CN104679319A - 触控面板的形成方法 - Google Patents

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Abstract

本发明是关于一种触控面板的形成方法,包含贴附可转印透明导电膜于覆盖层下,再图形化可转印透明导电膜以形成第一电极层。形成第二电极层于透明基板的顶面,再形成胶合层于第二电极层上。最后,将第一电极层的底面贴附于胶合层的顶面,以形成触控面板。

Description

触控面板的形成方法
技术领域
本发明是有关一种触控面板的形成方法,特别是关于一种将电极层直接贴附于覆盖层的形成方法。
背景技术
触控显示器是结合感测技术及显示技术所形成的一种输入/输出装置,普遍使用于电子装置中,例如可携式及手持式电子装置。
电容式触控面板为一种常用的触控面板,其利用电容耦合效应以侦测触碰位置。当手指触碰电容式触控面板的表面时,相应位置的电容量会受到改变,因而得以侦测到触碰位置。
传统触控面板的制造过程当中,使用透明导电材料(例如氧化铟锡(ITO))作为接收电极层的材质。再使用特定的制造过程方法,例如镀膜技术,以形成接收电极层于覆盖玻璃下。鉴于此,传统触控面板的制造过程复杂、费时且无法有效提高良率。
因此亟需提出一种新颖的方法以形成触控面板,用以简化且加速制造过程并能增加良率。
发明内容
鉴于上述,本发明的目的之一在于提出一种触控面板的形成方法,其接收电极层直接贴附于覆盖层,用以简化且加速制造过程并能增加良率。
本发明的目的是采用以下技术方案来实现的。本发明提出一种触控面板的形成方法,首先准备覆盖层;贴附可转印透明导电膜于覆盖层下;再图形化该可转印透明导电膜以形成第一电极层。另一方面,准备透明基板;形成第二电极层于透明基板的顶面;再形成胶合层于第二电极层上。最后,将第一电极层的底面贴附于胶合层的底面,以形成触控面板。
本发明的目的还可采用以下技术措施进一步实现。
前述的触控面板的形成方法,其中该覆盖层包含透光的绝缘材料。
前述的触控面板的形成方法,其中该可转印透明导电膜包含非透明导电材料。
前述的触控面板的形成方法,其中该非透明导电材料包含纳米金属线(metal nanowire)或纳米金属网(metal nanonet)。
前述的触控面板的形成方法,其中该非透明导电材料包含纳米碳管(Carbon nanotube)或石墨烯(Graphene)纳米结构。
前述的触控面板的形成方法,其中该可转印透明导电膜包含感光(photosensitive)材料。
前述的触控面板的形成方法,其中该第二电极层包含透明导电材料。
前述的触控面板的形成方法,其中该第二电极层包含非透明导电材料。
前述的触控面板的形成方法,其中该可转印透明导电膜直接贴附于该覆盖层的底面。
前述的触控面板的形成方法,其更包含涂布黑色矩阵(BM)于该覆盖层的部分底面。
前述的触控面板的形成方法,其更包含形成填补层于该覆盖层的底面且位于该黑色矩阵以外的区域。
前述的触控面板的形成方法,其中该可转印透明导电膜直接贴附于该填补层与该黑色矩阵的底面。
借由上述技术方案,本发明的触控面板的形成方法至少具有下列优点及有益效果:本发明的触控面板的形成方法,其接收电极层直接贴附于覆盖层,用以简化且加速制造过程并能增加良率。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1A至图1C显示本发明第一实施例的触控面板的制造过程剖视图。
图2A至图2C显示本发明第二实施例的触控面板的制造过程剖视图。
【主要元件符号说明】
100:触控面板    200:触控面板
11:覆盖层       12:第一电极层
13:透明基板     14:第二电极层
15:胶合层       21:黑色矩阵
22:填补层
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的一种触控面板的形成方法的具体实施方式、结构、特征及其功效,详细说明如后。
图1A至图1C显示本发明第一实施例的触控面板100的制造过程剖视图。在本说明书中,方向“上”或“顶面”是指向触碰位置,方向“下”或“底面”则是背向触碰位置。
如图1A所示,首先准备覆盖层11,其可为平面的二维覆盖层,也可为曲面的三维覆盖层。覆盖层11的材质可为软性或硬性的高透光率的绝缘材料,例如玻璃、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)或环烯烃共聚合物(Cyclic olefin copolymer,COC),但不限定于此。
根据本实施例的特征之一,将可转印透明导电膜(transparentconductive transfer film,TCTF)直接贴附于覆盖层11的底面。接着,图形化(pattern)可转印透明导电膜,因而形成第一电极层12,例如接收(receive)电极层(一般简称为RX电极)。
可转印透明导电膜的材质可为非透明导电材料,例如纳米金属线(metal nanowire),例如纳米银线或纳米铜线;或者纳米金属网(metalnanonet),例如纳米银网或纳米铜网。纳米金属线或金属网的内径为纳米等级(亦即几纳米至几百纳米之间),可借由塑胶材料(例如树脂)加以固定。由于纳米金属线/网非常细,非人眼可以观察得到,因此由纳米金属线/网所构成的第一电极层12的透光性极佳。此外,非透明导电材料也可为纳米碳管(Carbon nanotube)或石墨烯(Graphene)纳米结构。
第一电极层12还可包含感光(photosensitive)材料,借由曝光显影制造过程即可形成所要的电极形状(pattern),而不需要使用额外的光阻材料。此外,可转印透明导电膜本身即具有黏合性,因此可直接贴附于覆盖层11而不需额外的胶合层。
鉴于传统触控面板中,其接收电极层的材质包含透明导电材料,例如氧化铟锡(ITO)。欲形成接收电极层于覆盖玻璃时,必须使用复杂的制造过程方法,例如镀膜技术。反观本实施例,第一电极层12可借由贴附及图形化而形成于覆盖层11的底面。借此,可简化且加速制造过程并能增加良率。
如图1B所示,准备透明基板13,其材质可为绝缘材料,例如玻璃、聚碳酸酯(Polycarbonate,PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethyleneterephthalate,PET)、聚乙烯(Polyethylen,PE)、聚氯乙烯(Poly vinylChloride,PVC)、聚丙烯(Poly propylene,PP)、聚苯乙烯(Poly styrene,PS)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate,PMMA)或环烯烃共聚合物(Cyclic olefin copolymer,COC),但不限定于此。
接着,形成第二电极层14,例如发射(transmit)电极层(一般简称为TX电极)于透明基板13的顶面。本实施例的第二电极层14的材质可为透明导电材料,例如氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)、氧化铟锌(indiumzinc oxide,IZO)、氧化锌铝(Al-doped ZnO,AZO)或氧化锡锑(antimonytin oxide,ATO),但不限定于此。本实施例的第二电极层14的材质也可为非透明导电材料,例如纳米金属线(metal nanowire),例如纳米银线或纳米铜线;或者纳米金属网(metal nanonet),例如纳米银网或纳米铜网。
于第二电极层14之上形成胶合层15,其材质可为(固态)光学胶(optically-clear adhesive,OCA)或者(液态)光学树脂(optically-clear resin,OCR)。
上述图1B所示制造过程,其时程上不一定后于图1A所示制造过程,例如可先于图1A制造过程或者与图1A制造过程同时进行。最后,将图1A所形成结构与图1B所形成结构堆叠起来,亦即将第一电极层12的底面贴附于胶合层15的顶面,因而形成如图1C所示的触控面板100。
图2A至图2C显示本发明第二实施例的触控面板200的制造过程剖视图。与第一实施例相同的组成以相同元件符号来表示,其相关说明不再赘述。
如图2A所示,首先准备覆盖层11。覆盖层11的部分底面(例如主动区外的区域)涂布有黑色矩阵(black matrix,BM)21。为了降低黑色矩阵21与覆盖层11其他区域之间所产生的断差,在本实施例中,更形成填补层22于黑色矩阵21以外的区域,使得填补层22的底面与黑色矩阵21的底面大致呈平面。本实施例的填补层22的材质可为透明绝缘材质。
根据本实施例的特征之一,将可转印透明导电膜(TCTF)直接贴附于填补层22与黑色矩阵21的底面。接着,图形化(pattern)可转印透明导电膜,因而形成第一电极层12,例如接收(receive)电极层。
如图1B所示,准备透明基板13。接着,形成第二电极层14,例如发射(transmit)电极层于透明基板13的顶面。于第二电极层14之上形成胶合层15。
最后,将图2A所形成结构与图2B所形成结构堆叠起来,亦即将第一电极层12的底面贴附于胶合层15的底面,因而形成如图2C所示的触控面板200。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (12)

1.一种触控面板的形成方法,其特征在于其包含以下步骤:
准备覆盖层;
贴附可转印透明导电膜于该覆盖层下;
图形化该可转印透明导电膜以形成第一电极层;
准备透明基板;
形成第二电极层于该透明基板的顶面;
形成胶合层于该第二电极层上;及
将该第一电极层的底面贴附于该胶合层的顶面,以形成触控面板。
2.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该覆盖层包含透光的绝缘材料。
3.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该可转印透明导电膜包含非透明导电材料。
4.根据权利要求3所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该非透明导电材料包含纳米金属线或纳米金属网。
5.根据权利要求3所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该非透明导电材料包含纳米碳管或石墨烯纳米结构。
6.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该可转印透明导电膜包含感光材料。
7.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该第二电极层包含透明导电材料。
8.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该第二电极层包含非透明导电材料。
9.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该可转印透明导电膜直接贴附于该覆盖层的底面。
10.根据权利要求1所述的触控面板的形成方法,其特征在于其更包含涂布黑色矩阵于该覆盖层的部分底面。
11.根据权利要求10所述的触控面板的形成方法,其特征在于其更包含形成填补层于该覆盖层的底面且位于该黑色矩阵以外的区域。
12.根据权利要求11所述的触控面板的形成方法,其特征在于其中该可转印透明导电膜直接贴附于该填补层与该黑色矩阵的底面。
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