CN104658955A - 基板支承结构 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板支承结构，即使输送精度、装置的安装精度、支承位置的精度等存在误差，也能防止基板从支承部脱落或接触到不可接触范围。本发明的基板支承结构(1)具备基板支承构件(2)和保持构件(3)。基板支承构件(2)从基端侧向前端侧延伸，利用形成在上侧的支承部(2C)支承被处理基板(W)。保持构件(3)在基板(W)的支承位置的两侧处将基板支承构件(2)保持成支承部(2C)从基端(2A)侧朝向前端(2B)侧向下方倾斜。

Description

基板支承结构
技术领域
本发明涉及基板的热处理装置等所具备的基板支承结构，所述基板支承结构用于将基板支承成大致水平姿势。
背景技术
以往，对液晶和有机EL用的基板进行热处理时，以支承基板的下表面的方式将基板保持在热处理装置的内部。此时，有时会避开基板的中央部而是支承即使接触支承部也不会受到影响的周围部(从外缘约10mm左右)，从而存在接触容许范围狭窄的限制。
为了克服这种限制，如图7所示，作为基板W的支承方法，从正下方用销或球101支承基板W(参照专利文献1、专利文献2)。图中，两箭头A1所示的基板中央的区域表示不可接触范围，两箭头A2所示的基板周围的区域表示接触容许范围。
专利文献1：日本专利公开公报特开2002-100668号
专利文献2：日本专利公开公报特开2004-111786号
然而，从正下方支承基板时，由于输送精度、装置的安装精度、支承位置的精度等误差，存在基板从支承部脱落或接触到不可接触范围A1的可能性。
发明内容
本发明鉴于上述问题，目的是提供一种基板支承结构，即使输送精度、装置的安装精度、支承位置的精度等存在误差，也能够防止基板从支承部脱落或接触到不可接触范围。
本发明涉及用于在收容并处理被处理基板的处理空间内的规定的支承位置上，将所述被处理基板支承成大致水平姿势的结构。本发明的基板支承结构包括基板支承构件。基板支承构件从基端侧向前端侧延伸，并在支承位置的两侧利用从基端侧朝向前端侧向下方倾斜的支承部支承被处理基板。
处理空间形成在处理容器的内部。并且，在处理容器的侧壁内表面上的支承位置两侧设置有保持构件，由这些保持构件保持基板支承构件的基端侧时，能稳定地保持基板支承构件。
按照这种结构，由于基板支承构件的支承部向斜下方倾斜，所以无论基板的翘曲程度如何，支承部仅仅能接触基板的侧端下缘部。因此，不必由突起等从正下方侧支承基板，不受基板支承构件的安装精度和将基板向处理空间输送并承载在支承件上时的精度的影响。
具体而言，基板支承构件包括基体和支承件。基体为从基端侧向前端侧延伸的形状，支承件具有支承部，并以使支承部从基体的上表面露出的方式配置于基体。由此，可以将与基板接触的支承部作为支承件而部件化，实现了处理的简化。
支承件为圆筒状时，可以配置成围绕沿基体的长边方向的轴旋转自如。由此，利用支承件的旋转缓和了把基板承载到支承部上时的冲击，可以防止基板与支承部接触的部位受损。
支承件的材质优选采用树脂或石英。
为了稳定地支承基板，在支承位置的单侧设置有多个基板支承构件。保持构件为设置成在支承位置的两侧相对且向处理空间的纵深方向延伸的支架时，容易向一个保持构件设置多个基板支承构件。
按照本发明，即使输送精度、装置的安装精度、支承位置的精度等存在误差，也可以防止基板从支承部脱落或接触到不可接触范围。
附图说明
图1的(A)表示本发明实施方式的基板支承结构的简要结构，是表示支承基板之前的状态的主视断面图。图1的(B)是表示支承同一基板后的状态的主视断面图。
图2是表示基板支承结构所采用的基板支承构件的分解立体图。
图3的(A)是说明基板支承构件相对于保持构件的安装状态的俯视图。图3的(B)是说明基板支承构件相对于保持构件的安装状态的侧视图。
图4是表示在一个处理容器内构成多级基板支承结构的示例的简要结构图。
图5是表示将基板支承结构构成为多级式单元的示例的简要结构图。
图6是表示基板支承构件的角度调整机构的一例的图。
图7是表示现有的基板支承结构的一例的简要结构的主视断面图。
附图标记说明
W、W1、W2、W3…基板
1…基板支承结构
2…基板支承构件
2A…基端
2B…前端
2C…支承部
21…基体
21A…凹部
21B…螺栓孔
22…支承件
23…螺栓
3…保持构件
4…处理容器
4A…侧壁内表面
100…处理空间
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明实施方式的基板支承结构的构成。
如图1所示，在形成于处理容器4内部的处理空间100中收容并处理被处理基板(以下称为“基板”)W。基板支承结构1在处理空间100内的规定的支承位置上将基板W支承成大致水平姿势。本发明的基板支承结构适用于对基板进行某种处理的基板处理装置(例如热处理装置等)的间歇式炉等。不论基板的材质如何，也能够对应于薄且翘曲的基板。基板形状不限于矩形基板，也可以是半导体晶片等圆形基板。
基板支承结构1具有基板支承构件2和保持构件3。
基板支承构件2从基端2A侧向前端2B侧延伸，在上侧具备用于支承基板W的支承部2C。更具体而言，如图2所示，基板支承构件2包括：基体21，从基端2A侧向前端2B侧延伸；以及支承件22，具备所述支承部2C，且以使支承部2C从基体21的上表面露出的方式配置于基体21。
基体21和支承件22的材质没有特别限定，但在基板支承结构1应用于热处理装置时，需要具有耐热性的材料。特别是由于支承件22是与基板W直接接触的构件，所以其材质要求不能损伤基板W。作为满足这种要求的材料，优选树脂或石英材料。
如图2所示，支承件22呈圆筒形。支承件22在该圆筒形的周面上，具有沿轴向延伸的线状的支承部2C。另外，支承件22的形状为一例，不限于上述形状。
如图2所示，基体21呈棱柱形。基体21的上表面形成有沿长边方向延伸的凹部21A。支承件22被收容于凹部21A。本实施方式中，凹部21A与支承件22的圆筒形对应，形成为半管形。因此，支承件22被收容于凹部21A时，支承件22的大致上半部呈露出状态，而且支承件22围绕沿基体21的长边方向的轴旋转自如。
通过凹部21A的轴心的螺栓孔21B沿轴向贯穿基体21。基体21和凹部21A的形状为一例，不限于上述形状。
在将支承件22收容于凹部21A之后，通过将螺栓23嵌合于螺栓孔21B而将支承件22安装于基体21。螺栓23插通支承件22的空洞部，防止支承件22从基体21脱出。另外，螺栓23设置成不妨碍支承件22的旋转。
如图3所示，以上述方式构成的基板支承构件2被保持构件3保持成支承部2C从基端侧朝向前端侧向下方倾斜。
本实施方式中，保持构件3是由上片部31、侧壁部32和底片部33形成コ形的构件。例如通过金属板的弯曲加工制作这种コ形的构件。
在处理空间100内的基板W的支承位置的两侧，沿纵深方向架设有上表面为水平面的梁7。如图3的(A)所示，保持构件3使用底片部33通过螺钉固定在梁7的上表面。
基板支承构件2在基体21的基端部利用螺栓和螺母固定于保持构件3的侧壁部32。基板支承构件2以基体21的基端侧高且前端侧低的倾斜方式安装。此时，通过使基体21的基端面上缘抵接于保持构件3的上片部31，阻止基体21转动，从而将基体21的倾斜保持为一定。由此，如果将支承件22安装于凹部21A，则如图1所示，支承件22被保持成支承部2C从基端侧朝向前端侧向下方倾斜。
为了稳定地支承基板W，优选在处理空间100内的基板W的支承位置的单侧，在多个部位支承基板W。如果是矩形的基板，则可以设置支承前后的角部的两个基板支承构件2。由此，能够更稳定地支承矩形的基板。本实施方式中，在基板W的支承位置的单侧，梁7沿处理空间100的纵深方向延伸。因此，通过沿单侧的梁7的长边方向安装多个保持构件3，可以在该方向上并列设置多个基板支承构件2。
由上述保持构件3和基板支承构件2构成的基板支承结构的级数没有限定。即，如图4所示，通过在处理容器4的侧壁内表面4A上多级设置基板支承结构1，可以在一个处理容器4的处理空间100中支承多个基板W。
如图5所示，作为多级式的变形例，可以采用如下结构：将具有一个基板支承结构1的处理容器4形成为扁平的单元，并将多个所述单元多级层叠。由此，由于层叠的单元数能自由布置，因而具有能够任意设定基板支承结构的级数的优点。
利用以上述方式构成的基板支承结构1支承基板W时，如图1的(A)所示，利用配置在未图示的输送机器人的机械臂的前端部的叉臂，将基板W输送到处理空间100内的支承位置的上方。接着通过使机械臂下降，如图1的(B)所示，将基板W承载于在支承位置的两侧对置的基板支承构件2的支承件22上。利用基板支承构件2的支承部2C在基板W的两侧端部支承基板W。
被如上支承的基板W的未被基板支承构件2直接支承的中央部因自重而下沉，从而导致基板W发生翘曲。但是，翘曲情况根据基板W的厚度、尺寸或材质而不同。图1的(B)所示的基板W1、W2、W3的翘曲程度依次增大。基板的翘曲程度会因基板的厚度、尺寸或材质而不同。
本发明中，由于基板支承构件2的支承部2C向斜下方倾斜，所以不论基板W的翘曲程度如何，都可以使支承部2C仅接触基板W的侧端下缘部。因此，不必利用突起等从正下方侧支承基板W，不会受到基板支承构件2的安装精度和将基板W向处理空间输送并承载到支承件22上时的精度的影响。
此外，由于具有支承部2C的支承件22旋转自如，所以利用支承件22的旋转缓和了将基板W承载在支承部2C上时的冲击，可以防止基板W接触支承部2C的部位受损。而且，通过使支承部2C的材质为树脂或石英，能进一步可靠地防止基板W受损。
另外，本实施方式说明了将基板支承构件2以固定状态(不能转动)的方式安装于保持构件3的情况，但是也可以根据作为处理对象的基板W的组，将基板支承构件2安装成能够转动，以便能使支承部2C的向下倾斜角度可变。例如图6所示，把基板支承构件2在基端部处利用转动轴5保持成相对于保持构件3转动自如，并在保持构件3上设置纵长的长孔34、在基板支承构件2的基体21上设置横长的长孔24，在长孔34、24彼此交叉的任意的位置处，利用销6等固定基板支承构件2的前端侧。如此，可以调整支承部2C的倾斜角度。
上述实施方式的说明中所有的特征都是例示性特征，而不是限制性特征。本发明的范围不限于上述实施方式，而是由权利要求来表示。而且，本发明的范围包含与权利要求等同的内容以及权利要求范围内的任意变更。

Claims (8)

1.一种基板支承结构，用于在收容并处理被处理基板的处理空间内的规定的支承位置上，将所述被处理基板支承成大致水平姿势，所述基板支承结构的特征在于，
包括基板支承构件，所述基板支承构件从基端侧向前端侧延伸，并在所述支承位置的两侧利用从基端侧朝向前端侧向下方倾斜的支承部支承所述被处理基板。
2.根据权利要求1所述的基板支承结构，其特征在于，所述处理空间形成在处理容器的内部，在所述处理容器的侧壁内表面上的所述支承位置两侧设置有保持构件，所述保持构件用于保持所述基板支承构件的基端侧。
3.根据权利要求1所述的基板支承结构，其特征在于，以所述倾斜可变的方式配置所述基板支承构件。
4.根据权利要求1所述的基板支承结构，其特征在于，
所述基板支承构件包括：
基体，从所述基端侧向所述前端侧延伸；以及
支承件，具有所述支承部，并以使所述支承部从所述基体的上表面露出的方式配置于所述基体。
5.根据权利要求4所述的基板支承结构，其特征在于，所述支承件具有圆筒侧面，并配置成围绕沿所述基体的长边方向的轴旋转自如。
6.根据权利要求5所述的基板支承结构，其特征在于，所述支承件由树脂或石英形成。
7.根据权利要求5所述的基板支承结构，其特征在于，在所述支承位置的单侧设置有多个所述基板支承构件。
8.根据权利要求7所述的基板支承结构，其特征在于，包括保持构件，所述保持构件设置成在所述支承位置的两侧相对，向所述处理空间的纵深方向延伸，并与多个所述基板支承构件对应设置。
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