要适合于在牙科领域中用于镶饰 氧化物陶瓷修复体和金属修复体。
在牙科学中，通常使用陶瓷层来镶饰牙科修复体以使修复体的外观与 天然牙齿的外观匹配。这样的经镶饰的修复体也被称为饰面陶瓷。为了避 免在待镶饰的修复体材料与陶瓷层之间的应力，必须使陶瓷材料的热膨胀 系数适应修复体材料的热膨胀系数。
过去，玻璃陶瓷早已被用于涂覆或镶饰氧化物陶瓷，如氧化锆陶瓷。 这些包括长石基陶瓷或氟磷灰石玻璃陶瓷。
焦硅酸锂玻璃陶瓷也是已知的，由于其高的半透明度和非常好的机械 性能，被特别用于牙科领域并且主要用于生产牙冠和小的齿桥。已知的硅 酸锂玻璃陶瓷通常包含SiO2、Li2O、Al2O3、Na2O或K2O作为主要组分， 和成核剂如P2O5。
EP 0 885 855 A2和EP 0 885 856 A2描述了含有磷灰石的玻璃陶瓷，所 述含有磷灰石的玻璃陶瓷具有卓越的光学和化学性能并且强度在110MPa 的区域内，其适合于镶饰ZrO2框架。
WO 2004/021921 A1描述了用于镶饰ZrO2的玻璃，但该玻璃仅具有低 的强度。
EP 1 253 116 A1描述了用于镶饰金属框架的硅酸锂玻璃与白榴石晶 体的混合物。该玻璃也仅具有不足的强度。
WO 2012/082156 A1描述了用于镶饰金属框架的硅酸锂产品，该产品 的膨胀系数CTE100-400℃为12至13.5·10-6K-1并且其强度高达300MPa。
EP 2 377 831 A1描述了含有ZrO2的硅酸锂玻璃陶瓷。所述玻璃陶瓷 的膨胀系数不适于镶饰金属框架。
为了使牙科玻璃陶瓷能够被用于镶饰全部范围的惯用修复体材料，如 从牙科金属和合金到氧化物陶瓷，其膨胀系数必须在宽范围内可调节。此 外，玻璃陶瓷就它们的光学和机械性能而言必须满足高要求，特别是必须 具有非常高的强度。
已知的玻璃陶瓷通常不满足对在宽范围内可调节的热膨胀系数和对 足够强度的要求。此外，对于已知的玻璃陶瓷，碱土金属氧化物BaO以及 碱金属氧化物K2O和/或Na2O通常作为必要组分存在，所述必要组分在此 对于生产玻璃陶瓷，特别是对于形成通常寻求的焦硅酸锂主晶相是明显需 要的。
因此，需要这样的硅酸锂玻璃陶瓷，其中线性热膨胀系数CTE100-400℃ 在宽范围内，特别是在8.0至17.0·10-6K-1范围内，优选地在8.8至16.7·10-6 K-1范围内是可调节的。此外，它们还应能够在没有之前被认为是必要的 碱金属氧化物K2O或Na2O的情况下，以及特别是在没有碱土金属氧化物 BaO的情况下制备，并且主要基于它们的光学和机械性能，它们特别适合 于镶饰包括氧化物陶瓷修复体和金属修复体的牙科修复体。
该目的是通过根据权利要求1至16中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷 或硅酸锂玻璃的应用来实现的。本发明的主题还为根据权利要求17至23 所述的方法、根据权利要求24所述的复合材料、根据权利要求25和26 所述的硅酸锂玻璃陶瓷和根据权利要求27所述的硅酸锂玻璃。
根据本发明的用途的特征在于，使用硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃涂 覆选自氧化物陶瓷、金属和合金的基底，所述硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻 璃包含以下组分：
已经出人意料地显示出，根据本发明的硅酸锂玻璃陶瓷具有在特别是 8.0至17.0·10-6K-1，优选为8.8至16.7·10-6K-1的宽范围内可容易地调节的 线性热膨胀系数CTE100-400℃，并且另外具有卓越的光学和机械性能，如高 强度和断裂韧性。因此，该玻璃陶瓷既适合于涂覆氧化物陶瓷，又适合于 涂覆金属和合金。特别出人意料的是，即使在没有对于常规玻璃陶瓷而言 认为是必要的各种组分，如特别是K2O、Na2O和BaO的情况下，也成功形成了具有作为主晶相的偏硅酸锂和/或焦硅酸锂的玻璃陶瓷。根据本发明 的玻璃陶瓷的形成也可以通过使用根据本发明的硅酸锂玻璃来实现，所述 硅酸锂玻璃代表硅酸锂玻璃陶瓷的前体并且可以在施加至基底之前、期间 或之后被转变成硅酸锂玻璃陶瓷。
优选的是，根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明使用的硅 酸锂玻璃包含给定量的至少一种并且优选地全部以下组分：
其中所述过渡金属氧化物选自钇的氧化物、原子序数为41至79的过 渡金属的氧化物以及这些氧化物的混合物。
优选地，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含高达70.0wt.-％，特 别是60.0至70.0wt.-％，以及优选为64.0至70.0wt.-％的SiO2。
还优选的是，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含12.0至17.5，特 别是13.0至17.0以及特别优选为14.0至16.0wt.-％的Li2O。
在优选的实施方案中，SiO2与Li2O的摩尔比率为2.0至3.0，特别是 2.2至2.6，优选为2.3至2.5以及特别优选为约2.4。在另一个优选的实施 方案中，SiO2与Li2O的摩尔比率小于2.0，特别是1.5至1.9，优选为1.6 至1.8以及特别优选为约1.7。
优选的是，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含5.0至10.0wt.-％， 特别是5.1至8.0wt.-％，优选为5.5至7.7wt.-％以及特别优选为6.1至 7.4wt.-％的Cs2O。
还优选的是，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含2.0至6.0wt.-％， 特别是2.5至5.0以及优选为3.0至4.5wt.-％的Al2O3。
优选地，Cs2O与Al2O3的摩尔比率为至少0.1，特别是0.2至2.0，优 选为0.25至1.25以及特别优选为0.5至1.0。
优选地，所述玻璃和玻璃陶瓷包含1.5至6.0，特别是2.0至4.0以及 优选为2.5至3.5wt.-％的P2O5作为成核剂。
此外，根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明使用的硅酸锂 玻璃还可以包含附加组分，所述附加组分特别选自另外的一价元素的氧化 物、二价元素的氧化物、另外的三价元素的氧化物、另外的四价元素的氧 化物、另外的五价元素的氧化物、六价元素的氧化物、熔融促进剂、着色 剂和荧光剂。在一个优选实施方案中，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃 包含的附加组分的量为0至20.0wt.-％，特别是0.1至10.0wt.-％，优选为0.5至7.5wt.-％以及最优选为1.0至5.0wt.-％。
术语“另外的一价元素的氧化物”是指除了Li2O和Cs2O以外的一价 元素的氧化物，特别是碱金属氧化物。适合的另外的一价元素的氧化物的 实例为Na2O、K2O、Rb2O及其混合物，特别是Na2O、K2O及其混合物。
在一个实施方案中，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含0.1至2.0 wt.-％，特别是0.2至1.5wt.-％，优选为0.3至1.4wt.-％以及特别优选为 0.5至1.0wt.-％的Na2O。在进一步的实施方案中，所述硅酸锂玻璃陶瓷和 硅酸锂玻璃包含0.1至2.0wt.-％，特别是0.2至1.6wt.-％，优选为0.4至 1.5wt.-％以及特别优选为0.5至1.0wt.-％的K2O。在特别优选的实施方案 中，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含小于4.0wt.-％，特别是小于3.5wt.-％，优选小于3.0wt.-％，特别优选小于2.5wt.-％以及最优选小于 2.0wt.-％的Na2O和/或K2O。
优选地，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含小于2.5wt.-％，特别 是小于1.5wt.-％，优选小于1.0wt.-％，特别优选小于0.5wt.-％的Rb2O。 最优选地，它们基本上不含Rb2O。
特别地，考虑作为二价元素的氧化物的是碱土金属氧化物，优选为 MgO、CaO、SrO、BaO及其混合物，以及优选为CaO、SrO及其混合物。
优选地，所述硅酸锂玻璃陶瓷和硅酸锂玻璃包含小于3.8wt.-％，特别 是小于2.5wt.-％，优选小于1.5wt.-％，特别优选小于0.5wt.-％的BaO。 最优选地，它们基本上不含BaO。
术语“另外的三价元素的氧化物”是指除了Al2O3以外的三价元素的 氧化物。适合的三价元素的氧化物特别是Y2O3、La2O3、Bi2O3及其混合物， 以及优选为Y2O3和La2O3。
术语“另外的四价元素的氧化物”是指除了SiO2以外的四价元素的氧 化物。适合的另外的四价元素的氧化物的实例为TiO2、GeO2和ZrO2。
术语“另外的五价元素的氧化物”是指除了P2O5以外的五价元素的氧 化物。适合的另外的五价元素的氧化物的实例为Ta2O5和Nb2O5。
适合的六价元素的氧化物的实例为WO3和MoO3。
优选的是这样的玻璃和玻璃陶瓷，其包含至少一种另外的一价元素的 氧化物、一种二价元素的氧化物、至少一种另外的三价元素的氧化物、至 少一种另外的四价元素的氧化物，至少一种另外的五价元素的氧化物和/ 或至少一种六价元素的氧化物。
熔融促进剂的实例是氟化物。
着色剂和荧光剂的实例为d区元素和f区元素的氧化物，如Ti、V、 Sc、Mn、Fe、Co、Ta、W、Ce、Pr、Nd、Tb、Er、Dy、Gd、Eu和Yb的 氧化物。金属胶体，如Ag、Au和Pd的金属胶体也可以用作着色剂并且 此外还可以充当成核剂。这些金属胶体可以例如通过在熔融和结晶过程中 还原相应的氧化物、氯化物或硝酸盐来形成。优选地，所述金属胶体在玻 璃陶瓷中存在的量为0.005至0.5wt.-％。
优选地，根据本发明使用的玻璃陶瓷具有作为主晶相的偏硅酸锂和/ 或焦硅酸锂。术语“主晶相”表示与其它晶相相比，具有按体积计的最高 比例的晶相。如果两个晶相具有大约相同的按体积计的比例，则这两个晶 相都可以作为主晶相存在。在其它实施方案中，偏硅酸锂可以作为主晶相 存在，而焦硅酸锂作为次晶相存在，或者焦硅酸锂作为主晶相存在，而偏 硅酸锂作为次晶相存在。
已经出人意料地显示出，根据本发明的硅酸锂玻璃陶瓷即使在没有对 于常规玻璃陶瓷而言被认为是必要的组分的情况下也具有非常好的机械 和光学性能。它们的性能的组合甚至使得它们用作牙科材料，特别地用于 涂覆牙科修复体。
优选地，根据本发明的硅酸锂玻璃陶瓷的以KIC值测量的断裂韧性为 至少约2.0MPa·m0.5，特别是至少约2.3MPa·m0.5以及优选为至少约2.6 MPa·m0.5。该值是使用维氏法测定并使用郎之万方程(Niihara’s equation) 计算的。进一步地，其具有高的双轴断裂强度，优选地，所述双轴断裂强 度为180至700MPa。此外，其展示出通过在乙酸中储存之后的质量损失 确定的高的耐化学性。特别地，化学稳定性小于100μg/cm2。所述双轴断 裂强度和化学稳定性是按照ISO 6872(2008)测定的。
在优选的实施方案中，所述玻璃陶瓷包含作为主晶相的偏硅酸锂。特 别地，所述玻璃陶瓷包含相对于总的玻璃陶瓷而言大于5vol.-％，优选大 于10vol.-％以及特别优选大于15vol.-％的偏硅酸锂晶体。该偏硅酸锂玻 璃陶瓷的特征为非常好的机械性能。优选地，它的弯曲强度为约180至 300MPa和/或它的以KIC值测量的断裂韧性为至少约2.0MPa·m0.5，特别 是至少约2.3MPa·m0.5以及优选为至少约2.6MPa·m0.5。其可以例如通过热 处理相应的硅酸锂玻璃，特别是相应的具有核的硅酸锂玻璃来形成。
在进一步特别优选的实施方案中，所述玻璃陶瓷包含作为主晶相的焦 硅酸锂。特别地，所述玻璃陶瓷包含相对于总的玻璃陶瓷而言大于 10vol.-％，优选大于20vol.-％以及特别优选大于30vol.-％的焦硅酸锂晶 体。该焦硅酸锂玻璃陶瓷的特征为特别好的机械性能。优选地，它的弯曲 强度为约400至700MPa和/或它的以KIC值测量的断裂韧性为至少约2.0 MPa·m0.5，特别是至少约2.3MPa·m0.5以及优选至少约2.6MPa·m0.5。其可 以例如通过热处理偏硅酸锂玻璃陶瓷来生成。然而，其还可以通过例如热 处理相应的硅酸锂玻璃或相应的具有核的硅酸锂玻璃来形成。
根据本发明，优选的是所述硅酸锂玻璃陶瓷具有至少一种硅酸铝铯晶 相。已经出人意料地显示出，特别是这样的晶相将热膨胀系数的可调性改 善至更高值。优选地，所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.70 至0.90，特别是0.75至0.85，优选为0.80至0.82以及特别优选为0.808 至0.810。最优选的是具有式Cs0.809AlSi5O12的硅酸铝铯。
在特别优选的实施方案中，使用的是另外包含硅酸铝锂晶相的硅酸锂 玻璃陶瓷。已经出人意料地显示出，特别是这样的晶相将热膨胀系数的可 调性改善至更低值。优选地，该硅酸铝锂具有式Li2O*Al2O3*7.5SiO2。
特别地，考虑作为另外的硅酸锂玻璃陶瓷的晶相的是Li3PO4、SiO2和 TiO2。
在进一步的实施方案中，使用了硅酸锂玻璃。优选地，该硅酸锂玻璃 包含适于形成偏硅酸锂和/或焦硅酸锂晶体的核。这样的具有核的硅酸锂玻 璃可以特别地通过热处理相应的硅酸锂玻璃来形成。然后，根据本发明的 偏硅酸锂玻璃陶瓷可以通过进一步的热处理来形成，并转而通过进一步的 热处理被转变成根据本发明的焦硅酸锂玻璃陶瓷，或优选地根据本发明的 焦硅酸锂玻璃陶瓷也可以直接由具有核的玻璃形成。因此，硅酸锂玻璃、具有核的硅酸锂玻璃和偏硅酸锂玻璃陶瓷可以被认为是用于制备根据本 发明的高强度偏硅酸锂或焦硅酸锂玻璃陶瓷的前体。优选地，在施加至基 底之前、期间或之后将所述硅酸锂玻璃转变成如上所述的玻璃陶瓷。
为了制备硅酸锂玻璃，方法可特别地为，将适合的起始材料的混合物， 如碳酸盐、氧化物、磷酸盐和氟化物的混合物在特别是1300至1600℃的 温度下熔融2至10h。为了实现特别高的均质性，将所获得的玻璃熔体倒 入水中以便形成玻璃颗粒，然后再次熔融所获得的颗粒。然后，可以将熔 体倒入模具中以形成硅酸锂玻璃的坯料，即所谓的固体玻璃坯料或整块坯 料。还能够将熔体再次放入水中以制备颗粒。然后，可将该颗粒在研磨并 任选地添加另外的组分，如着色剂和荧光剂之后压制以形成坯料，即所谓 的粉末生压坯。最后，还可将所述硅酸锂玻璃在粒化之后加工以形成粉末。
然后，使硅酸锂玻璃，例如以固体玻璃坯料、粉末生压坯的形式或以 粉末形式的硅酸锂玻璃经历至少一次450至1050℃的热处理。优选的是， 最初在480至580℃，特别是480至560℃以及优选为480至520℃的温度 下进行第一次热处理，以产生适于形成偏硅酸锂和/或焦硅酸锂晶体的具有 核的玻璃。优选地，该第一次热处理进行5至120分钟，特别是10至60 分钟以及优选为10至30分钟的时间段。优选地，随后使具有核的玻璃在 更高的温度下，特别是在大于580℃的温度下经历至少一次进一步的温度 处理以实现偏硅酸锂或焦硅酸锂的结晶。优选地，该进一步的热处理进行 10至120分钟，特别是10至60分钟以及特别优选为20至30分钟的时间 段。为了使偏硅酸锂结晶，通常在600至950℃，优选为620至850℃以 及特别优选为650至750℃下进行所述进一步的热处理。为了使焦硅酸锂 结晶，通常在750至1050℃，优选为800至1000℃，特别优选为820至 950℃以及相当特别优选为850至900℃下进行所述进一步的热处理。
根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明使用的硅酸锂玻璃 特别地以粉末、颗粒或坯料的形式存在，所述坯料例如为整块坯料，如片、 立方体或圆柱体；或未烧结、部分烧结或致密烧结形式的粉末生压坯。以 这些形式，它们可以容易地进一步加工。然而，它们也可以以牙科修复体 的覆盖结构(Ueberwurf)的形式，如特别是牙冠的形式存在。优选的是， 通过机械加工或压制将所述玻璃陶瓷或玻璃成型为希望的几何形状。
根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明使用的硅酸锂玻璃 特别适合于涂覆氧化物陶瓷、金属和合金。
在优选的实施方案中，所述基底为氧化物陶瓷。氧化锆陶瓷是特别优 选的。适合的氧化锆陶瓷的实例为基于多晶四方氧化锆(四方氧化锆多晶 体，TZP)的陶瓷，其中四方晶型是通过添加Y2O3和/或CeO2而稳定的。
在另一个优选的实施方案中，所述基底为金属或合金。适合于牙科应 用的非贵金属合金，特别是非铁合金，是特别优选的。适合的合金的实例 特别为Ni-Cr、Co-Cr和Co-Cr-W型合金。
此外，优选的是所述基底为牙科修复体，特别是齿桥、嵌体(Inlay)、 高嵌体(Onlay)、饰面、基牙(Abutment)、部分牙冠、牙冠或牙面(Schale)。
本发明还涉及用于涂覆选自氧化物陶瓷、金属和合金的基底的方法， 其中将如上所述的硅酸锂玻璃陶瓷或如上所述的硅酸锂玻璃施加至基底。 优选地，所述基底如上所述。
在根据本发明的方法的实施方案中，通过烧结(Aufsintern)，以及优 选通过压制(Aufpressen)将所述硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃施加至基 底。
在烧结过程中，将根据本发明的硅酸锂玻璃陶瓷或根据本发明的硅酸 锂玻璃以常规方式，如作为粉末施加至待涂覆的材料，然后在升高的温度 下烧结。
在优选的压制过程中，在升高的温度下，如700至1200℃的温度下， 将例如粉末生压坯或整块坯料形式的根据本发明的硅酸锂玻璃陶瓷或根 据本发明的硅酸锂玻璃转变成粘性状态并使用低的压力，例如2至10巴 的压力压到基底上。为此，特别地可以使用在EP231 773 A1中描述的方 法和在其中公开的加压炉。适合的炉为例如来自IvoclarVivadent AG的 Programat EP 5000。
在根据本发明的方法的另一个实施方案中，通过接合将所述硅酸锂玻 璃陶瓷或硅酸锂玻璃施加至基底。适合的接合方法本身是已知的并且包 括，例如借助玻璃或玻璃陶瓷焊料的接合，借助粘合剂或牙粘固粉来粘附 的接合，借助其中待接合的材料被软化的温度处理来下陷的接合，以及通 过摩擦焊接或拧(Ansprengen)的接合。
在特别优选的实施方案中，在接合之前通过热压或通过机械加工将所 述硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃成型为希望的几何形状。
热压通常在升高的压力和升高的温度下进行。优选的是，热压在700 至1200℃的温度下进行。进一步优选的是在2至10巴的压力下进行热压。 通过所使用的材料的粘性流来实现希望的形状改变。特别地，根据本发明 的偏硅酸锂玻璃陶瓷、根据本发明的焦硅酸锂玻璃陶瓷、根据本发明的硅 酸锂玻璃，以及特别是根据本发明的具有核的硅酸锂玻璃可以用于热压。 特别地，所述玻璃陶瓷和玻璃可以以例如固体坯料或粉末生压坯的坯料形式，例如以未烧结、部分烧结或致密烧结的形式来使用。
机械加工通常通过材料去除工艺，特别是通过铣削和/或磨削进行。特 别优选的是，机械加工是作为CAD/CAM工艺的一部分进行的。对于机械 加工，可以使用硅酸锂玻璃、具有核的硅酸锂玻璃、偏硅酸锂和焦硅酸锂 玻璃陶瓷。特别地，所述玻璃和玻璃陶瓷可以以例如固体坯料或粉末生压 坯的坯料形式，例如以未烧结、部分烧结或致密烧结的形式来使用。对于 机械加工，优选地使用特别地具有焦硅酸锂以及优选地具有偏硅酸锂作为 主晶相的硅酸锂玻璃陶瓷。所述硅酸锂玻璃陶瓷也可以以在较低温度下通 过热处理制备的尚未完全结晶的形式来使用。这具有的优点在于，更容易 机械加工，因此能够使用更简单的设备来机械加工。在机械加工这样的部 分结晶材料之后，通常使后者在更高的温度下，特别是在750至1050℃， 优选为800至950℃以及特别优选为约850至900℃的温度下经历热处理 以实现偏硅酸锂或优选的焦硅酸锂的进一步结晶。
一般来说，硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃也可以特别地在通过热压或 机械加工成型之后进行热处理，以将使用的前体，如硅酸锂玻璃、具有核 的硅酸锂玻璃或偏硅酸锂玻璃陶瓷转变成偏硅酸锂和/或焦硅酸锂玻璃陶 瓷，增加偏硅酸锂和/或焦硅酸锂的结晶，或降低例如使用的多孔粉末生压 坯的孔隙率。
优选的是，在已经完成涂覆过程之后，获得这样的涂层，该涂层包含 具有偏硅酸锂和/或焦硅酸锂作为主晶相的硅酸锂玻璃陶瓷，因为其具有特 别好的性能。具有以上所述的晶相和机械性能的玻璃陶瓷是特别优选的。
此外，本发明涉及复合材料，其包含在选自氧化物陶瓷、金属和合金 的基底上的如上限定的硅酸锂玻璃陶瓷或如上限定的硅酸锂玻璃。也作为 优选用于根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷，根据本发明使用的硅酸锂玻 璃以及基底而提及的所有实施方案都是优选的。所述复合材料可以特别地 借助根据本发明的方法来制备。
本发明还涉及硅酸锂玻璃陶瓷，其包含以下组分：
其中，所述过渡金属氧化物选自钇的氧化物，原子序数为41至79的 过渡金属的氧化物以及这些氧化物的混合物。
另外，本发明还涉及硅酸锂玻璃，其包含以上玻璃陶瓷的组分。
此外，硅酸锂玻璃和硅酸锂玻璃陶瓷还可以包含，如以上针对根据本 发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明使用的硅酸锂玻璃给出的另外 的组分。也作为优选用于根据本发明使用的硅酸锂玻璃陶瓷和根据本发明 使用的硅酸锂玻璃而提及的所有实施方案都是优选的。
以下借助实施例来更加详细地解释本发明。
实施例
总计28种具有表I中给出的组成的根据本发明的玻璃和玻璃陶瓷是通 过如下方法来制备的：熔融相应的起始玻璃，接着是用于控制成核和结晶 的热处理。
为此，首先在1450至1550℃下，从常用原料熔融100至200g的量 的起始玻璃，其中所述熔融在没有形成气泡或条痕的情况下可以是非常容 易的。通过将起始玻璃倒入水中来生成玻璃熔块，然后将所述玻璃熔块在 1450至1550℃下，第二次熔融1至3h以均质化。然后，将所获得的玻璃 熔体倒入预先加热的模具中以制备玻璃单块材料。所有的玻璃单块材料均 证实为透明的。
然后，通过热处理将所述玻璃单块材料转变成根据本发明的玻璃和玻 璃陶瓷。用于控制成核和控制结晶的热处理也在表I中给出。以下含义适 用：
TN和tN 用于成核的温度和时间
TC和tC 用于第一次结晶的温度和时间
TFC和tFC 用于最终结晶的温度和时间
T压制和t压制 用于热压的温度和时间
可以看到，470至580℃的第一次热处理导致形成具有核的硅酸锂玻 璃，并且正如通过X射线衍射测试所确定的，由于在600至750℃下的进 一步热处理，这些结晶的玻璃形成具有偏硅酸锂作为主晶相的玻璃陶瓷。 仅在实施例8、11和12的情况下，焦硅酸锂(也)作为主晶相形成。在 840至950℃的温度下的最终热处理最后主要导致形成具有焦硅酸锂作为 主晶相的玻璃陶瓷。在实施例3、5和9的情况下，获得具有偏硅酸锂作 为主晶相的玻璃陶瓷。
所制备的焦硅酸锂玻璃陶瓷具有根据SEVNB方法作为临界应力强度 因子KIC测量的大于2.0MPa·m0.5，特别是甚至至少2.6MPa·m0.5的高断裂 韧性值。
双轴强度σB也是高的，其为至少250MPa并且高达大于600MPa。 这是根据牙科标准ISO 6872(2008)，用通过机械加工各焦硅酸锂玻璃陶 瓷来制备的测试条来确定的。使用CEREC-InLab机器(Sirona,Bensheim) 进行加工。
它们也能够通过热压来作为涂层施加到特别是氧化物陶瓷修复体或 金属修复体上，例如以便按需地镶饰它们。
以下更加详细地描述了一些实施例：
实施例10
将来自具有表I中针对实施例10给出的组成的原料混合物的玻璃，在 1500℃的温度下熔融2h，并且通过随后倒入水中来生成玻璃熔块。在高 达750℃的烘干炉中使玻璃熔块干燥之后，将其在1500℃下再次熔融2.5h， 然后倒入石墨模具中以生成玻璃单块材料。在使热的玻璃单块材料脱模之 后，立即使它们在500℃下消除应力并成核10min，然后缓慢冷却至室温。
在进一步加工之前，使玻璃块转变成偏硅酸锂玻璃陶瓷。为此，将玻 璃块放置于预先加热至400℃的炉中。在20min的停留时间之后，以 10K/min的加热速率使温度升高至700℃并使该温度保持20min。然后， 在封闭的炉中使所述块缓慢冷却至室温。
为了有利于借助Sirona inLab磨削机来CAM加工偏硅酸盐块，将相 应的夹持器胶合至所述块。使用金刚石涂覆的磨削工具进行磨削加工。由 所述块磨削为直径为约12mm并且厚度为约2mm的小片。
通过进一步的热处理来实现磨削体从偏硅酸盐状态向焦硅酸盐状态 的转变。将磨削体在Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)中加热至920℃ 的温度，并且在7min的停留时间之后，缓慢冷却至400℃的温度并从炉 中移除。这样生成的材料的XRD分析显示出除了主相Li2Si2O5以外尤其 是还有次相Cs0.809(AlSi5O12)，所述次相是玻璃陶瓷的热膨胀系数高的 原因。因此，这样生成的玻璃陶瓷适合于接合到金属和金属合金。然后， 使用金刚石磨轮来磨削结晶的片至约1.2mm的厚度并抛光到0.5μm。然 后，对这样生成并制备的样品测定双轴强度。测量的平均强度为608MPa。
实施例14
将来自具有表I中针对实施例14给出的组成的原料混合物的玻璃在 1500℃的温度下熔融2h，并且通过随后倒入水中来生成玻璃熔块。然后， 经干燥的玻璃熔块在1500℃下再次熔融2.5h，然后倒入石墨模具中以生 成玻璃单块材料。这样生成的玻璃块在脱模之后，立即在500℃下进行应 力消除和成核10min，接着缓慢冷却至室温。
在进一步加工之前，将玻璃块转变成偏硅酸盐状态。为此，将玻璃块 放置于预先加热至400℃的炉中。在20min的停留时间之后，以10K/min 的加热速率使温度升高至600℃并使该温度保持120min。然后，在封闭的 炉中使所述块缓慢冷却至室温。对这样结晶的块进行X射线结构分析。 Li2SiO3被认定为主晶相。
为了有利于借助Sirona inLab磨削机来CAM加工偏硅酸盐块，将相 应的夹持器胶合至块。使用金刚石涂覆的磨削工具进行磨削加工。由所述 块磨削为直径为约12mm并且厚度为约2mm的小片。
通过进一步的热处理来实现磨削体从偏硅酸盐状态向焦硅酸盐状态 的转变。将磨削体在Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)中加热至905℃ 的温度，并且在30min的停留时间之后，缓慢冷却至400℃的温度并从炉 中移除。这样处理的材料的XRD分析显示出除了主相Li2Si2O5以外尤其 是还有硅酸铝锂次相。线性热膨胀系数CTE100-400℃为9.0·10- 6K-1。由于低 的热膨胀系数，这样生成的玻璃陶瓷适合于接合至氧化锆陶瓷。
实施例15
将来自具有表I中针对实施例15给出的组成的原料混合物的玻璃在 1500℃的温度下熔融2h，并且通过随后倒入水中来生成玻璃熔块。然后， 经干燥的玻璃熔块在1500℃下再次熔融2.5h，然后倒入石墨模具中以生 成玻璃单块材料。这样生成的玻璃块在脱模之后，立即在500℃下进行应 力消除和成核10min，接着缓慢冷却至室温。
a)CAM加工偏硅酸盐块和转变成焦硅酸锂
为了转变成偏硅酸盐状态，将所述玻璃块放置于预先加热至400℃的 炉中。在20min的停留时间之后，以10K/min的加热速率使温度升高至 650℃并使该温度保持60min。然后，在封闭的炉中将所述块缓慢冷却至 室温。对这样结晶的块进行X射线结构分析。Li2SiO3被认定为主晶相。
为了有利于借助Sirona inLab磨削机来CAM加工偏硅酸盐块，将相 应的夹持器胶合至所述块。使用金刚石涂覆的磨削工具进行磨削加工。由 所述块磨削为直径为约12mm并且厚度为约2mm的小片。
通过进一步的热处理来实现磨削体从偏硅酸盐状态向焦硅酸盐状态 的转变。将磨削体在Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)中加热至920℃ 的温度，并且在60min的停留时间之后，缓慢冷却至400℃的温度并从炉 中移出。这样生成的材料的XRD分析显示出除了主相Li2Si2O5以外尤其 是还有次相Cs0.809(AlSi5O12)。线性热膨胀系数CTE100-400℃为13.1·10-6K-1。 因此，这样生成的玻璃陶瓷适合于接合到金属和金属合金。
然后，使用金刚石磨轮来磨削结晶的片至约1.2mm的厚度并抛光到 0.5μm。然后，对这样生成并制备的样品测定双轴强度。测量的平均强度 为350MPa。
b)CAM加工偏硅酸盐块、转变成焦硅酸锂和接合至合金
通过在600℃下温度处理120min，将进一步的玻璃块转变成具有主 晶相Li2SiO3的玻璃陶瓷。然后，为偏硅酸盐块提供适合于通过Sirona inLab磨削机加工的夹持器，并由所述块磨削覆盖结构。然后，通过在 940℃下温度处理15min，将覆盖结构转变成焦硅酸盐状态。合金 30(Ivoclar Vivadent AG)的框架结构用遮光剂IPS Classic(IvoclarVivadent AG)覆盖，然后烧结。然后，在热膨胀系数为约13.5·10-6K-1的硅酸盐玻 璃陶瓷焊料的帮助下，将框架在800℃的接合温度下接合至覆盖结构，接 合7min。
实施例22
将来自具有表I中针对实施例22给出的组成的原料混合物的玻璃在 1500℃的温度下熔融2h，并且通过随后倒入水中来生成玻璃熔块。在烘 干炉中使玻璃熔块干燥之后，使其在1500℃下再次熔融2h，然后倒入石 墨模具中以生成玻璃单块材料。在使热的玻璃单块材料脱模之后，立即使 它们在480℃下消除应力并成核10min，然后缓慢冷却至室温。
a)CAM加工偏硅酸盐块和转变成焦硅酸锂
为了有利于借助Sirona inLab磨削机来CAM加工偏硅酸盐块，将相 应的夹持器胶合至所述块。使用金刚石涂覆的磨削工具进行磨削加工。由 所述块磨削为直径为约12mm并且厚度为约2mm的小片。
通过热处理来实现磨削体向焦硅酸盐状态的转变。将磨削体在 Programat型炉(Ivoclar Vivadent AG)中加热至900℃的温度，并且在7min 的停留时间之后，缓慢冷却至400℃的温度并从炉中移出。
然后，使用金刚石磨轮来磨削结晶的片至约1.2mm的厚度并抛光到 0.5μm。然后，对这样生成并制备的样品测定双轴强度。测量的平均强度 为319MPa。
b)热压成核的玻璃以形成修复体
为了热压，将各种几何形状的塑料(PMMA)修复体嵌入牙科嵌入化 合物，燃烧掉塑料并将成核的玻璃块在950℃的温度下(停留时间25min) 并使用EP5000，在2.29min内压制。在冷却已经完成之后，用喷砂器喷 砂(ausgebettet)修复体，使其从它们的压缩通道分离并磨削。线性热膨 胀系数CTE100-400℃为11.9·10-6K-1。
实施例23A
将具有表I中针对实施例23给出的组成的氧化物和碳酸盐的混合物首 先在速度混合器(Speed Mixer)中混合2分钟，然后在铂/铑坩埚 (Pt/Rh-90/10)中，在1500℃下熔融2h。然后，将熔体倒入水中以获得 细粒颗粒，所述细粒颗粒在干燥之后，在1500℃下再次熔融2h以改善均 质性。然后，将直径为12.5mm的圆柱形玻璃坯料倒入预先加热的、可分 离的钢模中，转移至预先加热至470℃的炉中并消除应力10min。以这样 的方式获得具有核的玻璃。
a)热压成核的玻璃以形成修复体
为了热压，将各种几何形状的塑料(PMMA)修复体嵌入牙科嵌入化 合物，燃烧掉塑料并将成核的玻璃圆柱体在920℃的温度下(停留时间25 min)并使用EP5000，在4.20min内压制。在冷却已经完成之后，用喷砂 器喷砂修复体，使其从它们的压缩通道分离并磨削。线性热膨胀系数 CTE100-400℃为12.1·10-6K-1。
b)在合金上热压成核的玻璃
将具有核的玻璃在890℃下结晶30min并通过在Programat EP 5000- 型炉(Ivoclar Vivadent AG)中，在940℃下热压将其压制到金属合金d.Sign 30(IvoclarVivadent AG)上。来自line(Ivoclar Vivadent AG) 的、含有ZrO2的遮光剂用作金属与压制的玻璃陶瓷之间的中间层。在压 制工艺之后，得到无缺陷的表面。因此，该玻璃陶瓷适合于在非贵金属合 金，特别地Co-Cr和Ni-Cr合金的牙冠上压制。
实施例23B
将来自实施例23的原料的玻璃在1450至1550℃的温度下熔融1至3h 并通过随后倒入水中来生成玻璃熔块。在烘干炉中干燥玻璃熔块之后，将 其粉碎至粒度<45μm。
a)将玻璃粉末涂覆至合金上并烧结
将玻璃粉末与造型流体混合并将该混合物施加至合金30(Ivoclar Vivadent AG)的单个牙冠上。来自IPSline(Ivoclar Vivadent AG)的遮光剂用作金属与涂覆的粉末之间的中间层。然后将涂覆 上的混合物在P100牙科用炉(Ivoclar Vivadent AG)中，以850℃的保持 温度和5min的停留时间烧结两次(2次矫正烧制)。烧结之后是通用釉 (Ivoclar Vivadent AG)的施加，以及在850℃下的釉烧制，停留时间为5 min。
b)将烧结的玻璃涂覆至合金上并烧结
将玻璃粉末加工以形成重量为40g的坯料并在940℃下烧结1小时。 然后使烧结体在空气中冷却1.30min，然后在水中淬火并干燥。再次将该 烧结体粉碎至粒度<45μm并且与玻璃粉末类似地涂覆至金属合金 30的单个牙冠上。同样地，来自line(Ivoclar Vivadent AG)的遮光剂用作金属与涂覆的粉末之间的中间层。在900℃下进行矫正 烧制5min。
实施例26
将具有表I中针对实施例26给出的组成的氧化物和碳酸盐的混合物首 先在速度混合器中混合2分钟，然后在铂/铑坩埚(Pt/Rh-90/10)中，在 1500℃下熔融2h。然后，将熔体倒入水中以获得细粒颗粒，所述细粒颗 粒在干燥之后，在1500℃下再次熔融2h以改善均质性。然后，将直径为 12.5mm的圆柱形玻璃坯料倒入预先加热的、可分离的钢模中，转移至预 先加热至480℃的炉中并消除应力10min。以这样的方式获得具有核的玻 璃。
a)热压成核的玻璃以形成修复体
为了热压，将各种几何形状的塑料(PMMA)修复体嵌入牙科嵌入化 合物，烧掉塑料并将成核的玻璃圆柱体在930℃的温度下(停留时间25 min)并使用EP5000，在1.25min内压制。在冷却已经完成之后，用喷砂 器喷砂修复体，使其从它们的压缩通道分离并磨削。线性热膨胀系数 CTE100-400℃为12.1·10-6K-1。
b)热压到氧化锆陶瓷上
在Programat EP5000压炉(Ivoclar Vivadent AG)中，将玻璃在940℃ 下通过热压施加到3Y-TZP型的氧化锆陶瓷(Tosoh,Japan)。在涂覆工艺 完成之后，获得无缺陷的玻璃陶瓷牙冠。

Claims (113)

1.硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃在涂覆基底中的用途，所述硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃包含以下组分：
所述基底选自氧化物陶瓷和金属。
2.根据权利要求1所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含给定量的、至少一种以下组分：
其中所述过渡金属氧化物选自钇的氧化物、原子序数为41至79的过渡金属的氧化物以及这些氧化物的混合物。
3.根据权利要求2所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含0至4.0wt％的ZrO2。
4.根据权利要求2所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含0至7.0wt％的过渡金属氧化物。
5.根据权利要求1所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含给定量的、全部以下组分：
其中所述过渡金属氧化物选自钇的氧化物、原子序数为41至79的过渡金属的氧化物以及这些氧化物的混合物。
6.根据权利要求5所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含0至4.0wt％的ZrO2。
7.根据权利要求5所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含0至7.0wt％的过渡金属氧化物。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含最高为70.0wt％的SiO2。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含60.0至70.0wt％的SiO2。
10.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含64.0至70.0wt％的SiO2。
11.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含5.0至10.0wt％的Cs2O。
12.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含5.1至8.0wt％的Cs2O。
13.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含5.5至7.7wt％的Cs2O。
14.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含6.1至7.4wt％的Cs2O。
15.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含2.0至6.0wt％的Al2O3。
16.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含2.5至5.0wt％的Al2O3。
17.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含3.0至4.5wt％的Al2O3。
18.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于4.0wt％的Na2O和/或K2O。
19.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于3.5wt％的Na2O和/或K2O。
20.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于3.0wt％的Na2O和/或K2O。
21.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于2.5wt％的Na2O和/或K2O。
22.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于2.0wt％的Na2O和/或K2O。
23.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于2.5wt％的Rb2O。
24.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于1.5wt％的Rb2O。
25.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于1.0wt％的Rb2O。
26.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于0.5wt％的Rb2O。
27.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃不含Rb2O。
28.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于3.8wt％的BaO。
29.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于2.5wt％的BaO。
30.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于1.5wt％的BaO。
31.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃包含小于0.5wt％的BaO。
32.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃不含BaO。
33.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中使用硅酸锂玻璃陶瓷，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含作为主晶相的偏硅酸锂。
34.根据权利要求33所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的弯曲强度为180至300MPa和/或所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.0MPa·m0.5。
35.根据权利要求34所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.3MPa·m0.5。
36.根据权利要求34所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.6MPa·m0.5。
37.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中使用硅酸锂玻璃陶瓷，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含作为主晶相的焦硅酸锂。
38.根据权利要求37所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的弯曲强度为400至700MPa和/或所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.0MPa·m0.5。
39.根据权利要求38所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.3MPa·m0.5。
40.根据权利要求38所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.6MPa·m0.5。
41.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中使用包含至少一种硅酸铝铯晶相的硅酸锂玻璃陶瓷。
42.根据权利要求41所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.70至0.90。
43.根据权利要求41所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.75至0.85。
44.根据权利要求41所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.80至0.82。
45.根据权利要求41所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.808至0.810。
46.根据权利要求41所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式Cs0.809AlSi5O12。
47.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中使用包含至少一种硅酸铝锂晶相的硅酸锂玻璃陶瓷。
48.根据权利要求47所述的用途，其中所述硅酸铝锂具有式Li2O*Al2O3*7.5SiO2。
49.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中使用硅酸锂玻璃。
50.根据权利要求49所述的用途，其中所述硅酸锂玻璃包含核，所述核适合于形成偏硅酸锂和/或焦硅酸锂晶体。
51.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为氧化物陶瓷。
52.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为氧化锆陶瓷。
53.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为金属。
54.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为合金。
55.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为非贵金属合金。
56.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为牙科修复体。
57.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为齿桥、嵌体、基牙、牙冠或牙面。
58.根据权利要求1至7中任一项所述的用途，其中所述基底为高嵌体、部分牙冠或饰面。
59.用于涂覆选自氧化物陶瓷和金属的基底的方法，其中将如权利要求1至50中任一项所限定的硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃施加至所述基底。
60.根据权利要求59所述的方法，其中所述基底是如权利要求51至58中任一项所限定的基底。
61.根据权利要求59所述的方法，其中通过烧结将所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃施加至所述基底。
62.根据权利要求59所述的方法，其中通过压制将所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃施加至所述基底。
63.根据权利要求59所述的方法，其中通过接合将所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃施加至所述基底。
64.根据权利要求63所述的方法，其中在接合之前，通过机械加工或通过热压将所述硅酸锂玻璃陶瓷或所述硅酸锂玻璃成型为希望的几何形状。
65.根据权利要求59至64中任一项所述的方法，其中获得包含硅酸锂玻璃陶瓷的涂层，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含作为主晶相的偏硅酸锂。
66.根据权利要求65所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的弯曲强度为180至300MPa和/或所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.0MPa·m0.5。
67.根据权利要求66所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.3MPa·m0.5。
68.根据权利要求66所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.6MPa·m0.5。
69.根据权利要求59至64中任一项所述的方法，其中获得包含硅酸锂玻璃陶瓷的涂层，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含作为主晶相的焦硅酸锂。
70.根据权利要求69所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的弯曲强度为400至700MPa和/或所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.0MPa·m0.5。
71.根据权利要求70所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.3MPa·m0.5。
72.根据权利要求70所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷的作为KIC值测量的断裂韧性为至少2.6MPa·m0.5。
73.根据权利要求65所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含至少一种硅酸铝铯晶相。
74.根据权利要求73所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.70至0.90。
75.根据权利要求73所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.75至0.85。
76.根据权利要求73所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.80至0.82。
77.根据权利要求73所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.808至0.810。
78.根据权利要求73所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式Cs0.809AlSi5O12。
79.根据权利要求65所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含至少一种硅酸铝锂晶相。
80.根据权利要求79所述的方法，其中所述硅酸铝锂具有式Li2O*Al2O3*7.5SiO2。
81.根据权利要求69所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含至少一种硅酸铝铯晶相。
82.根据权利要求81所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.70至0.90。
83.根据权利要求81所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.75至0.85。
84.根据权利要求81所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.80至0.82。
85.根据权利要求81所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.808至0.810。
86.根据权利要求81所述的方法，其中所述硅酸铝铯具有式Cs0.809AlSi5O12。
87.根据权利要求69所述的方法，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含至少一种硅酸铝锂晶相。
88.根据权利要求87所述的方法，其中所述硅酸铝锂具有式Li2O*Al2O3*7.5SiO2。
89.复合材料，其包含在选自氧化物陶瓷和金属的基底上的、如权利要求1至50中任一项所限定的硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃。
90.复合材料，其包含在如权利要求51至58中任一项所限定的基底上的、如权利要求1至50中任一项所限定的硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃。
91.硅酸锂玻璃陶瓷，所述硅酸锂玻璃陶瓷如权利要求41至48中任一项所限定并且包含至少一种硅酸铝铯晶相。
92.硅酸锂玻璃陶瓷，所述硅酸锂玻璃陶瓷如权利要求1至48中任一项所限定并且包含给定量的以下组分：
其中所述过渡金属氧化物选自钇的氧化物，原子序数为41至79的过渡金属的氧化物以及这些氧化物的混合物。
93.根据权利要求92所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含55.1至77.1wt％的SiO2。
94.根据权利要求92所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含11.8至17.8wt％的Li2O。
95.根据权利要求92所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含4.7至11.7wt％的Cs2O。
96.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含1.7至8.0wt％的Al2O3。
97.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含1.3至7.5wt％的P2O5。
98.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含0至5.0wt％的Rb2O。
99.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含0至3.0wt％的BaO。
100.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含0至4.0wt％的ZrO2。
101.根据权利要求92至95中任一项所述的硅酸锂玻璃陶瓷，其中所述硅酸锂玻璃陶瓷包含0至7.0wt％的过渡金属氧化物。
102.硅酸锂玻璃，其包含根据权利要求92至101中任一项所述的玻璃陶瓷的组分。
103.硅酸锂玻璃陶瓷在涂覆基底中的用途，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含以下组分：
所述基底选自氧化物陶瓷和金属，其中使用包含至少一种硅酸铝铯晶相的硅酸锂玻璃陶瓷。
104.根据权利要求103所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.70至0.90。
105.根据权利要求103所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.75至0.85。
106.根据权利要求103所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.80至0.82。
107.根据权利要求103所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式CsxAlSi5O12，其中x为0.808至0.810。
108.根据权利要求103所述的用途，其中所述硅酸铝铯具有式Cs0.809AlSi5O12。
109.硅酸锂玻璃陶瓷在涂覆基底中的用途，所述硅酸锂玻璃陶瓷包含以下组分：
所述基底选自氧化物陶瓷和金属，其中使用包含至少一种硅酸铝锂晶相的硅酸锂玻璃陶瓷。
110.根据权利要求109所述的用途，其中所述硅酸铝锂具有式Li2O*Al2O3*7.5SiO2。
111.硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃在涂覆基底中的用途，所述硅酸锂玻璃陶瓷或硅酸锂玻璃包含以下组分：
所述基底选自金属。
112.根据权利要求111所述的用途，其中所述基底为合金。
113.根据权利要求111所述的用途，并且所述基底为非贵金属合金。
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Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11166795B2 (en) 2014-08-27 2021-11-09 Gc Corporation Method for producing dental prosthesis, method for producing lithium disilicate blank for dental prosthesis and lithium disilicate blank for dental prosthesis
JP6537257B2 (ja) * 2014-12-05 2019-07-03 京セラ株式会社 ガラスセラミックスおよびガラスセラミックスの製造方法
JP6537256B2 (ja) * 2014-12-05 2019-07-03 京セラ株式会社 ガラスブロック、ガラスブロックの製造方法および歯科補綴物の製造方法
WO2016190012A1 (ja) * 2015-05-25 2016-12-01 株式会社ジーシー 歯科補綴物用材料、歯科補綴物作製用ブロック体、及び歯科補綴物
KR101813488B1 (ko) * 2016-04-06 2017-12-29 주식회사 하스 나노 크기의 결정상을 갖는 리튬 디실리케이트 결정화 유리 제조 방법
US10751367B2 (en) 2016-05-27 2020-08-25 Corning Incorporated Bioactive glass microspheres
US10676713B2 (en) 2016-05-27 2020-06-09 Corning Incorporated Bioactive borophosphate glasses
US20170342383A1 (en) * 2016-05-27 2017-11-30 Corning Incorporated Lithium disilicate glass-ceramic compositions and methods thereof
US10647962B2 (en) 2016-05-27 2020-05-12 Corning Incorporated Bioactive aluminoborate glasses
CN106187126B (zh) * 2016-06-30 2019-01-25 北京百纳美迪生物科技有限公司 一种陶瓷微针晶片及其制备方法
WO2018023181A1 (pt) * 2016-08-05 2018-02-08 Fundação Universidade Federal De São Carlos Vitrocerâmicas usináveis de alta tenacidade à fratura e uso das mesmas
DE102016119108A1 (de) * 2016-10-07 2018-04-12 Degudent Gmbh Lithiumsilikat-Glaskeramik
CN108069611B (zh) * 2016-11-16 2020-08-11 中国科学院过程工程研究所 高透性的硅酸锂微晶玻璃和二硅酸锂微晶玻璃、其制备方法和用途
KR101975548B1 (ko) * 2017-03-07 2019-05-08 주식회사 하스 열처리 온도의 변화로 가공성 또는 투광성 조절이 가능한 결정화 유리 제조 방법
US10556819B2 (en) 2017-03-08 2020-02-11 Hass Co., Ltd Method for preparing glass-ceramics, capable of adjusting machinability or translucency through change in temperature of heat treatment
ES2927633T3 (es) * 2017-03-09 2022-11-08 Hass Co Ltd Método para preparar materiales vitrocerámicos, capaz de ajustar la maquinabilidad o la translucidez a través del cambio de temperatura del tratamiento térmico
CN107555798B (zh) * 2017-09-19 2020-05-08 大连工业大学 齿科铸造用二硅酸锂微晶玻璃及其制备方法
EP3708138A4 (en) * 2017-11-07 2021-08-04 Kuraray Noritake Dental Inc. DENTAL PRODUCT WITH IMPROVED TOUGHNESS
CN111417603B (zh) 2017-11-28 2023-10-31 康宁股份有限公司 生物活性硼酸盐玻璃及其方法
WO2019108556A1 (en) 2017-11-28 2019-06-06 Corning Incorporated Bioactive glass compositions and dentin hypersensitivity remediation
WO2019108571A1 (en) 2017-11-28 2019-06-06 Corning Incorporated Chemically strengthened bioactive glass-ceramics
WO2019108558A1 (en) 2017-11-28 2019-06-06 Corning Incorporated High liquidus viscosity bioactive glass
CN109390577B (zh) * 2018-12-11 2021-02-19 桑德新能源技术开发有限公司 Si/SiO2/C复合纳米纤维材料及其制备方法与负极材料
KR102228118B1 (ko) * 2019-02-12 2021-03-16 주식회사 하스 결정화 유리를 포함하는 치과용 복합체
EP3696149A1 (de) 2019-02-14 2020-08-19 Ivoclar Vivadent AG Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an cer und zinn
EP3696150A1 (de) 2019-02-14 2020-08-19 Ivoclar Vivadent AG Fluoreszierende glaskeramiken und gläser mit gehalt an europium
KR102246195B1 (ko) 2019-05-29 2021-04-29 주식회사 하스 절삭가공을 위한 치과용 벌크 블록 및 그 제조방법
CN110028245B (zh) * 2019-05-29 2022-02-25 沈阳建筑大学 一种氧化锆用低温黄色釉及其制备方法
KR20210036138A (ko) * 2019-09-25 2021-04-02 주식회사 하스 플라즈마 내식성을 갖는 결정화 유리 및 이를 포함하는 건식식각 공정 부품
CN111003938A (zh) * 2019-12-30 2020-04-14 大莲电瓷（福建）有限公司 高压绝缘子釉料配方及烧结工艺
CN113200678B (zh) * 2021-03-18 2022-06-10 常熟佳合显示科技有限公司 一种玻璃材料及其制备方法和其制品

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6455451B1 (en) * 1998-12-11 2002-09-24 Jeneric/Pentron, Inc. Pressable lithium disilicate glass ceramics
EP1514850A1 (en) * 2003-09-01 2005-03-16 Ivoclar Vivadent AG Translucent and radio-opaque glass ceramics

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE513836A (zh) 1951-08-30
BE526937A (zh) 1953-03-05 1954-09-03
US3022180A (en) 1959-09-23 1962-02-20 Gen Electric Ceramic material and method of making the same
BE638175A (zh) 1962-10-03
US3252778A (en) 1964-02-26 1966-05-24 Goodman Philip Method of making a high strength semicrystalline article
GB1374605A (en) 1971-05-24 1974-11-20 Pilkington Brothers Ltd Method of manufacturing glass ceramic material
US3816704A (en) 1972-03-20 1974-06-11 Gen Electric Surface heating apparatus
US3977857A (en) 1973-10-29 1976-08-31 Westinghouse Electric Corporation Metal bonding glass-ceramic compositions having improved hardness
DE2451121A1 (de) 1973-10-31 1975-05-07 Gen Electric Verfahren zum herstellen von glaskeramiken
US4189325A (en) 1979-01-09 1980-02-19 The Board of Regents, State of Florida, University of Florida Glass-ceramic dental restorations
US4473653A (en) 1982-08-16 1984-09-25 Rudoi Boris L Ballistic-resistant glass-ceramic and method of preparation
US4515634A (en) 1983-10-17 1985-05-07 Johnson & Johnson Dental Products Company Castable glass-ceramic composition useful as dental restorative
US4480044A (en) 1984-02-01 1984-10-30 Corning Glass Works High expansion glass-ceramic articles
US5219799A (en) 1991-10-07 1993-06-15 Corning Incorporated Lithium disilicate-containing glass-ceramics some of which are self-glazing
US5176961A (en) 1991-10-07 1993-01-05 Corning Incorporated Colored, textured glass-ceramic articles
SE501333C2 (sv) 1993-05-27 1995-01-16 Sandvik Ab Metod för framställning av keramiska tandrestaurationer
US6818573B2 (en) 1994-05-31 2004-11-16 Tec Ventures, Inc. Method for molding dental restorations and related apparatus
US5507981A (en) 1994-05-31 1996-04-16 Tel Ventures, Inc. Method for molding dental restorations
US6485849B2 (en) 1994-05-31 2002-11-26 Tec Ventures, Inc. Method for molding dental restorations and related apparatus
DE19511396A1 (de) 1995-03-28 1996-10-02 Arnold Wohlwend Verfahren zur Herstellung eines prothetischen Zahninlays bzw. einer prothetischen Zahnkrone
US5968856A (en) 1996-09-05 1999-10-19 Ivoclar Ag Sinterable lithium disilicate glass ceramic
ATE186286T1 (de) 1996-09-05 1999-11-15 Ivoclar Ag Sinterbare lithiumdisilikat-glaskeramik
DE19725555A1 (de) 1997-06-12 1998-12-24 Ivoclar Ag Transluzente Apatit-Glaskeramik
DE19725553A1 (de) 1997-06-12 1998-12-24 Ivoclar Ag Chemisch stabile transluzente Apatit-Glaskeramik
JP3426926B2 (ja) 1997-08-29 2003-07-14 京セラ株式会社 配線基板およびその実装構造
US6090194A (en) * 1997-10-15 2000-07-18 Jeneric/Pentron Incorporated Cubic leucite-containing dental porcelains
US6133174A (en) 1997-10-15 2000-10-17 Jeneric/Pentron Incorporated Machinable leucite-containing porcelain compositions and methods of manufacture
US6420288B2 (en) 1997-11-10 2002-07-16 Ivoclar Ag Process for the preparation of shaped translucent lithium disilicate glass ceramic products
DE19750794A1 (de) 1997-11-10 1999-06-17 Ivoclar Ag Verfahren zur Herstellung von geformten transluzenten Lithiumdisilikat-Glaskeramik-Produkten
US6155830A (en) * 1998-03-10 2000-12-05 Jeneric/Pentron Incorporated Dental restorations
US6802894B2 (en) 1998-12-11 2004-10-12 Jeneric/Pentron Incorporated Lithium disilicate glass-ceramics
US6517623B1 (en) 1998-12-11 2003-02-11 Jeneric/Pentron, Inc. Lithium disilicate glass ceramics
US20050127544A1 (en) * 1998-06-12 2005-06-16 Dmitri Brodkin High-strength dental restorations
NL1017895C2 (nl) 2001-04-20 2002-10-22 Elephant Dental Bv Persbaar glaskeramiek, werkwijze voor de bereiding daarvan, alsmede een werkwijze voor het vervaardigen van een dentaalrestauratie onder toepassing van genoemd glaskeramiek.
EP1396237A1 (en) 2002-09-05 2004-03-10 Elephant Dental B.V. Strengthened ceramic restoration
DE10336913C9 (de) 2003-08-07 2019-02-21 Ivoclar Vivadent Ag Verwendung eines Lithiumsilicatmaterials
KR100631013B1 (ko) 2003-12-29 2006-10-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 주기성을 가진 패턴이 형성된 레이저 마스크 및 이를이용한 결정화방법
DE102004013455B3 (de) * 2004-03-18 2005-09-08 Ivoclar Vivadent Ag Apatitglaskeramik auf der Basis von silicatischen Oxyapatiten, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
US7248108B2 (en) 2004-12-29 2007-07-24 Agere Systems Inc. Power amplifier employing thin film ferroelectric phase shift element
ES2489523T3 (es) 2005-02-08 2014-09-02 Ivoclar Vivadent Ag Material vitrocerámico de silicato de litio
US20090258778A1 (en) 2008-04-11 2009-10-15 James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances
US20100083706A1 (en) 2008-04-11 2010-04-08 James R., Glidewell Dental Ceramics, Inc. Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances
US9241879B2 (en) 2008-04-11 2016-01-26 James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. Lithium silicate glass ceramic for fabrication of dental appliances
US7892995B2 (en) 2008-04-11 2011-02-22 James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. Lithium silicate glass ceramic and method for fabrication of dental appliances
DE102009060274A1 (de) 2009-12-23 2011-06-30 DeguDent GmbH, 63457 Lithiumdisilikat-Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
ES2581452T3 (es) * 2010-04-16 2016-09-05 Ivoclar Vivadent Ag Vitrocerámica y vidrio de silicato de litio con óxido de metal de transición
US20120148988A1 (en) 2010-12-14 2012-06-14 James R. Glidewell Dental Ceramics, Inc. Indirect restoration technology
CA2851386C (en) * 2011-10-14 2017-07-11 Ivoclar Vivadent Ag Lithium silicate glass ceramic and glass with monovalent metal oxide
US9351807B2 (en) 2011-12-08 2016-05-31 3M Innovative Properties Company Lithium silicate glass ceramic material, process of production and use thereof

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6455451B1 (en) * 1998-12-11 2002-09-24 Jeneric/Pentron, Inc. Pressable lithium disilicate glass ceramics
EP1514850A1 (en) * 2003-09-01 2005-03-16 Ivoclar Vivadent AG Translucent and radio-opaque glass ceramics

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