CN104577301A - 立体天线的制造方法 - Google Patents
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Abstract
立体天线的制造方法。本发明的制造方法包含下列步骤：提供一具有一预定立体构型的基材；于该基材表面覆盖一可剥除的高分子保护层；进行镭雕图案化，形成一图案化高分子保护层；进行金属化处理，沉积形成一金属薄膜层，且该金属薄膜层覆盖于该图案化高分子保护层表面，以及未受该图案化高分子保护层覆盖的基材表面；剥除上述图案化高分子保护层，让该图案化高分子保护层及其上方的金属薄膜层自基材表面剥离，而形成图案化金属薄膜层；最后对上述图案化金属薄膜层表面进行化学镀层处理，完成立体天线，藉此可不受尺寸及造型的限制，可在非为平面的基板上制造出立体天线，进而可达到缩小整个天线模块高度。
Description
技术领域
本发明有关一种立体天线的制造方法，特别是指一种可以较低成本制作天线，且天线的尺寸及造型皆不受限制，可在非为平面的基板上制造，进而可达到缩小整个天线模块高度的立体天线制造方法。
背景技术
由于现今技术的进步以及商品人性化的趋势，许多通讯电子产品，例如智能型手机(Smart Phone)、行动电话(Mobile Phone)、笔记型电脑(Notebook)、平板电脑(Tablet Personal Computer)、个人导航机(Personal Navigation Device，PND)以及全球定位系统(Global Position System，GPS)等行动装置，其天线的制造大多应用软性电路板(Flexible Printed Circuit Board，FPCB)。然而，软性电路板在黏贴于非平面表面时，特别是在三维(Three-dimensional，3D)的双曲面(hyperboloid)，会因为无法完全伏贴而产生翻翘的情形，所以软性电路板较适合用于介于二维(Two-dimension，2D)平面与三维(Three-dimension，3D)空间之间(2.5D)的单曲面(Single curved surface)。因此，当天线需设置在非平面表面时，大多以镭射直接成型技术(Laser Direct Structure，LDS)来实作。
镭射直接成型技术将一些特殊可镭射活化的塑料，射出成型为一预定的本体结构，然后再利用特定波长的镭射，将塑料内掺入的金属晶粒予以活化，同时定义出天线图案，最后再进行金属化制程。
然而，上述的塑料内必须掺杂金属催化剂，而且须针对不同材质的塑料及材料特性，掺杂不同成分比例的金属催化剂，造成镭射活化的条件不同，必须重新调整镭射波长与金属化的控制参数，因此，LDS制程须采取特定波长的镭射设备以及设置不同条件的金属化设备或控制参数，也使得设备与制造成本较为昂贵。且添加金属催化剂的塑料制作出的天线，容易因为金属添加剂影响天线收发质量。
发明内容
本发明即在提供一种以较低成本制作天线，且天线的尺寸及造型皆不受限制，可在非为平面的基板上制造，进而可达到缩小整个天线模块高度的立体天线制造方法。
为达上揭目的，本发明的制造方法包含下列步骤：提供一具有一预定立体构型的基材；于该基材表面覆盖一可剥除的高分子保护层；进行镭雕图案化，形成一图案化高分子保护层；进行金属化处理，沉积形成一金属薄膜层，且该金属薄膜层覆盖于该图案化高分子保护层表面，以及未受该图案化高分子保护层覆盖的基材表面；剥除上述图案化高分子保护层，让该图案化高分子保护层及其上方的金属薄膜层自基材表面剥离，而形成图案化金属薄膜层；最后对上述图案化金属薄膜层表面进行化学镀层处理，完成立体天线。
利用上述结构特征，本发明的制造方法不受尺寸及造型的限制，可在非为平面的基板上制造出立体天线，进而可达到缩小整个天线模块高度。
依据上述结构特征，所述高分子保护层可为环氧树脂、可变性压克力、聚脂、醋酸纤维树脂、乙酸乙脂及乙醇的混合物。
上述金属化处理，利用溅镀或蒸镀方式使金属沉积于基材及图案化高分子保护层表面形成金属薄膜层；上述沉积所使用的金属靶材选自于镍(Ni)、铬(Cr)、钴(Co)、钯(Pd)、镍(Ni)、锡(Sn)、铜(Cu)的其中一种或其复合材料的其中一种。
上述剥除该图案化高分子保护层可采用水洗方式。
上述化学镀层金属选自于镍(Ni)、铜(Cu)、金(Au)、银(Ag)、锡(Sn)、铬(Cr)、钯(Pd)的其中一种或以上复合金属的其中一种。
附图说明
图1为本发明中制造方法的流程方块图。
图2至图7为本发明中制造方法的流程示意图。
图号说明：
基材1
表面11
高分子保护层2
图案化高分子保护层21
金属薄膜层3
图案化金属薄膜层31
化学镀层4。
具体实施方式
如图1本发明的制造方法的流程方块图所示，本发明的制造方法，基本上包括下列步骤。
提供一基材1，请同时参阅图2所示，该基材1具有一预定立体构型，其中该基材1具有非平面的表面11。
于该基材表面11覆盖一可剥除的高分子保护层2，如图3所示，该高分子保护层2可为环氧树脂、可变性压克力、聚脂、醋酸纤维树脂、乙酸乙脂及乙醇的混合物。
进行镭雕图案化，去除部分高分子保护层，如图4所示，而形成一图案化高分子保护层21；其中，上述镭雕图案化方式，得使用市面上所普遍使用的镭射机台，亦即，此镭射机台的镭射光不须限定于特定波长。以上述镭射机台所发出的镭射光抵接于高分子保护层上，藉以去除镭射光所抵接到的高分子保护层部位。而使用镭射机台去除部分高分子保护层的过程中，可将镭射光依设计或需求进行移动，使高分子保护层被去除的部位形成特定的图形，藉以令高分子保护层成形为具有特定图形的图案化高分子保护层21。
进行金属化处理，沉积形成一金属薄膜层3，如图5所示，且该金属薄膜层3覆盖于该图案化高分子保护层21表面，以及未受该图案化高分子保护层21覆盖的基材表面11；上述金属化处理，利用溅镀或蒸镀方式使金属沉积于基材及图案化高分子保护层表面形成金属薄膜层；上述沉积所使用的金属靶材选自于镍(Ni)、铬(Cr)、钴(Co)、钯(Pd)、镍(Ni)、锡(Sn)、铜(Cu)的其中一种或其复合材料的其中一种。
剥除上述图案化高分子保护层21，让该图案化高分子保护层21及其上方的金属薄膜层3自基材表面11剥离，如图6所示，而形成图案化金属薄膜层31；而上述剥除该图案化高分子保护层21可采用水洗方式进行剥除。
对上述图案化金属薄膜层31表面进行化学镀层4处理，如图7所示，完成立体天线，上述化学镀层金属选自于镍(Ni)、铜(Cu)、金(Au)、银(Ag)、锡(Sn)、铬(Cr)、钯(Pd)的其中一种或以上复合金属的其中一种。
值得一提的是，本发明的制造方法不受尺寸及造型的限制，可在非为平面的基板上制造出立体天线，进而可达到缩小整个天线模块高度。且本发明不需习有LDS制程所使用添加金属催化剂的塑料，不仅材料成本较低，且制程上不需调整镭射波长与金属化的控制参数，制程较为简便，且所完成的立体天线成品收发质量较佳。
Claims (5)
1.一种立体天线的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：
提供一基材，该基材具有一预定立体构型；
于该基材表面覆盖一可剥除的高分子保护层；
进行镭雕图案化，形成一图案化高分子保护层；
进行金属化处理，沉积形成一金属薄膜层，且该金属薄膜层覆盖于该图案化高分子保护层表面，以及未受该图案化高分子保护层覆盖的基材表面；
剥除上述图案化高分子保护层，让该图案化高分子保护层及其上方的金属薄膜层自基材表面剥离，而形成图案化金属薄膜层；以及
对上述图案化金属薄膜层表面进行化学镀层处理，完成立体天线。
2.如权利要求1所述立体天线的制造方法，其特征在于，该高分子保护层为环氧树脂、可变性压克力、聚脂、醋酸纤维树脂、乙酸乙脂及乙醇的混合物。
3.如权利要求1或2所述立体天线的制造方法，其特征在于，上述金属化处理，利用溅镀或蒸镀方式使金属沉积于基材及图案化高分子保护层表面形成金属薄膜层；上述沉积所使用的金属靶材选自于镍、铬、钴、钯、镍、锡、铜的其中一种或其复合材料的其中一种。
4.如权利要求1或2所述立体天线的制造方法，其特征在于，上述剥除该图案化高分子保护层采用水洗方式。
5.如权利要求1或2所述立体天线的制造方法，其特征在于，上述化学镀层金属选自于镍、铜、金、银、锡、铬、钯的其中一种或以上复合金属的其中一种。
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