CN104698675A - 显示面板及其形成方法 - Google Patents

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Shanghai AVIC Optoelectronics Co Ltd
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Abstract

一种显示面板及其形成方法。其中，所述显示面板包括：相对设置的第一基板和第二基板；所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵。所述显示面板的性能提高。

Description

显示面板及其形成方法
技术领域
本发明涉及显示领域，尤其涉及一种显示面板及其形成方法。
背景技术
液晶显示器(liquid crystal display，LCD)和有机发光二极管(OrganicLight-Emitting Diode，OLED)显示器具有低辐射、体积小及低耗能等优点，被广泛地应用在笔记本电脑、个人数字助理(Personal Digital Assistant，PDA)、平面电视，或移动电话等信息产品上。
显示技术集成触控技术已经逐渐遍及到人们的生活中。目前，触摸屏按照组成结构可以分为：外挂式触摸屏、覆盖表面式触摸屏、以及内嵌式触摸屏。其中内嵌式触摸屏将触摸屏的触控电极内嵌在显示器面板的内部，可以减薄模组整体的厚度，又可以大大降低触摸屏的制作成本，受到各大面板厂家青睐。现有的内嵌式电容触摸屏包括利用互电容和自电容两种原理实现检测手指触摸位置。其中，利用自电容的原理可以在触摸屏中设置多个同层设置且相互绝缘的自电容电极。当人体未触碰屏幕时，各自电容电极所承受的电容为固定值。当人体触碰屏幕时，对应的自电容电极所承受的电容为固定值叠加人体电容。触控侦测芯片在触控时间段内，通过检测各自电容电极的电容值变化可以判断出触控位置。
四色子像素被运用于液晶面板中以达到提高面板亮度的效果。然而，对于采用自电容原理的内嵌式电容触摸屏而言，当考虑到自电容触控电极及其信号线的分布时，需要对四色子像素进行专门设计，以防止漏光，或者避免器件结构未被完全遮挡的问题。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种显示面板及其形成方法，以提高显示面板的显示性能。
为解决上述问题，本发明的其中一个方面提供一种显示面板，包括：相对设置的第一基板和第二基板；所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵。
为解决上述问题，本发明的另一个方面提供一种显示面板的形成方法，包括：形成相对设置第一基板和第二基板；在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域；在相邻所述像素区域之间的间隔区域形成第一黑矩阵；在每个所述像素区域设置第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元；在所述第四子像素区域形成第四子像素单元和第二黑矩阵。
与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：
本发明的技术方案中，所述第一基板上增加了第二黑矩阵，所述第二黑矩阵可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，从而提高显示面板的显示性能。
本发明进一步技术方案中，在所述第二基板上，同一行中相邻两个公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置，从而使所述第一间隔区域的宽度增大。而所述第一间隔区域增大，可以防止同一行的相邻两个公共电极之间出现刻蚀残留等情况，也就能够防止同一行的相邻两个公共电极之间出现短路等问题，从而进一步提高显示面板的显示性能。
附图说明
图1是现有显示面板的其中一个基板局部示意图；
图2是图1所示现有显示面板的另一个基板局部示意图；
图3是本发明实施例所提供的显示面板中第一基板局部示意图；
图4是图3所示显示面板中第二基板局部示意图；
图5是本发明另一实施例所提供的显示面板中第一基板局部示意图；
图6是图5所示显示面板中第二基板局部示意图；
图7是本发明另一实施例所提供的显示面板中第一基板局部示意图；
图8是图7所示显示面板中第二基板局部示意图；
图9是本发明另一实施例所提供的显示面板中第一基板局部示意图；
图10是图9所示显示面板中第二基板局部示意图。
具体实施方式
图1是现有显示面板的其中一个基板局部示意图，所述基板上具有呈行列矩阵排布的多个像素区域110。图1中用一个虚线框所包围其中一个像素区域110，以进行显示。相邻像素区域110之间的间隔区域具有第一黑矩阵120。每个像素区域110具有第一子像素区域111、第二子像素区域112、第三子像素区域113和第四子像素区域114。第一子像素区域111具有第一子像素单元(未示出)，第二子像素区域112具有第二子像素单元(未示出)，第三子像素区域113具有第三子像素单元(未示出)。第四子像素区域114具有第四子像素单元114。
图2是图1所示现有显示面板的另一个基板局部示意图，所述基板设置有多个面积相同的电极131。电极131通过信号线133一一对应电连接至芯片134。其中，各信号线133分别通过位于绝缘层(未示出)上的过孔132与对应的电极131电连接。其中，相邻电极131之间的间隙和信号线133等结构均需要在设计过程中，采用不透光的黑矩阵加以遮挡。
现有技术中，未能全面统筹考虑图1和图2中的两个基板，例如为提高显示性能时，电极131、信号线133和其它结构需要进行调整和变化，而现有技术无法提供相应的遮挡方案，导致器件结构暴露或者漏光等情况的出现，同时也导致显示面板的性能无法提高。
为此，本发明提供了一种显示面板及其形成方法。所述显示面板通过在第一基板上增加设置第二黑矩阵，用于遮挡所述第二基板上的结构，防止第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，从而提高显示面板的显示性能。
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
本发明实施例提供一种显示面板。
请结合参考图3和图4，本实施例所提供的显示面板包括相对设置的第一基板(未标注)和第二基板(未标注)。其中，所述第一基板的局部结构如图3所示，所述第二基板的局部结构如图4所示。所述第一基板可以为彩膜基板，所述第二基板可以为阵列基板。
请参考图3，所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域210，图3中用一个虚线框包围其中一个像素区域210。相邻像素区域210之间的间隔区域具有第一黑矩阵220。每个像素区域210具有第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214。第一子像素区域211具有第一子像素单元(未示出)，第二子像素区域212具有第二子像素单元(未示出)，第三子像素区域213具有第三子像素单元(未示出)。第四子像素区域214具有第四子像素单元2141和第二黑矩阵2142。
需要说明的是，第一黑矩阵220还同时位于各子像素区域相互之间的间隔区域，即第一黑矩阵220还同时位于第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214之间的间隔区域。
本实施例中，每个像素区域210的第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域214也可以排布在第一子像素区域211前面，或者所述四个子像素区域也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域210具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元2141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214的面积相等。此时，由于第四子像素区域214同时具有第四子像素单元2141和第二黑矩阵2142，因此，第四子像素单元2141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214的面积也可以不相等。
请继续参考图3，在行方向上，第二黑矩阵2142位于第四子像素单元2141与第一黑矩阵220之间。而在列方向上，第二黑矩阵2142被第一黑矩阵220包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图3中的水平方向，列方向为图3中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图4，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极230，图4中示出位于同一行的两个公共电极230为代表。同一行的相邻所述公共电极230之间具有第一间隔区域(未标注)，即所述第一间隔区域位于图4所示两个公共电极230之间。
请继续参考图4，所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置。图4中用虚线框2142a表示第二黑矩阵2142在所述第一间隔区域的投影。
虽然第一黑矩阵220在所述第一间隔区域的投影未示出，但是，除了被虚线框2142a包围的部分，所述第一间隔区域其它部分均与第一黑矩阵220对应设置。
本实施例中，为使所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置，可以使得所述第一间隔区域同时正对第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142。
请继续参考图4，所述第二基板上还具有信号线240、像素电极250、数据线260和栅线270。像素电极250、数据线260和栅线270分别连接薄膜晶体管(薄膜晶体管，图4中未标注)的漏极、源极和栅极。
图4中虽未显示，但信号线240电连接公共电极230，公共电极230通过信号线240实现至少两个方面的功能：在显示阶段，公共电极230与像素电极250一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，公共电极230又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例所提供的显示面板中，所述第一基板上增加了第二黑矩阵2142，而第二黑矩阵2142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止所述第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
同时，所述第二基板上，所述第一间隔区域与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置，相比于所述第一间隔区域仅与第一黑矩阵220对应设置而言，所述第一间隔区域的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵2142的宽度。而所述第一间隔区域增大，可以防止同一行的相邻两个公共电极230之间出现刻蚀残留等情况，也就能够防止同一行的相邻两个公共电极230之间出现短路等问题，从而进一步提高显示面板的显示性能。
需要说明的是，本实施例中，所述第一间隔区域的宽度为所述第一间隔区域在行方向上的尺寸大小。第二黑矩阵2142的宽度为第二黑矩阵2142在行方向上的尺寸大小。
本发明实施例还提供了一种显示面板的形成方法，所述形成方法可以用于形成前述实施例所提供的显示面板，因此，所述形成方法可参考前述实施例相应内容。
请参考图3，在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域210。在相邻像素区域210之间的间隔区域形成第一黑矩阵220。在每个像素区域210设置第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214。在所述第一子像素区域形成第一子像素单元(未示出)，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元(未示出)，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元(未示出)。在所述第四子像素区域形成第四子像素单元2141和第二黑矩阵2142。
本实施例中，所述第一基板的材料可以为玻璃。
本实施例中，每个像素区域210的第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域214也可以排布在第一子像素区域211前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域210具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。各子像素单元的材料可以是颜料或染料。
本实施例中，第四子像素单元2141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。第四子像素单元的材料也可以是颜料或染料。
本实施例中，第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214的面积相等。此时，由于第四子像素区域214同时具有第四子像素单元2141和第二黑矩阵2142，因此，第四子像素单元2141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域211、第二子像素区域212、第三子像素区域213和第四子像素区域214的面积也可以不相等。
请继续参考图3，在行方向上，将第二黑矩阵2142形成在第四子像素单元2141与第一黑矩阵220之间。而在列方向上，第二黑矩阵2142被第一黑矩阵220包围。
本实施例中，第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作，具体材料可以是有机的，也可以是无机的，例如可以为含铬的无机黑色材料。并且第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。具体采用的工艺方法可以为染料法，颜料分散法，印刷发或电沉积法。
请参考图4，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极230，图4中示出其中位于同一行的两个公共电极230为代表。在同一行的相邻所述公共电极230之间形成第一间隔区域(未标注)，即所述第一间隔区域为图4所示的两个公共电极230之间的间隔区域。
请继续参考图4，将所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置，图4中用虚线框2142a表示第二黑矩阵2142在所述第一间隔区域的投影。
虽然第一黑矩阵220在所述第一间隔区域的投影未示出，但是，除了被虚线框2142a包围的部分，所述第一间隔区域其它部分均与第一黑矩阵220对应设置。
本实施例中，为使所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置，可以将所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142正对，所述正对指：在显示区域内，所述第一间隔区域与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142在垂直于图4所示平面的方向上完全重叠。
请继续参考图4，本实施例还包括在所述第二基板上形成数据线260和栅线270，数据线260和栅线270限定出第二基板上的像素区域(未标注)，并在每个所述像素区域内形成像素电极250，并形成薄膜晶体管(未标注)，所述薄膜晶体管的漏极、源极和栅极分别电连接像素电极250、数据线260和栅线270。同时，在公共电极230和数据线260两层之间，形成信号线240。
图4中虽未显示，但信号线240电连接公共电极230。公共电极230通过信号线240实现至少两个方面的功能：在显示阶段，公共电极230与像素电极250一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，公共电极230又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例中，具体可以采用下述步骤形成所述第二基板的各结构：
步骤一，在所述第二基板上形成图案化的栅线270，并在所述栅线270上方沉积第一绝缘材料，形成第一绝缘层(未示出)；
步骤二：在所述第一绝缘层上沉积半导体材料，并图案化所述半导体材料，从而形成位于栅线270上方的有源层(未示出)；
步骤三：在所述有源层和第一绝缘层上方沉积第二金属层，并图案化所述第二金属层，以形成与所述有源层电连接的第一导电电极(如源极)和第二导电电极(如漏极)，从而形成具有所述源极、漏极和栅线270的薄膜晶体管，另有部分剩余的第二金属层保留为数据线260，所述第一导电电极电连接所述数据线260；
步骤四：在所述有源层和第一绝缘层上方沉积第二绝缘材料，以形成第二绝缘层(未示出)，所述第二绝缘层用于保护有源层中的沟道区域；
步骤五：形成有机绝缘层(未示出)覆盖上述整体结构，有机绝缘层一方面具有较高的表面平坦度，另一方面能够增加后续形成的电极结构(例如公共电极230和像素电极等)与所述薄膜晶体管等结构的距离，从而减小寄生电容；
步骤六：在所述有机绝缘层表面形成公共电极230，在公共电极230形成过程中，需要对公共电极230的电极材料进行刻蚀，所述电极材料被刻开的其中一部分形成所述第一间隔区域；
步骤七：在公共电极230层上形成第三绝缘层(未示出)；
步骤八：刻蚀所述第三绝缘层及以下方的结构以形成第一过孔(未示出)，所述第一过孔暴露公共电极230，并采用金属材料填充所述第一过孔，以形成信号线240，信号线240电连接公共电极230；
步骤九：刻蚀所述第三绝缘层及以下方的结构以形成第二过孔(未示出)，所述第二过孔暴露第二导电电极的第二过孔，并在所述第三绝缘层上形成像素电极，所述像素电极通过所述第二过孔电连接所述第二导电电极。
本发明其它实施例中，公共电极230和所述像素电极可以由透明导电金属氧化物制作而成，例如由铟锡氧化物制作。所述第一绝缘层、第二绝缘层和第三绝缘层可以由氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等材料制作。上述各层的上下位置可以对应调整，在此不再一一赘述。
本实施例所提供的显示面板的形成方法中，在所述第一基板上增加形成了第二黑矩阵2142，而第二黑矩阵2142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况。
同时，所述第二基板上，设置所述第一间隔区域同时与第一黑矩阵220和第二黑矩阵2142对应设置，相比于所述第一间隔区域仅与第一黑矩阵220对应设置而言，所述第一间隔区域的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵2142的宽度。而所述第一间隔区域增大，可以防止同一行的相邻两个公共电极230之间出现刻蚀残留等情况，也就能够防止同一行的相邻两个公共电极230之间出现短路等问题，从而提高显示面板的显示性能。
本发明另一实施例提供了另一种显示面板。
请结合参考图5和图6，本实施例所提供的显示面板包括相对设置的第一基板(未标注)和第二基板(未标注)。其中，所述第一基板的局部结构如图5所示，所述第二基板的局部结构如图6所示。所述第一基板可以为彩膜基板，所述第二基板可以为阵列基板。
请参考图5，所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域310，图5中用一个虚线框所包围其中一个像素区域310。相邻像素区域310之间的间隔区域具有第一黑矩阵320。每个像素区域310具有第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314。第一子像素区域311具有第一子像素单元(未示出)，第二子像素区域312具有第二子像素单元(未示出)，第三子像素区域313具有第三子像素单元(未示出)。第四子像素区域314具有第四子像素单元3141和第二黑矩阵3142。
需要说明的是，第一黑矩阵320还同时位于各子像素区域相互之间的间隔区域。
本实施例中，每个像素区域310的第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域314也可以排布第一子像素区域311前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域310具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元3141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314的面积相等。此时，由于第四子像素区域314同时具有第四子像素单元3141和第二黑矩阵3142，因此，第四子像素单元3141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314的面积也可以不相等。
请继续参考图5，在行方向上，第二黑矩阵3142位于第四子像素单元3141与第一黑矩阵320之间。而在列方向上，第二黑矩阵3142被第一黑矩阵320包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图5中的水平方向，列方向为图5中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图6，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极(未示出)。每个所述公共电极电连接一条第一信号线，图6中示出了两条所述第一信号线，分别为第一信号线3301和第一信号线3302。
本实施例中，第一信号线3301和第一信号线3302位于所述第二基板上一个像素区域的相对两侧边。本实施例中，所述相对两侧边为行方向上相对的两侧边。
图6虽未显示，但第一信号线3301与第一黑矩阵320相对设置。
请继续参考图6，第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置。图6中用虚线框3142a表示第二黑矩阵3142在第一信号线3302的投影。
虽然第一黑矩阵320在第一信号线3302的投影未示出，但是，除了被虚线框3142a包围的部分，第一信号线3302其它部分均与第一黑矩阵320对应设置。
本实施例中，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。需要说明的是，在其它实施例中，也可以全部所述第一信号线均仅与所述第一黑矩阵相对设置。此时所述第一基板上增加的第二黑矩阵虽然没有直接与所述第一信号线相对设置，但是第二黑矩阵的存在，仍然可以减小所述第一信号线被暴露的风险。原因是，所述第一信号线通常采用金属材料制作，当所述第一信号线对位发生偏差时，增加的第二黑矩阵能够遮挡所述第一信号线，使所述第一信号线不容易因对位偏差而出现金属反光，也就降低了漏光风险。
本实施例中，为使第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，可以使得第一信号线3302同时正对第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142，所述正对指：在显示区域内，第一信号线3302与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142在垂直于图6所示平面的方向上完全重叠。
需要说明的是，在其它实施例中，同一行的相邻所述公共电极具有第一间隔区域(未示出)，此时，除了使第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，还可以同时使所述第一间隔区域与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，即前述实施例所提供的方案和本实施例所提供的方案可以配合在一起使用。本发明不同实施例之间的方案可以进行相应的组合。
请继续参考图6，所述第二基板上还具有像素电极340、数据线350和栅线360。像素电极340、数据线350和栅线360分别连接薄膜晶体管(薄膜晶体管，图6中未标注)的漏极、源极和栅极。
图6中虽未显示，但每条所述第一信号线电连接一个所述公共电极，所述公共电极通过所述第一信号线实现至少两个方面的功能：在显示阶段，所述公共电极与像素电极340一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，所述公共电极又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例所提供的显示面板中，所述第一基板上增加了第二黑矩阵3142，而第二黑矩阵3142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止所述第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况。
同时，所述第二基板上，第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，相比于第一信号线3302仅与第一黑矩阵320对应设置而言，第一信号线3302的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵3142的宽度。而第一信号线3302宽度增大，可以减小第一信号线3302自身的电阻，进而减小所述公共电极在触控阶段时的信号干扰强度，提高显示面板的触控性能。
需要说明的是，所述第一信号线的宽度为所述第一信号线在行方向上的尺寸大小，第二黑矩阵3142的宽度为第二黑矩阵3142在行方向上的尺寸大小。
本发明实施例还提供了另一种显示面板的形成方法，所述形成方法可以用于形成前述实施例所提供的显示面板，因此，所述形成方法可参考前述实施例相应内容。
请参考图5，在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域310。在相邻像素区域310之间的间隔区域形成第一黑矩阵320。在每个像素区域310设置第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314。在所述第一子像素区域形成第一子像素单元(未示出)，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元(未示出)，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元(未示出)。在所述第四子像素区域形成第四子像素单元3141和第二黑矩阵3142。
本实施例中，每个像素区域310的第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域314也可以排布第一子像素区域311前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域310具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元3141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314的面积相等。此时，由于第四子像素区域314同时具有第四子像素单元3141和第二黑矩阵3142，因此，第四子像素单元3141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域311、第二子像素区域312、第三子像素区域313和第四子像素区域314的面积也可以不相等。
请继续参考图5，在行方向上，将第二黑矩阵3142形成在第四子像素单元3141与第一黑矩阵320之间。而在列方向上，第二黑矩阵3142被第一黑矩阵320包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图5中的水平方向，列方向为图5中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图6，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极(未示出)，设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，图6中示出了两条所述第一信号线，分别为第一信号线3301和第一信号线3302。将第一信号线3301与第一黑矩阵320相对设置。
请继续参考图6，将第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置。图6中用虚线框3142a表示第二黑矩阵3142在第一信号线3302的投影。
虽然第一黑矩阵320在第一信号线3302的投影未示出，但是，除了被虚线框3142a包围的部分，第一信号线3302其它部分均与第一黑矩阵320对应设置。
本实施例中，为使第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，可以将第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142正对。
本实施例中，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。需要说明的是，在其它实施例中，也可以将全部所述第一信号线均仅与所述第一黑矩阵相对设置。此时所述第一基板上增加的第二黑矩阵虽然没有直接与所述第一信号线相对设置，但是第二黑矩阵的存在，仍然可以减小所述第一信号线被暴露的风险。
请继续参考图6，本实施例还包括在所述第二基板上形成数据线350和栅线360，数据线350和栅线360限定出所述第二基板上的像素区域(未标注)。在每个所述像素区域内形成像素电极340，并形成薄膜晶体管。所述薄膜晶体管的漏极、源极和栅极分别电连接像素电极340、数据线350和栅线360。同时，所述第一信号线形成在所述公共电极和数据线350两层之间。
图6中虽未显示，但所述第一信号线电连接所述公共电极。所述公共电极通过所述第一信号线实现至少两个方面的功能：在显示阶段，所述公共电极与像素电极340一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，所述公共电极又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例所提供的显示面板的形成方法中，在所述第一基板上增加形成了第二黑矩阵3142，而第二黑矩阵3142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止所述第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
同时，所述第二基板上，设置第一信号线3302同时与第一黑矩阵320和第二黑矩阵3142对应设置，相比于第一信号线3302仅与第一黑矩阵320对应设置而言，第一信号线3302的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵3142的宽度。而第一信号线3302宽度增大，可以减小第一信号线3302自身的电阻，进而减小所述公共电极在触控阶段时的信号干扰强度，从而提高显示面板的触控性能。
本发明另一实施例提供了另一种显示面板。
请结合参考图7和图8，本实施例所提供的显示面板包括相对设置的第一基板(未标注)和第二基板(未标注)。其中，所述第一基板的局部结构如图7所示，所述第二基板的局部结构如图8所示。所述第一基板可以为彩膜基板，所述第二基板可以为阵列基板。
请参考图7，所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域410，图7中用一个虚线框包围其中一个像素区域410。相邻像素区域410之间的间隔区域具有第一黑矩阵420。每个像素区域410具有第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414。第一子像素区域411具有第一子像素单元(未示出)，第二子像素区域412具有第二子像素单元(未示出)，第三子像素区域413具有第三子像素单元(未示出)。第四子像素区域414具有第四子像素单元4141和第二黑矩阵4142。
需要说明的是，第一黑矩阵420还同时位于各子像素区域相互之间的间隔区域。
本实施例中，每个像素区域410的第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域414也可以排布在第一子像素区域411前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域410具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元4141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414的面积相等。此时，由于第四子像素区域414同时具有第四子像素单元4141和第二黑矩阵4142，因此，第四子像素单元4141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414的面积也可以不相等。
请继续参考图7，在行方向上，第二黑矩阵4142位于第四子像素单元4141与第一黑矩阵420之间。而在列方向上，第二黑矩阵4142被第一黑矩阵420包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图7中的水平方向，列方向为图7中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图8，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极(未示出)。每个所述公共电极电连接一条第一信号线，图8中示出了一条第一信号线430。
请继续参考图8，第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置，图8中用虚线框4142a表示第二黑矩阵4142在第一信号线430的投影。
虽然第一黑矩阵420在第一信号线430的投影未示出，但是，除了被虚线框4142a包围的部分，第一信号线430其它部分均与第一黑矩阵420对应设置。
本实施例中，每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。需要说明的是，在其它实施例中，某些所述第一信号线也可以仅与所述第一黑矩阵相对设置。此时所述第一基板上增加的第二黑矩阵虽然没有直接与这些所述第一信号线相对设置，但是第二黑矩阵的存在，仍然可以减小这些所述第一信号线被暴露的风险。
本实施例中，为使第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置，可以使得第一信号线430同时正对第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142，所述正对指：在显示区域内，第一信号线430与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142在垂直于图8所示平面的方向上完全重叠。
请继续参考图8，所述第二基板上还具有像素电极440、数据线450和栅线460。像素电极440、数据线450和栅线460分别连接薄膜晶体管(薄膜晶体管，图8中未标注)的漏极、源极和栅极。
图8中虽未显示，但每条第一信号线430电连接一个所述公共电极，所述公共电极通过第一信号线430实现至少两个方面的功能：在显示阶段，所述公共电极与像素电极440一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，所述公共电极又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例所提供的显示面板中，所述第一基板上增加了第二黑矩阵4142，而第二黑矩阵4142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
同时，所述第二基板上，第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置。相比于第一信号线430仅与第一黑矩阵420对应设置而言，第一信号线430的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵4142的宽度。而第一信号线430宽度增大，可以减小第一信号线430自身的电阻，进而减小所述公共电极在触控阶段时的信号干扰强度，从而提高显示面板的触控性能。
同时，由于不存在仅与第一黑矩阵420相对设置的第一信号线，这种情况还能够减少第一信号线的数量(如图8中显示了六条数据线450上方，只有一条数据线450上方具有第一信号线430)，简化显示面板的结构。
需要说明的是，第一信号线430的宽度为第一信号线430在行方向上的尺寸大小，第二黑矩阵4142的宽度为第二黑矩阵4142在行方向上的尺寸大小。
本发明实施例还提供了另一种显示面板的形成方法，所述形成方法可以用于形成前述实施例所提供的显示面板，因此，所述形成方法可参考前述实施例相应内容。
请参考图7，在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域410。在相邻像素区域410之间的间隔区域形成第一黑矩阵420。在每个像素区域410设置第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414。在所述第一子像素区域形成第一子像素单元(未示出)，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元(未示出)，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元(未示出)。在所述第四子像素区域形成第四子像素单元4141和第二黑矩阵4142。
本实施例中，每个像素区域410的第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域414也可以排布第一子像素区域411前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域410具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元4141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414的面积相等。此时，由于第四子像素区域414同时具有第四子像素单元4141和第二黑矩阵4142，因此，第四子像素单元4141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域411、第二子像素区域412、第三子像素区域413和第四子像素区域414的面积也可以不相等。
请继续参考图7，在行方向上，第二黑矩阵4142形成在第四子像素单元4141与第一黑矩阵420之间。而在列方向上，第二黑矩阵4142被第一黑矩阵420包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图7中的水平方向，列方向为图7中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图8，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极(未示出)，设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，图8中示出了一条第一信号线430。
请继续参考图8，将第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置，图8中用虚线框4142a表示第二黑矩阵4142在第一信号线430的投影。
虽然第一黑矩阵420在第一信号线430的投影未示出，但是，除了被虚线框4142a包围的部分，第一信号线430其它部分均与第一黑矩阵420对应设置。
本实施例中，为使第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置，可以将第一信号线430同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142正对。
本实施例中，将全部所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。需要说明的是，在其它实施例中，也可以将全部所述第一信号线均仅与所述第一黑矩阵相对设置。此时所述第一基板上增加的第二黑矩阵虽然没有直接与所述第一信号线相对设置，但是第二黑矩阵的存在，仍然可以减小所述第一信号线被暴露的风险。
请继续参考图8，本实施例还包括在所述第二基板上形成数据线450和栅线460，数据线450和栅线460限定出第二基板上的像素区域(未标注)。在每个所述像素区域内形成像素电极440，并形成薄膜晶体管。所述薄膜晶体管的漏极、源极和栅极分别电连接像素电极440、数据线450和栅线460。同时，第一信号线430形成在所述公共电极和数据线450两层之间。
图8中虽未显示，但第一信号线430电连接所述公共电极。所述公共电极通过第一信号线430实现至少两个方面的功能：在显示阶段，所述公共电极与像素电极440一起提供相应的驱动电场；在触控阶段，所述公共电极又作为自电容触控电极，进行触控操作的检测。
本实施例所提供的显示面板的形成方法中，在所述第一基板上增加形成了第二黑矩阵4142，而第二黑矩阵4142可以用于遮挡所述第二基板上的结构，防止第二基板上的结构暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
同时，所述第二基板上，设置全部第一信号线430均同时与第一黑矩阵420和第二黑矩阵4142对应设置，相比于第一信号线430仅与第一黑矩阵420对应设置而言，第一信号线430的宽度可以增大，增大宽度为第二黑矩阵4142的宽度。而第一信号线430宽度增大，可以减小第一信号线430自身的电阻，进而减小所述公共电极在触控阶段时的信号干扰强度，从而提高显示面板的触控性能。
同时，由于不存在仅与第一黑矩阵420相对设置的第一信号线，还减少了第一信号线的数量，简化了显示面板的结构。
本发明另一实施例还提供了另一种显示面板。
请结合参考图9和图10，本实施例所提供的显示面板包括相对设置的第一基板(未标注)和第二基板(未标注)。其中，所述第一基板的局部结构如图9所示，所述第二基板的局部结构如图10所示。所述第一基板可以为彩膜基板，所述第二基板可以为阵列基板。
请参考图9，所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域510，图9中用一个虚线框包围其中一个像素区域510。相邻像素区域510之间的间隔区域具有第一黑矩阵520。每个像素区域510具有第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514。第一子像素区域511具有第一子像素单元(未示出)，第二子像素区域512具有第二子像素单元(未示出)，第三子像素区域513具有第三子像素单元(未示出)。第四子像素区域514具有第四子像素单元5141和第二黑矩阵5142。
需要说明的是，第一黑矩阵520还同时位于各子像素区域相互之间的间隔区域。
本实施例中，每个像素区域510的第四子像素区域514、第一子像素区域511、第二子像素区域512和第三子像素区域513从左至右并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域514也可以排布在第三子像素区域511后面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域510具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元5141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514的面积相等。此时，由于第四子像素区域514同时具有第四子像素单元5141和第二黑矩阵5142，因此，第四子像素单元5141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514的面积也可以不相等。
请继续参考图9，在列方向上，第二黑矩阵5142位于第四子像素单元5141与第一黑矩阵520之间。在行方向上，第二黑矩阵5142被第一黑矩阵520包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图9中的水平方向，列方向为图9中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵520和第二黑矩阵5142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图10，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极530，以及呈行列矩阵排布的多个第一薄膜晶体管540。图10中采用一个虚线框包围其中一个第一薄膜晶体管540。第一薄膜晶体管540包括栅极(未标注)、源极(未标注)和漏极(未标注)。所述第二基板上还设置有控制信号线550和触控显示信号线560。每个公共电极530电连接一个所述第一薄膜晶体管540的漏极，同一行所述第一薄膜晶体管540的栅极电连接同一条控制信号线550，同一列第一薄膜晶体管540的源极连接同一条触控显示信号线560，控制信号线550和触控显示信号线560与第一黑矩阵520相对设置，第一薄膜晶体管540与第二黑矩阵5142相对设置。
本实施例中，控制信号线550控制第一薄膜晶体管540的打开与关闭。第一薄膜晶体管540的源极和漏极分别与触控显示信号线560和公共电极530电连接。
由于第一薄膜晶体管540、控制信号线550和触控显示信号线560的设置，在显示面板进行显示时，控制信号线550可以控制第一薄膜晶体管540打开，触控显示信号线560输入公共电压到公共电极530，实现正常显示；在显示面板进行触控检测时，各控制信号线550控制第一薄膜晶体管540逐行打开，即同一时间仅打开一行第一薄膜晶体管540，被打开的第一薄膜晶体管540对应行的公共电极530中，通过触控显示信号线560实现触控的驱动与感应，实现正常的触控功能，完成该行的驱动与检测后，再进行下一行公共电极530的触控检测。也就是说，在触控检测阶段，每行公共电极530通过各行第一薄膜晶体管540逐行打开进行触控检测。
采用这种第一薄膜晶体管540与控制信号线550和触控显示信号线560配合的结构时，每一列的公共电极530可以共用同一条触控显示信号线560，从而节省触控显示信号线560人数量，简化结构。以5寸28行×16列的公共电极530为例，如果每个公共电极530都分别单独连接一条触控显示信号线560，则需要448条触控显示信号线560。而采用本实施例所述的第一薄膜晶体管540与控制信号线550配合的方案，则只需要16条触控显示信号线560和28条控制信号线550，总共44条信号线，数量仅为448条的十分之一左右。因此，本实施例的方案可以大量减少信号线数量，并且对于大中尺寸的显示面板而言，相应的信号线减少更为明显。
本实施例中，所述第二基板还包括用于控制像素电极(未示出)的第二薄膜晶体。所述像素电极与第一基板上的子像素区域对应设置。而且，每个所述像素电极电连接一个所述第二薄膜晶体管的漏极。
本实施例中，第一薄膜晶体管540可以与所述第二薄膜晶体管采用相同的材料和工艺制作，并且第一薄膜晶体管540的各层结构与所述第二薄膜晶体管的各层结构分别位于同一层。
本实施例可以在制作所述第二薄膜晶体管的同时制作第一薄膜晶体管540。
本实施例所提供的显示面板中，所述第一基板上增加了第二黑矩阵5142。同时，所述第二基板上，具有用于控制各行公共电极530的第一薄膜晶体管540，由于第二黑矩阵5142与第一薄膜晶体管540相对设置，因此能够防止第一薄膜晶体管540暴露，也防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
此外，第一薄膜晶体管540与控制信号线550和触控显示信号线560的配合，能够大量减小信号线的数量，简化显示面板的结构。
本发明实施例还提供了一种显示面板的形成方法，所述形成方法可以用于形成前述实施例所提供的显示面板，因此，所述形成方法可参考前述实施例相应内容。
请参考图9，在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域510。在相邻像素区域510之间的间隔区域形成第一黑矩阵520。在每个像素区域510设置第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514。在所述第一子像素区域形成第一子像素单元(未示出)，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元(未示出)，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元(未示出)。在所述第四子像素区域形成第四子像素单元5141和第二黑矩阵5142。
本实施例中，每个像素区域510的第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514按次序并行排列。需要说明的是，在其它实施例中，第四子像素区域514也可以排布第一子像素区域511前面，或者也可以采用其它的排列方式。
本实施例中，所述第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元可以分别为红色子像素单元、绿色子像素单元和蓝色子像素单元的其中之一，并且三者各不相同，从而使一个像素区域510具有红、绿和蓝三原色的子像素单元。
本实施例中，第四子像素单元5141可以为白色子像素单元、黄色子像素单元或者绿色子像素单元等。
本实施例中，第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514的面积相等。此时，由于第四子像素区域514同时具有第四子像素单元5141和第二黑矩阵5142，因此，第四子像素单元5141的面积小于第一子像素单元、第二子像素单元和第三子像素单元的面积。
需要说明的是，其它实施例中，第一子像素区域511、第二子像素区域512、第三子像素区域513和第四子像素区域514的面积也可以不相等。
请参考图9，在列方向上，将第二黑矩阵5142形成在第四子像素单元5141与第一黑矩阵520之间。在行方向上，第二黑矩阵5142被第一黑矩阵520包围。
需要说明的是，本实施例中，行方向指图9中的水平方向，列方向为图9中的竖直方向。
本实施例中，第一黑矩阵520和第二黑矩阵5142可以采用相同的材料制作，也可以采用不同的材料制作。并且它们可以采用同一工艺同时制作，也可以分别制作。
请参考图10，在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极530(未示出)，以及形成呈行列矩阵排布的多个第一薄膜晶体管540，第一薄膜晶体管540包括栅极、源极和漏极，在所述第一薄膜晶体管540上形成控制信号线550和触控显示信号线560。设置每个公共电极530电连接至一个第一薄膜晶体管540的漏极。设置同一行第一薄膜晶体管540的栅极电连接至同一条控制信号线550。设置同一列第一薄膜晶体管540的源极连接至同一条触控显示信号线560。将控制信号线550和触控显示信号线560与第一黑矩阵520相对设置，并将第一薄膜晶体管540与第二黑矩阵相对设置。
本实施例中，控制信号线550控制第一薄膜晶体管540的打开与关闭，第一薄膜晶体管540的源极和漏极分别与触控显示信号线560和公共电极530电连接。
由于第一薄膜晶体管540、控制信号线550和触控显示信号线560的设置，在显示面板进行显示时，控制信号线550可以控制第一薄膜晶体管540打开，触控显示信号线560输入公共电压到公共电极530，实现正常显示；在显示面板进行触控检测时，各控制信号线550控制第一薄膜晶体管540逐行打开，即同一时间仅打开一行第一薄膜晶体管540，被打开的第一薄膜晶体管540对应行的公共电极530中，通过触控显示信号线560实现触控的驱动与感应，实现正常的触控功能，完成该行的驱动与检测后，再进行下一行公共电极530的触控检测。也就是说，在触控检测阶段，每行公共电极530通过各行第一薄膜晶体管540逐行进行触控检测。
采用这种第一薄膜晶体管540与控制信号线550和触控显示信号线560配合的结构时，每一列的公共电极530可以共用同一条触控显示信号线560，从而节省触控显示信号线560人数量，简化结构。以5寸28行×16列的公共电极530为例，如果每个公共电极530都分别单独连接一条触控显示信号线560，则需要448条触控显示信号线560。而采用本实施例所述的第一薄膜晶体管540与控制信号线550配合的方案，则只需要16条触控显示信号线560和28条控制信号线550，总共44条信号线，数量仅为448条的十分之一左右。因此，这种方案可以大量减少信号线数量，并且对于大中尺寸的显示面板而言，相应的信号线减少更为明显。
本实施例中，还包括在所述第二基板上形成像素电极和第二薄膜晶体。所述像素电极与所述第一基板上的子像素区域对应设置。每个所述像素电极电连接一个所述第二薄膜晶体管的漏极。
本实施例中，第一薄膜晶体管540可以与所述第二薄膜晶体管采用相同的材料和工艺制作，并且第一薄膜晶体管540的各层结构与所述第二薄膜晶体管的各层结构分别位于同一层。
本实施例可以在制作所述第二薄膜晶体管的同时制作第一薄膜晶体管540。
本实施例中，具体可以采用下述的步骤形成所述第二基板的各结构：
步骤一，在所述第二基板上形成图案化的底栅线，并在所述底栅线上方沉积第一绝缘材料，形成第一绝缘层(未示出)；
步骤二：在所述第一绝缘层上沉积半导体材料，并图案化所述半导体材料，从而形成位于所述栅线上方的有源层(未示出)；
步骤三：在所述有源层和第一绝缘层上方沉积第二金属层，并图案化所述第二金属层，以形成与所述有源层电连接的第一导电电极(如源极)和第二导电电极(如漏极)，从而形成具有所述源极、漏极和所述底栅线的第二薄膜晶体管，另有部分剩余的第二金属层保留为数据线，所述第一导电电极电连接所述数据线；需要说明的是，在形成第二薄膜晶体管时，本实施例在上述步骤一至三的过程中，同时形成了第一薄膜晶体管540，所述第一薄膜晶体管以控制信号线550为栅线，控制信号线550可以与所述底栅线同时制作，即在步骤一中制作；
步骤四：在所述有源层和第一绝缘层上方沉积第二绝缘材料，以形成第二绝缘层(未示出)，所述第二绝缘层用于保护有源层中的沟道区域；
步骤五：形成有机绝缘层(未示出)覆盖上述整体结构，有机绝缘层一方面具有较高的表面平坦度，另一方面能够增加后续形成的电极结构(例如公共电极530和像素电极等)与所述薄膜晶体管等结构的距离，从而减小寄生电容；
步骤六：刻蚀所述有机绝缘层及其下方的结构，以形成暴露第一薄膜晶体管540漏极的第一过孔；
步骤七：在所述有机绝缘层表面形成像素电极和触控显示信号线560，所述触控显示信号线560通过所述第一过孔与电连接第一薄膜晶体管540的漏极；
步骤八：在像素电极层和触控显示信号线560上形成第三绝缘层(未示出)；
步骤九：刻蚀所述第三绝缘层以形成第二过孔(未示出)，所述第二过孔暴露触控显示信号线560，并在所述第三绝缘层上形成公共电极530，所述公共电极530电连接触控显示信号线560。
本发明其它实施例中，所述公共电极530和所述像素电极可以由透明导电金属氧化物制作而成，例如由铟锡氧化物制作。所述第一绝缘层、第二绝缘层和第三绝缘层可以由氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等材料制作。上述各层的上下位置可以对应调整，在此不再一一赘述。
本实施例所提供的显示面板的形成方法中，在所述第一基板上增加形成第二黑矩阵5142。同时，在所述第二基板上，形成用于控制各行公共电极530的第一薄膜晶体管540，并通过第二黑矩阵5142与第一薄膜晶体管540相对设置，从而防止第一薄膜晶体管540暴露，防止显示面板出现漏光的情况，提高显示面板的显示性能。
同时，第一薄膜晶体管540与控制信号线550和触控显示信号线560的配合，能够大量减小信号线的数量，简化显示面板的结，降低了显示面板的制作工艺难度。
虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
相对设置的第一基板和第二基板；
所述第一基板具有呈行列矩阵排布的多个像素区域，相邻所述像素区域之间的间隔区域具有第一黑矩阵；
每个所述像素区域具有第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
所述第一子像素区域具有第一子像素单元，所述第二子像素区域具有第二子像素单元，所述第三子像素区域具有第三子像素单元；
所述第四子像素区域具有第四子像素单元和第二黑矩阵。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在行方向上，所述第二黑矩阵位于所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极，同一行的相邻所述公共电极之间具有第一间隔区域，所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置。
4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极，每个所述公共电极电连接一条第一信号线，至少有一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，在列方向上，所述第二黑矩阵位于所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间。
7.如权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第二基板上具有呈行列矩阵排布的多个公共电极，以及呈行列矩阵排布的多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极，所述第二基板上还设置有控制信号线和触控显示信号线；每个所述公共电极电连接一个所述薄膜晶体管的漏极，同一行所述薄膜晶体管的栅极电连接同一条所述控制信号线，同一列所述薄膜晶体管的源极连接同一条所述触控显示信号线，所述控制信号线和所述触控显示信号线与所述第一黑矩阵相对设置，所述薄膜晶体管与所述第二黑矩阵相对设置。
8.一种显示面板的形成方法，其特征在于，包括：
形成相对设置第一基板和第二基板；
在所述第一基板设置呈行列矩阵排布的多个像素区域；
在相邻所述像素区域之间的间隔区域形成第一黑矩阵；
在每个所述像素区域设置第一子像素区域、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域；
在所述第一子像素区域形成第一子像素单元，在所述第二子像素区域形成第二子像素单元，在所述第三子像素区域形成第三子像素单元；
在所述第四子像素区域形成第四子像素单元和第二黑矩阵。
9.如权利要求8所述的显示面板的形成方法，其特征在于，在行方向上，将所述第二黑矩阵形成在所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间。
10.如权利要求9所述的显示面板的形成方法，其特征在于，还包括：在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极，同时在同一行的相邻所述公共电极之间形成第一间隔区域，将所述第一间隔区域同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵对应设置。
11.如权利要求9所述的显示面板的形成方法，其特征在于，还包括：在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极，设置每个所述公共电极电连接一条第一信号线，将至少一条所述第一信号线同时与所述第一黑矩阵和第二黑矩阵相对设置。
12.如权利要求11所述的显示面板的形成方法，其特征在于，设置每条所述第一信号线都同时与所述第一黑矩阵和所述第二黑矩阵相对设置。
13.如权利要求8所述的显示面板的形成方法，其特征在于，在列方向上，将所述第二黑矩阵形成在所述第四子像素单元与所述第一黑矩阵之间。
14.如权利要求13所述的显示面板的形成方法，其特征在于，还包括：在所述第二基板上形成呈行列矩阵排布的多个公共电极，以及形成呈行列矩阵排布的多个薄膜晶体管，所述薄膜晶体管包括栅极、源极和漏极，在所述薄膜晶体管上形成控制信号线和触控显示信号线；设置每个所述公共电极电连接至一个所述薄膜晶体管的漏极，设置同一行所述薄膜晶体管的栅极电连接至同一条所述控制信号线，设置同一列所述薄膜晶体管的源极连接至同一条所述触控显示信号线，将所述控制信号线和所述触控显示信号线与所述第一黑矩阵相对设置，并将所述薄膜晶体管与所述第二黑矩阵相对设置。
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