CN104730757B - 彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置，属于触摸屏技术领域。该彩膜基板包括：透明基板；位于所述透明基板一侧的触摸屏面板TSP图形，所述TSP图形的表面形成有多个凹形弧面。本发明解决了在显示图像的过程中该彩膜基板的表面会出现条纹，影响显示效果的问题，实现了减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果的效果，本发明用于消除彩膜基板表面的条纹。

Description

彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置
技术领域
本发明涉及触摸屏技术领域，特别涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置。
背景技术
触摸屏作为一种智能化的人机交互界面产品，在生产和生活中得到了广泛的应用，用户通过触摸该触摸屏能够控制该触摸屏显示相应的图像。
现有技术中，触摸屏设置于显示装置中，触摸屏包括阵列基板和彩膜基板，及填充在阵列基板和彩膜基板之间的液晶，该阵列基板的背光侧设置有下偏光片，该彩膜基板的显示侧设置有上偏光片。该显示装置中还设置有背光源，背光源发出的光能够依次透过该触摸屏上的下偏光片、阵列基板、液晶、彩膜基板和上偏光片使得该触摸屏发光，进行图像的显示，其中彩膜基板包括透明基板、形成于透明基板一侧的TSP(英文：Touch ScreenPanel；中文：触摸屏面板)图形，以及形成于透明基板另一侧的色阻层，该TSP图形包括TSP导线，该TSP导线的上表面和侧面均为平面，且该TSP导线的上表面与侧面不在同一平面。
当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP导线时，该彩膜基板上有TSP导线的部分与该彩膜基板上没有TSP导线的部分对背光源发出的光的折射存在差异；当位于该彩膜基板显示侧的光打在该彩膜基板上时，该TSP导线的上表面与侧面将光线反射后，光线的反射方向不同，因此，在显示图像的过程中该彩膜基板的表面会出现条纹，影响显示效果。
发明内容
为了解决在显示图像的过程中彩膜基板的表面会出现条纹，影响显示效果的问题，本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装 置。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：
透明基板；
位于所述透明基板一侧的触摸屏面板TSP图形，所述TSP图形的表面形成有多个凹形弧面。
可选的，所述多个凹形弧面包括第一凹形弧面和第二凹形弧面，
所述TSP图形包括多个TSP导线，每个所述TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个所述TSP导线的侧面形成有所述第二凹形弧面。
可选的，所述第一凹形弧面的开口呈圆形。
可选的，所述彩膜基板还包括：位于所述透明基板的另一侧的色阻层，
所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵。
第二方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述彩膜基板的制造方法包括：
在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形。
可选的，所述多个凹形弧面包括：第一凹形弧面和第二凹形弧面，
所述在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形，包括：
在透明基板的一侧形成氧化铟锡ITO薄膜；
通过第一次构图工艺形成包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形；
通过第二次构图工艺形成所述TSP图形，所述TSP图形包括多个TSP导线，每个所述TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个所述TSP导线的侧面形成有所述第二凹形弧面。
可选的，所述第一次构图工艺和所述第二次构图工艺中使用的光刻胶均为负性光刻胶。
可选的，所述第一凹形弧面的开口呈圆形，当所述ITO薄膜的厚度为时，所述圆形的直径为所述第一凹形弧面的最大深度为
可选的，所述彩膜基板的制造方法还包括：
在所述透明基板的另一侧形成色阻层，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵。
第三方面，提供了一种触摸屏，包括第一方面所述的彩膜基板。
第四方面，提供了一种显示装置，包括第三方面所述的触摸屏。
本发明提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制造方法、触摸屏及显示装置，由于在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图2是本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图；
图3是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图；
图4是本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的方法流程图；
图5是本发明实施例提供的一种形成TSP图形方法的方法流程图；
图6是本发明实施例提供的一种透明基板的结构示意图；
图7是本发明实施例提供的另一种透明基板的结构示意图；
图8是本发明实施例提供的又一种透明基板的结构示意图；
图9是本发明实施例提供的一种色阻层的结构示意图。
通过上述附图，已示出本发明明确的实施例，后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本发明构思的范围，而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本发明的概念。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
图1为一种彩膜基板00的结构示意图，如图1所示，该彩膜基板10可以包括：透明基板101和位于该透明基板101一侧的TSP图形102。该TSP图形102可以包括TSP导线1021，请参考图1，该TSP导线1021的上表面P和该TSP导线1021的侧面Q均为平面，且该上表面P与侧面Q不在同一平面。当光线从该彩膜基板10的背光侧射向该彩膜基板10的显示侧时，光线穿过该透明基板101和该TSP导线1021时会发生折射，该透明基板101上有TSP导线1021的部分与该透明基板101上没有TSP导线1021的部分的厚度不同，光线的折射情况存在差异，使得该彩膜基板10的表面出现条纹。当位于该彩膜基板10显示侧的光打在该彩膜基板10上时，该TSP导线1021能够反射光线，由于该TSP导线1021的上表面P和侧面Q不在同一平面，该TSP导线1021的上表面P与侧面Q将光线反射后，光线的反射方向不同，因此，该TSP导线的上表面P和侧面Q对光线的反射差异较大，使得该彩膜基板10的表面出现条纹。
如图2所示，本发明实施例提供了另一种彩膜基板00，该彩膜基板00可以包括：透明基板001和位于该透明基板001一侧的TSP图形002，该TSP图形的表面形成有多个凹形弧面A。
综上所述，由于本发明实施例提供的彩膜基板中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
如图3所示，本发明实施例提供了又一种彩膜基板00。在该彩膜基板00中，TSP图形002可以包括多个TSP导线0021，多个凹形弧面A可以包括：第一凹形弧面A1和第二凹形弧面A2。该多个TSP导线0021中的每个TSP导线0021的上表面a都形成有多个阵列排布的第一凹形弧面A1，每个TSP导线的侧面b都 形成有第二凹形弧面A2。示例的，该TSP导线的材质为ITO(英文：Indium Tin Oxide；中文：氧化铟锡)，本发明实施例中的彩膜基板00是采用单层ITO(Single ITO)技术制成的，该TSP导线所在的ITO层可视为单层ITO技术中的单层ITO。
由于该TSP导线0021上表面a上的多个第一凹形弧面A1呈阵列排布，即该多个第一凹形弧面A1均匀的排布在该TSP导线0021的上表面a，减小了该TSP导线0021上表面a上形成有第一凹形弧面A1与现有技术中TSP导线0021上表面a上没有形成有第一凹形弧面A1的差异；且该TSP导线0021的侧面b形成有第二凹形弧面A2，当背光源发出的光在经过该彩膜基板00时，该TSP导线0021的上表面a和侧面b上的多个凹形弧面A可以将光向多个不同的方向折射，减弱了现有技术中光线在经过TSP导线0021的上表面a和侧面b后的强度，减小了该彩膜基板00上有TSP图形的部分与该彩膜基板00上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，减小了该彩膜基板00上有TSP图形的部分与该彩膜基板00上没有TSP图形的部分外观上的差异；当光线打在该TSP导线0021的上表面a和侧面b时，该多个凹形弧面A能够对光线进行散射，进一步的减小了该彩膜基板00上有TSP图形的部分与该彩膜基板00上没有TSP图形的部分外观上的差异，减少了该彩膜基板上的条纹。
优选的，该第一凹形弧面A1的开口可以呈圆形，圆形的开口可以使得该多个阵列排布的第一凹弧面A1在该TSP导线0021上表面的分布更加均匀，进一步的减小了该TSP导线0021上表面a形成有第一凹形弧面A1与现有技术中TSP导线0021上表面a没有形成有第一凹形弧面A1的差异。需要说明的是，该第一凹形弧面A1的开口还可以为椭圆，本发明实施例对此不做限定。
如图3所示，该彩膜基板00还可以包括：位于该透明基板001的另一侧的色阻层003，该色阻层003可以包括彩色像素0031，及位于每两个相邻的彩色像素0031之间的黑矩阵0032。该色阻层003的具体结构可以参照现有技术中对该色阻层003具体结构的描述，本发明实施例在此不做赘述。
示例的，本发明实施例提供的彩膜基板00可以适用于在保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器的方式制造的触摸屏，和在液晶面板上形成ITO导电膜及传感器的方式制造的触摸屏。
综上所述，由于本发明实施例提供的彩膜基板中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板 上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了一种彩膜基板的制造方法，该彩膜基板的制造方法可以包括：
在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形。
综上所述，由于本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
具体的，在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形可以包括：在透明基板的一侧形成ITO薄膜；通过第一次构图工艺形成包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形；通过第二次构图工艺形成TSP图形，TSP图形包括多个TSP导线，每个TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个TSP导线的侧面形成有第二凹形弧面。
示例的，第一次构图工艺和第二次构图工艺中使用的光刻胶均为负性光刻胶。第一凹形弧面的开口呈圆形，当ITO薄膜的厚度为(埃)时，圆形的直径为第一凹形弧面的最大深度为
进一步的，该彩膜基板的制造方法还可以包括：在透明基板的另一侧形成色阻层，色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵。
综上所述，由于本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过 该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了另一种彩膜基板的制造方法，如图4所示，该彩膜基板的制造方法可以包括：
步骤401、在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形。
具体的，该多个凹形弧面可以包括：第一凹形弧面和第二凹形弧面。
如图5所示，步骤401可以包括：
步骤4011、在透明基板的一侧形成ITO薄膜。
具体的，可以通过溅射的方式在该透明基板上形成ITO薄膜。实际应用中，也可以通过沉积或涂敷的方式在该透明基板上形成ITO薄膜，本发明实施例对此不做限定。图6为本发明实施例提供的一种透明基板601的正视图和俯视图，该透明基板601的一侧形成有ITO薄膜602，由于该透明基板601的表面是平整的，所以形成于该透明基板601一侧的ITO薄膜602的表面也是平整的。示例的，该ITO薄膜602的厚度x可以为
步骤4012、通过第一次构图工艺形成包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形。
示例的，可以对步骤4011中形成的ITO薄膜依次进行涂光刻胶、使用掩膜板进行曝光、用显影液进行显影、用刻蚀液进行刻蚀和剥离光刻胶等第一次构图工艺形成包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形，该第一凹形弧面的开口可以呈圆形。如图7所示，图7为经过第一次构图工艺后形成的透明基板601的正视图和俯视图，该透明基板601的一侧形成有ITO图形701，该ITO图形701可以包括多个阵列排布的第一凹形弧面A1。该第一凹形弧面A1的开口的直径B以及该第一凹形弧面A1的最大深度C均与步骤4011中形成的该ITO薄膜的厚度相关，示例的，当步骤4011中形成的ITO薄膜的厚度为时，该第一凹形弧面A1的开口的直径B可以为该第一凹形弧面A1 的最大深度C可以为该多个第一凹形弧面A1呈阵列均匀的排布在该ITO薄膜上。
需要说明的是，在该第一次构图工艺中使用的光刻胶为负性光刻胶，在该第一次构图工艺中使用的掩膜板可以为表面设置有多个阵列排布的圆孔的掩膜板，且在使用刻蚀液进行刻蚀时，可以通过控制刻蚀所用的时间及温度等参数，使得在该ITO薄膜的表面形成多个阵列排布的开口呈圆形的第一凹形弧面。该第一凹形弧面的开口呈圆形可以使得该多个阵列排布的第一凹弧面均匀的分布在该ITO薄膜的表面，减小了该ITO薄膜的表面形成有第一凹形弧面与现有技术中ITO薄膜的表面没有形成有第一凹形弧面的差异。示例的，该第一次构图工艺中，使用的掩膜板也可以为表面设置有多个阵列排布的椭圆形通孔的掩膜板，本发明实施例对此不做限定。当该掩膜板为表面设置有多个阵列排布的椭圆形通孔的掩膜板时，经过第一次构图工艺后形成的第一凹形弧面的开口为椭圆。
步骤4013、通过第二次构图工艺形成TSP图形，TSP图形包括多个TSP导线，每个TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个TSP导线的侧面形成有第二凹形弧面。
示例的，可以对步骤4012中形成的包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形依次进行涂光刻胶、使用掩膜板进行曝光、用显影液进行显影、用刻蚀液进行刻蚀和剥离光刻胶等第二次构图工艺形成TSP图形，该TSP图形可以包括TSP导线。需要说明的是，在该第二次构图工艺中使用的光刻胶为负性光刻胶，该第二次构图工艺中使用的掩膜板可以与现有技术中形成TSP图形时所使用的掩膜板相同，但在进行刻蚀时，该第二次构图工艺中所使用的刻蚀时间小于现有技术中刻蚀时所使用的时间。图8为经过第二次构图工艺后形成的透明基板601的正视图，该透明基板601的一侧形成有TSP图形801，如图8所示，该TSP图形801可以包括TSP导线8011，每个该TSP导线8011的上表面W形成有多个阵列排布的第一凹形弧面A1，每个TSP导线8011的侧面V形成有第二凹形弧面A2，该TSP导线8011的上表面W的多个阵列排布的第一凹形弧面A1为在步骤4012中形成的。
由于该TSP导线8011上表面W上的多个第一凹形弧面A1呈阵列排布，且该TSP导线8011的侧面V形成有第二凹形弧面A2，当背光源发出的光在经过彩 膜基板时，该TSP导线8011的上表面W和侧面V可以将光向多个不同的方向折射，减弱了现有技术中光线在经过TSP导线8011的上表面W和侧面V后的强度，减小了彩膜基板上有TSP图形801的部分与彩膜基板上没有TSP图形801的部分对背光源发出的光的折射的差异，减小了彩膜基板上有TSP图形801的部分与彩膜基板上没有TSP图形801的部分外观上的差异；当光线打在该TSP导线8011的上表面W和侧面V时，该多个凹形弧面A能够对光线进行散射，进一步的减小了彩膜基板上有TSP图形801的部分与彩膜基板上没有TSP图形801的部分外观上的差异，减少了该彩膜基板上的条纹。
步骤402、在透明基板的另一侧形成色阻层。
如图9所示，该色阻层603可以包括彩色像素6031，及位于每两个相邻的彩色像素6031之间的黑矩阵6032，在该透明基板601的另一侧形成色阻层603的具体步骤可以参考现有技术，本发明实施例在此不做赘述。
需要说明的是，步骤402与步骤401的顺序可以相互调换，本发明实施例对此不做限定。
综上所述，由于本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了一种触摸屏，该触摸屏可以包括图2或图3所示的彩膜基板。
综上所述，由于本发明实施例提供的触摸屏中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在 该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置可以包括触摸屏，该触摸屏可以包括图2或图3所示的彩膜基板。具体的，该显示装置可以为：液晶面板、OLED面板、手机、平板电脑、显示器、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的装置。
综上所述，由于本发明实施例提供的显示装置中，在彩膜基板上透明基板一侧的TSP图形表面形成有多个凹形弧面，当背光源发出的光透过该彩膜基板上的TSP图形时，该多个凹形弧面能够将光线向多个不同的方向折射，减弱了光线在经过该TSP图形后的强度，减小了该彩膜基板上有TSP图形的部分与该彩膜基板上没有TSP图形的部分对背光源发出的光的折射的差异，且当光线打在该彩膜基板的显示侧时，该多个凹形弧面能够对将光线向多个方向散射，减小了该彩膜基板对光线反射后光线的强度，所以，减少了在显示图像的过程中该彩膜基板表面的条纹，增强了显示效果。
上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本发明的可选实施例，在此不再一一赘述。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
透明基板；
位于所述透明基板一侧的触摸屏面板TSP图形，所述TSP图形的表面形成有多个凹形弧面；所述多个凹形弧面包括第一凹形弧面和第二凹形弧面，所述TSP图形包括多个TSP导线，每个所述TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个所述TSP导线的侧面形成有所述第二凹形弧面。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，
所述第一凹形弧面的开口呈圆形。
3.根据权利要求1或2所述的彩膜基板，其特征在于，
所述彩膜基板还包括：位于所述透明基板的另一侧的色阻层，
所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵。
4.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜基板的制造方法包括：
在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形，其中，所述多个凹形弧面包括第一凹形弧面和第二凹形弧面，所述TSP图形包括多个TSP导线，每个所述TSP导线的上表面形成有多个阵列排布的第一凹形弧面，每个所述TSP导线的侧面形成有所述第二凹形弧面。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述在透明基板的一侧形成表面具有多个凹形弧面的TSP图形，包括：
在透明基板的一侧形成氧化铟锡ITO薄膜；
通过第一次构图工艺形成包括多个阵列排布的第一凹形弧面的ITO图形；
通过第二次构图工艺形成所述TSP图形。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，
所述第一次构图工艺和所述第二次构图工艺中使用的光刻胶均为负性光刻 胶。
7.根据权利要求5所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，
所述第一凹形弧面的开口呈圆形，当所述ITO薄膜的厚度为时，所述圆形的直径为所述第一凹形弧面的最大深度为
8.根据权利要求4至7任一权利要求所述的彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述彩膜基板的制造方法还包括：
在所述透明基板的另一侧形成色阻层，所述色阻层包括彩色像素，及位于每两个相邻的彩色像素之间的黑矩阵。
9.一种触摸屏，其特征在于，包括：权利要求1至3任意一项权利要求所述的彩膜基板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求9所述的触摸屏。
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