CN104570566A - 投影机 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及投影机。提供具备射出窄波段的光的光源装置且可以进行对亮度不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影的投影机。投影机具备光源装置、对从光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统。光源装置射出具有光强度在第1波长(λ1)处成为峰值的窄波段的第1光(La)及光强度在第2波长(λ2)处成为峰值的窄波段的第2光(Lb)的光，第1波长(λ1)与第2波长(λ2)的间隔超过相对于光调制装置的入射光的射出光的分光光谱所具有的波纹之中的位于第1光(La)及第2光(Lb)的波长范围的波纹的1个周期波长的1/4且不足3/4。

Description

投影机
技术领域
本发明涉及投影机。
背景技术
现有，已知具备有光源装置、对从光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统的投影机。并且，以光源装置的长寿命化等为目的而提出采用激光光源的投影机(例如，参照专利文献1)。
记载于专利文献1的投影机具备具有射出蓝色光(激励光)的激光光源的光源装置、发光元件、色分离光学系统、作为光调制装置分别设置为3色的色光(蓝色光、绿色光、红色光)用的液晶光阀、色合成元件及投影光学系统。
发光元件具有使从激光光源射出的蓝色光的一部分透射并且吸收残部而变换为黄色光的功能。
蓝色光用的液晶光阀对从激光光源射出的蓝色光进行调制。绿色光用的液晶光阀、红色光用的液晶光阀对从发光元件射出且在色分离光学系统分离的绿色光、红色光进行调制。在各液晶光阀调制的光在色合成元件合成，从投射光学系统射出。
专利文献1日本特开2012—83695号公报
发明内容
可是，在记载于专利文献1的技术中，因为从激光光源射出的蓝色光为窄波段的光，所以有可能在照射蓝色光的液晶光阀的面内产生干涉条纹。即，液晶光阀因为具有叠层有一对基板、电极和/或液晶等的多层结构，所以入射的光的一部分会在这些构件进行反射而产生多重干涉，在液晶光阀中的反射光的分光光谱，表现连续地产生小的振幅的波的现象(波纹)。因为反射光相应于液晶光阀的构成构件的厚度的面内不匀而相对于波长的强度不同，所以相应于该面内不匀而产生同一波长处的光的强度不同的波纹。因此，对应于从激光光源射出的光的波长，在液晶光阀的面内，产生反射光强的部位与弱的部位，由此，在液晶光阀的面内产生干涉条纹，并存在在投影的图像产生亮度的不匀和/或色不匀的问题。
本发明用于解决所述的问题的至少一部分而作出，可以作为以下的方式或应用例而实现。
(应用例1)本应用例涉及的投影机特征为，具备射出光的光源装置、对从所述光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在所述光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统；所述光源装置射出具有光强度在第1波长处成为峰值的窄波段的第1光及光强度在第2波长处成为峰值的窄波段的第2光；所述第1波长与所述第2波长的间隔超过相对于所述光调制装置的入射光的射出光的分光光谱所具有的波纹之中的所述第1波长及所述第2波长的附近范围处的所述波纹的1个周期波长的1/4且不足3/4。
相对于入射的窄波段的光的峰值波长，光调制装置的面内的反射光(射出光)的强度差在产生成为波峰(反射光的强度高)的波纹波的部位与产生成为波谷(反射光的强度低)的波纹波的部位变得最大。
根据该构成，光源装置射出具有超过波纹的1个周期波长(以下称为“波纹波长”)的1/4且不足3/4的间隔的光强度成为峰值的第1波长、第2波长的光。即，例如，第1波长成为波峰侧的波纹波在离开第1波长超过1/4且不足3/4的第2波长处，成为波谷侧。而且，第1波长成为波谷侧的波纹波在离开第1波长超过1/4且不足3/4的第2波长处，成为波峰侧。
由此，能够在光调制装置的面内，在反射光在具有第1波长的第1光及具有第2波长的第2光的任一方的光变强的部位，减弱另一方的光的反射光，在反射光在一方的光变弱的部位，增强另一方的光的反射光。因此，因为能够降低光调制装置的面内的反射光(射出光)的强度的不匀，所以可以对光调制装置的干涉条纹进行抑制，并对投影的图像的亮度的不匀和/或色不匀进行抑制。
(应用例2)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述光调制装置为液晶面板。
液晶面板因为具有叠层有一对基板、液晶、电极等的多层结构，并且为这些构件的面内中的厚度的不匀容易变得显著的构成，所以干涉条纹也有可能变得显著。
根据该构成，因为投影机具备所述的光源装置，所以可以对液晶面板的面内的干涉条纹进行抑制，并对投影的图像的亮度的不匀和/或色不匀进行抑制。
(应用例3)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述光调制装置为反射型的液晶面板。
根据该构成，反射型的液晶面板因为是利用反射光的光调制装置，所以通过使用所述的光源装置，可以进一步有效地对液晶面板的面内中的反射光(射出光)的强度的不匀进行抑制。因而，可以对反射型的液晶面板的面内中的干涉条纹进行抑制，并对投影的图像的亮度的不匀和/或色不匀进行抑制。
(应用例4)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述光源装置具备射出所述第1光的激光光源及射出所述第2光的激光光源。
根据该构成，光源装置因为通过激光光源射出具有第1光及第2光的光的构成，所以可以谋求光源装置的长寿命化，并射出对第1波长和第2波长的间隔超过波纹波长的1/4且不足3/4地进行了设定的光。
(应用例5)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述第1波长及所述第2波长处于蓝色光的波长范围。
根据该构成，可以抑制对蓝色光进行调制的光调制装置的面内中的干涉条纹。
(应用例6)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述第1光中，光强度为所述第1波长处的光强度的一半以上的波段的宽度为10nm以下；所述第2光中，光强度为所述第2波长处的光强度的一半以上的波段的宽度为10nm以下。
根据该构成，因为所述的波段的宽度(有效波长范围)为10nm以下，所以通过对第1光及第2光进行设定使得第1波长与第2波长的间隔超过10nm，可以使第1波长、第2波长在第1光、第2光的各自中成为光强度的峰值，并对通过波纹产生的光调制装置的干涉条纹进行抑制。
(应用例7)在所述应用例涉及的投影机中，优选：所述光源装置具备第1光源装置和第2光源装置，其中，所述第1光源装置具备射出具有所述第1光和所述第2光的第1色光的第1光源及使从所述第1光源射出的所述第1色光扩散的光扩散部，所述第2光源装置具有射出激励光的第2光源及将所述激励光变换为包括第2色光的光的荧光体；所述光调制装置具备对所述第1色光进行调制的第1光调制装置及对所述第2色光进行调制的第2光调制装置。
根据该构成，投影机因为具备射出第1色光的第1光源装置及射出第2色光的第2光源装置，所以能够对各色光的强度容易地进行控制。
并且，在第1光源装置中，因为射出具有所述的第1光与第2光的第1色光，所以可以对第1光调制装置中的干涉条纹进行抑制。
而且，在第2光源装置中，因为为通过激励光而使包括第2色光的光从荧光体射出的构成，所以可以使第2色光成为比波纹波长大的宽带波长的光。因而，在对第2色光进行调制的光调制装置中，基本不会产生干涉条纹。
从而，投影机可以使第1色光及第2色光的强度的平衡良好，并进行对亮度的不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影。
附图说明
图1是表示本实施方式涉及的投影机的光学系统的示意图。
图2是表示本实施方式中的第1光源装置及第2光源装置的发光光谱的图。
图3是示意地表示本实施方式的液晶面板的剖视图。
图4是用于对在采用现有的激光光源的情况下的在液晶面板的面内产生干涉条纹进行说明的图。
图5是表示反射光的分光光谱及第1光源装置的发光光谱的图。
图6是表示反射光的分光光谱及第1光源装置的发光光谱的图。
符号说明
5B、5G、5R…液晶光阀，7…投影透镜，11…第1光源装置，21…第2光源装置，50…液晶面板，100…投影机，111…第1光源，114…光扩散部，211…第2光源，2142…荧光体，λ1…第1波长，λ2…第2波长，La…第1光，Lb…第2光，Rλ…波纹波长。
具体实施方式
以下，关于本实施方式涉及的投影机，参照附图进行说明。
本实施方式的投影机对从2个照明装置射出的光相应于图像信息进行调制，并将调制的光放大投影于屏幕等的投影面。
(光学系统的构成)
图1是表示本实施方式涉及的投影机100的光学系统的示意图。
投影机100如示于图1地，具备第1照明装置1、第2照明装置2、色分离光学系统3、3个场透镜FL、反射型偏振板4R、4G、4B、作为光调制装置的液晶光阀5R、5G、5B、十字分色棱镜6及作为投影光学系统的投影透镜7。液晶光阀5B相当于第1光调制装置，液晶光阀5G相当于第2光调制装置。还有，虽然图示进行省略，但是，投影机100除了所述的光学系统之外，还具备对投影机100的工作进行控制的控制部、在各装置供给电力的电源装置、对光学系统和/或电源装置进行冷却的冷却装置及将这些装置收置于内部的外装壳体。
第1照明装置1具备第1光源装置11、第1拾取光学系统12及第1积分光学系统。
第1光源装置11具备第1光源111、准直透镜阵列112、聚光光学系统113及光扩散部114，射出蓝色光(以下称为“B光”)。B光相当于第1色光。
第1光源111具有多个激光光源，并搭载于基板111a。
图2是表示第1光源装置11及第2照明装置2中的第2光源装置21的发光光谱的图，(a)是表示第1光源装置11的发光光谱的图，(b)是表示第2光源装置21的发光光谱的图。
第1光源111组合有发出不同的波段的光的多个激光光源，如示于图2(a)地，射出具有光强度在第1波长λ1处成为峰值的窄波段的第1光La及光强度在第2波长λ2光处成为峰值的窄波段的第2光Lb的光。通过第1光源装置11射出具有该2个窄波段的第1光La及第2光Lb的光，对该光进行调制的液晶光阀5B可抑制干涉条纹。关于通过第1光源装置11通过射出2个窄波段的光而抑制干涉条纹，在后详细地进行说明。
准直透镜阵列112具有对应于第1光源111中的多个激光光源的多个透镜，并分别使在各激光光源发出的光基本平行化。
聚光光学系统113将来自准直透镜阵列112的光聚光于光扩散部114。还有，虽然在图1中以1个透镜表示聚光光学系统113，但是也可以以多个透镜构成。
光扩散部114具有多个微透镜，并使从聚光光学系统113射出的光一边扩散一边透射。
第1拾取光学系统12具备第1透镜121及第2透镜122，使从光扩散部114射出的光基本平行化，并射出于第1积分光学系统13。还有，构成第1拾取光学系统12的透镜的片数并不限于2，既可以为1，也可以为3以上。
第1积分光学系统13如示于图1地，具备第1透镜阵列131、第2透镜阵列132、偏振变换元件133及重叠透镜134。
第1透镜阵列131具有配置为矩阵状的多个小透镜，并将来自第1拾取光学系统12的光分割为多个部分光。
第2透镜阵列132配置于第1透镜阵列131的光射出侧，具有对置于第1透镜阵列131的多个小透镜的多个小透镜。第2透镜阵列132与重叠透镜134一起，使部分光在液晶光阀5B上重叠。
偏振变换元件133将从第2透镜阵列132射出的非偏振的光变换为第1直线偏振光。
第2照明装置2如示于图1地，具备第2光源装置21、第2拾取光学系统22及第2积分光学系统23。
第2光源装置21具备第2光源211、准直透镜阵列212、聚光光学系统213及荧光发光部214，如示于图2(b)地，射出包括红色光(以下称为“R光”)及绿色光(以下称为“G光”)的黄色光(以下称为“Y光”)。G光相当于第2色光。
第2光源211具有发出作为激励光的B光(例如，发光强度的峰值：约440nm)的多个激光光源，并搭载于基板211a。还有，也可以使第2光源211与第1光源111相同而构成。并且，并不限于蓝色光，也可以将发出具有紫色光和/或紫外光的波段的光的元件用作第2光源211。
准直透镜阵列212与准直透镜阵列112同样地，具有对应于多个激光光源的多个透镜，并使在各激光光源发出的光分别基本平行化。
聚光光学系统213与聚光光学系统113同样地，将来自准直透镜阵列212的光聚光于荧光发光部214。还有，与聚光光学系统113同样地，也可以使聚光光学系统213以多个透镜构成。
荧光发光部214具有透明构件2141及荧光体2142。
透明构件2141以石英玻璃等的光学玻璃形成为板状。
荧光体2141设置于透明构件2141上，将介由准直透镜阵列212及聚光光学系统213从第2光源211射出的激励光变换为包括R光及G光的Y光。作为荧光体2142，例如包括作为YAG(Yttrium Aluminum Garnet，钇铝石榴石)类荧光体的包括(Y，Gd)3(Al，Ga)5O12：Ce的层。还有，荧光层既可以是包括其他的YAG类荧光体的层，也可以是包括YAG荧光体以外的荧光体(例如硅酸盐类荧光体和/或TAG类荧光体)的层。并且，也可以为包括将激励光变换为R光的荧光体(例如，CaAlSiN3红色荧光体)和将激励光变换为G光的荧光体(例如，β硫醛绿色荧光体)的混合物的层。
第2拾取光学系统22与第1拾取光学系统12同样地，具备第1透镜221及第2透镜222，使从荧光发光部214射出的光基本平行化，射出于第2积分光学系统23。
第2积分光学系统23与第1积分光学系统13同样地，具有第1透镜阵列231、第2透镜阵列232、偏振变换元件233及重叠透镜24而构成，具有将来自第2拾取光学系统的光分割为多个部分光并使分割的部分光重叠于液晶光阀5G、5R上的功能。
偏振变换元件233将从第2透镜阵列232射出的非偏振的光变换为第1直线偏振光。
色分离光学系统3具备分色镜31，将来自第2照明装置2的Y光分离为R光、G光。具体地，分色镜31对从第2积分光学系统23射出的Y光之中的G光进行反射，并使R光透射。
3个场透镜FL分别配置于反射型偏振板4R、4G、4B的光入射侧。
从第1照明装置1射出的B光介绍场透镜FL入射于反射型偏振板4B。
通过分色镜31反射的G光介由场透镜FL入射于反射型偏振板4G。
透射分色镜31的R光介由场透镜FL入射于反射型偏振板4R入射。
反射型偏振板4B使在偏振变换元件133一致的第1直线偏振光(例如，P偏振)透射，对正交于该第1直线偏振光的第2直线偏振光(例如，S偏振)进行反射。反射型偏振板4G、4R使在偏振变换元件233一致的第1直线偏振光透射，对正交于该第1直线偏振光的第2直线偏振光进行反射。还有，也可以构成为：在反射型偏振板4R、4G、4B的光路前段侧和/或光路后段侧配置相位差板，反射型偏振板4R、4G、4B使第2直线偏振光透射，并对第1直线偏振光进行反射。
液晶光阀5R、5G、5B具有反射型的液晶面板。
液晶面板具有在对置的基板间夹持液晶层的结构，在作为一方的基板的元件基板上，矩阵状地形成连接有TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)等的开关元件的反射像素电极，在另一方的基板(对置基板)，形成对置电极。
液晶面板相应于来自控制部的驱动信号而在反射像素电极与对置电极之间施加电压，控制液晶的取向状态，对入射的光进行调治。
液晶光阀5R、5G、5B将透射反射型偏振板4R、4G、4B的P偏振(Rp、Gp、Bp)的光相应于图相信息调制为S偏振(Rs、Gs、Bs)的光朝向反射型偏振板4R、4G、4B进行反射。在液晶光阀5R、5G、5B调制且在反射型偏振板4R、4G、4B反射的各色光射出于十字分色棱镜6。
十字分色棱镜6呈使4个直角棱镜贴合的俯视基本正方形状，在使直角棱镜彼此贴合的界面，形成2个电介质多层膜。十字分色棱镜6中，电介质多层膜对从液晶光阀5R、5G、5B射出的R光、B光进行反射，并使从液晶光阀5G射出的G光透射，对各色光进行合成而射出。
投影透镜7具备多个透镜(图示省略)，将在十字分色棱镜6合成的光放大投影于屏幕SC等的投影面。
(第1光源装置的详情)
在此，通过第1光源装置11射出2个窄波段的光，关于抑制液晶光阀5B中的干涉条纹进行说明。
首先，用于与本实施方式的第1光源装置11进行比较，在采用射出现有的窄波段的光的光源装置的情况下，对在液晶光阀5B中的液晶面板产生干涉条纹进行说明。
图3是示意地表示液晶光阀5R、5G、5B中的液晶面板50的剖视图。
液晶面板50如示于图3地，成为叠层有对置基板51、对置电极52、取向膜53、液晶54、取向膜55、反射像素电极56、元件基板57等的折射率不同的构件的多层结构。例如，对置基板51和/或元件基板57由玻璃材料等形成，对置电极52由ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等的透明导电材料形成，反射像素电极56由铝和/或银、它们的合金等的光反射率高的金属形成，取向膜53、55由无机材料等形成。
通过液晶面板50成为多层结构，入射于液晶面板50的光在反射时产生多重干涉。例如，如示于图3地，入射于液晶面板50的入射光Li中，一部分在对置电极52进行反射(光L1)，并与在反射像素电极56反射的光L2相干涉，作为反射光Lr从液晶面板50射出于外部。
并且，该反射光Lr通过入射光Li的波长而光强度不同。即，在光L1的波与光L2的波一致前进的波长处，光强度增强，在光L1的波与光L2的波不一致的波长处，光强度减弱。
具体地，在着眼于液晶54的层的情况下，若以液晶54的层的厚度(基板间间隙)为d，以液晶54的折射率为n，以光的波长为λ，以自然数为m，则在以下的式(1)的条件的情况下，反射光Lr强度最强；在以下的式(2)条件的情况下，反射光Lr强度最弱。
2dn＝λ(m+1/2)···(1)
2dn＝λm···(2)
由此，在液晶面板50中的反射光Lr的发光光谱，虽然如果未产生多重干涉则应该描绘平滑的曲线，但是通过多重干涉而表现连续地产生小的振幅的波的波纹。
波纹因为起因于对置电极52、液晶54、取向膜53、55、反射像素电极56等的厚度，所以通过这些构件的液晶面板50面内中的厚度的不匀而不同。因此，相对于进入波纹的1个周期波长(波纹波长)的窄波段的光，反射光Lr的强度通过液晶面板50面内的部位而不同。即，在采用现有的激光光源的情况下，会在液晶面板50的面内产生干涉条纹，并在投影的图像产生亮度的不匀和/或色不匀。尤其是，液晶54的层的厚度(所述式(1)、(2)中的d)的不匀成为干涉条纹的主要原因。
图4是用于对在采用现有的激光光源的情况下的液晶面板50的面内产生干涉条纹进行说明的图。具体地，图4(a)是对液晶面板50中的反射光Lr的发光光谱进行例示的图，(b)是对现有的光源装置的发光光谱进行例示的图，(c)是对反射光Lr的发光光谱及现有的光源装置的发光光谱进行例示的图，(d)是对液晶面板50的面内中的干涉条纹进行例示的图。
如所述地，因为反射光Lr因构成液晶面板50的构件的厚度的不同而相对于波长的强度不同，所以在液晶面板50的面内，如示于图4(a)地，相应于构成液晶面板50的构件的厚度的不匀而产生许多强度在同一波长不同的波纹。这些波纹例如如示于图4(a)地，在分光光谱中的440nm～475nm的范围，具有约26nm的波长(波纹的1个周期的波长：波纹波长Rλ)。
作为现有的光源装置，如示于图4(b)地，例如，若采用发出发光强度在波长465nm处成为峰值的窄波段的光的激光光源，则如示于图4(c)地，光的强度之差在产生波峰位于该波长465nm附近的波纹波R1的部位与产生波谷位于该波长465nm附近的波纹波R2的部位变得。也就是说，从现有的光源装置射出在液晶面板50反射的光从液晶面板50的面内中的不同的部位，如示于图4(c)地，射出具有成为波纹波R1的波峰的强度高的光R1u的光和具有成为波纹波R2的波谷的强度低的光R2d的光。而且，该光的强度之差如示于图4(c)地，成为光源装置的发光光谱中的以波纹波R1与波纹波R2包围的区域A。而且，如示于图4(d)地，在液晶面板50的面内，对应于射出的光的强弱而产生干涉条纹(条纹状的图案(明暗))。如此地，在液晶面板50的面内，通过在相对于入射光的反射光(射出光)产生波纹而产生干涉条纹。
在此，关于采用现有的光源装置的情况，进行中间灰度等级的蓝色显示，对在投影的图像的面内成为最大的亮度Ymax及成为最小的亮度Ymin进行测定，并按以下的式(3)对亮度不匀进行计算的结果，亮度不匀为0.187。
亮度不匀＝(Ymax－Ymin)/(Ymax+Ymin)···(3)
并且，关于采用现有的光源装置的情况，进行中间灰度等级的灰色显示，对CIE(Commission International de l’Eclairage，国际照明委员会)的色度u＇v＇图上的色不匀进行了计算。具体地，对在投影的图像的面内成为最大的色度u＇max、v＇max及成为最小的u＇min、v＇min进行测定，并按以下的式(4)对色不匀进行了计算的结果，色不匀为0.027。
Δu＇v＇＝√((u＇max－u＇min)2+(v＇max－v＇min)2)···(4)
如此地，在采用现有的光源装置的情况下，亮度不匀、色不匀都表现大的值，并从观察者可识别这些不匀。
接下来，关于采用本实施方式的第1光源装置11的情况进行说明。
图5是表示反射光Lr的发光光谱及第1光源装置11的发光光谱的图。
如示于图5地，第1光源装置11如所述地，射出具有第1光La及第2光Lb的光。而且，第1光La中的光强度为峰值的第1波长λ1与第2光Lb中的光强度为峰值的第2波长λ2的间隔(以下称为“波长间隔”)设定为，超过反射光Lr的发光光谱所具有的波纹之中的第1光La及第2光Lb的波长范围(第1波长λ1及第2波长λ2的附近区域)处的波纹波长Rλ的1/4且不足3/4。
首先，关于组合多个激光光源使得波长间隔成为波纹波长Rλ(约26nm)的约1/2(约13nm)的情况进行说明。具体地，第1光源装置11如示于图5地，例如设定为，第1波长λ1约为465nm、第2波长λ2约为452nm，射出第1波长λ1处的光强度与第2波长λ2出的光强度变得基本相同的光。
并且，第1光La设定为光强度成为第1波长λ1处的光强度的一半以上的波段的宽度(有效波长范围W1)约为5nm的窄波段的光。同样地，第2光Lb设定为光强度成为第2波长λ2处的光强度的一半以上的波段的宽度(有效波长范围W2)约为5nm的窄波段的光。
还有，有效波长范围W1、W2只要为10nm以下即可。
如示于图5地，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R1的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有成为波纹波R1的波峰的强度高的光R1u的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有成为波纹波R1的波谷的强度低的光R1d的光。
并且，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R2的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有成为波纹波R2的波谷的强度低的光R2d的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有成为波纹波R2的波峰的强度高的光R2u的光。
由此，液晶面板50的面内中的光的强度差如示于图5地，成为以第1光La的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域A与以第2光Lb的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域B之差。该差相比于在采用现有的光源装置的情况下(参照图4(c))的差为以区域A表示的范围要大幅度地小，可抑制液晶面板50的面内中的干涉条纹。
在此，进行中间灰度等级的蓝色显示，对在投影的图像的面内成为最大的亮度Ymax及成为最小的亮度Ymin进行测定，并按所述的式(3)对亮度不匀进行了计算的结果，亮度不匀为0.039。
并且，进行中间灰度等级的蓝色显示，对在投影的图像的面内成为最大的色度u＇max、v＇max及成为最小的u＇min、v＇min进行测定，并以所述的式(4)对色不匀进行了计算的结果，色不匀为0.007。
如此地，在采用第1光源装置11的情况下，亮度不匀、色不匀都比使用现有的光源装置的情况要小，从观察者也几乎无法识别这些不匀。
第1光源装置11可以构成为：通过多个激光光源的组合，射出与所述的发光光谱不同的发光光谱的光。
接下来，关于使得波长间隔成为波纹波长Rλ的约3/8、约5/8地构成第1光源装置11的情况进行说明。
图6是表示反射光Lr的发光光谱及第1光源装置11的发光光谱的图，(a)为使得波长间隔成为波纹波长Rλ的约3/8地构成第1光源装置11的情况下的图，(b)为使得波长间隔成为波纹波长Rλ的约5/8地构成第1光源装置11的情况下的图。
如示于图6(a)地，在使得波长间隔为波纹波长Rλ的约3/8地构成第1光源装置11的情况下(例如，λ1≈465nm、λ2≈455nm)，从液晶面板50射出如以下的光。
即，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R1的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有成为波纹波R1的波峰的强度高的光R1u的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有光R1d的光。
光R1a如示于图6(a)地，为第2波长λ2的光，具有位于波纹波R1中的波谷R1v与波纹波R1中的振幅为0的中间位置Rc之间的波纹波R1上的光强度，并且为比对应于波谷R1v的强度要强且比对应于中间位置Rc的强度要弱的光。
并且，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R2的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有成为波纹波R2的波谷的强度低的光R2d的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有光R2u的光。
光R2a如示于图6(a)地，为第2波长λ2的光，具有位于波纹波R2中的波峰R2m与中间位置Rc之间的波纹波R2上的光强度，并且为比对应于波峰R2m的强度要强且比对应于中间位置Rc的强度要弱的光。
而且，液晶面板50的面内中的光的强度差如示于图6(a)地，成为以第1光La的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域A与以第2光Lb的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域C之差。该差虽然比波长间隔为波纹波长Rλ的1/2的情况下(参照图5)要大，但是相比于采用现有的光源装置的情况下(参照图4(c))的差为以区域A表示的范围要小，可抑制液晶面板50的面内中的干涉条纹。
如示于图6(b)地，在使得波长间隔成为波纹波长Rλ的5/8地构成第1光源装置11的情况下(例如，λ1≈465nm、λ2≈449nm)，从液晶面板50射出如以下那样的光。
即，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R1的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有强度高的光R1u的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有光R1d的光。
光R1a如示于图6(b)地，具有位于波纹波R1中的波谷R1v与中间位置Rc之间的波纹波R1上的光强度，并且为比波谷R1v处的强度要强且比中间位置Rc处的强度要弱的光。
并且，在液晶面板50的面内中的产生波纹波R2的部位处，相对于入射的第1光La，射出具有强度低的光R2d的光；相对于入射的第2光Lb，射出具有光R2b的光。
光R2a如示于图6(b)地，具有位于波纹波R2中的波峰R2m与中间位置Rc之间的波纹波R2上的光强度，并且为比波峰R2m处的强度要弱且比中间位置Rc处的强度要强的光。
而且，液晶面板50的面内中的光的强度差如示于图6(b)地，成为以第1光La的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域A与以第2光Lb的发光光谱中的波纹波R1与波纹波R2包围的区域D之差。该差虽然比波长间隔为波纹波长Rλ的1/2的情况下(参照图5)要大，但是相比于采用现有的光源装置的情况下(参照图4(c))的差为以区域A表示的范围要小，可抑制液晶面板50的面内中的干涉条纹。
并且，在波长间隔设定为不足波纹波长Rλ的3/8且超过1/4的范围的情况下，反射光Lr的发光光谱及第1光源装置11的发光光谱示于图6(a)的区域C移动到中间位置Rc侧的光谱。即，第2光Lb的发光光谱中的以波纹波R1与波纹波R2包围的区域C随着波长间隔从波纹波长Rλ的3/8变小为1/4而逐渐变小，在第2光Lb的发光光谱内存在中间位置Rc的波长间隔的情况下，夹持中间位置Rc而设置于两侧(图示省略)。
夹持中间位置Rc而设置于两侧的区域C是以光强度低的波纹波R1与光强度比该光强度高的波纹波R2包围的第1区域C1(图示省略)及以光强度低的波纹波R2与比光强度比该光强度强的波纹波R1包围的第2区域C2(图示省略)，因为波长间隔超过波纹波长Rλ的1/4，所以第1区域C1一方成为比第2区域C2大的区域。即，对应于波长间隔设定为不足波纹波长Rλ的3/8且超过1/4的范围的情况下的第2光Lb的光(区域C中的光)波纹波R2的光强度比波纹波R1的光强度要高。
还有，在波长间隔设定为不足波纹波长Rλ的3/8且超过1/4的范围的情况下，以在第2光Lb的发光光谱内不存在中间位置Rc的波长间隔的情况为单区域形成状态，以在第2光Lb的发光光谱内存在中间位置Rc的波长间隔的情况为多区域形成状态，以第1区域C1与第2区域C2之差为差分区域C3。
而且，液晶面板50的面内中的光的强度差在单区域形成状态的情况下，成为示于图6(a)的区域A与单区域形成状态下的区域C之差，在多区域形成状态的情况下，成为示于图6(a)的区域A与差分区域C3之差。
虽然这些单区域形成状态及多区域形成状态下的光的强度差比波长间隔为波纹波长Rλ的3/8的情况要大，但是相比于采用现有的光源装置的情况下的差为以区域A(参照图4(c))表示的范围要小。
并且，在波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的3/8且不足1/2的范围的情况下，液晶面板50的面内中的光的强度差因为比示于图6(a)的区域C成为接近以图5表示的区域B的大小，所以比波长间隔设定为波纹波长Rλ的3/8的情况要小。
并且，在波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的1/2且不足5/8的范围的情况下，液晶面板50的面内中的光的强度差因为比示于图6(b)的区域D成为接近以图5表示的区域B的大小，所以比波长间隔设定为波纹波长Rλ的5/8的情况要小。
并且，在波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的5/8且不足3/4的范围的情况下，反射光Lr的分光光谱及第1光源装置11的发光光谱示于图6(b)的区域D移动到中间位置Rc侧。即，第2光Lb的发光光谱中的以波纹波R1与波纹波R2包围的区域D随着波长间隔从波纹波长Rλ的5/8变大为3/4而逐渐变小，在第2光Lb的发光光谱内存在中间位置Rc的波长间隔的情况下，夹持中间位置Rc而设置于两侧(图示省略)。
夹持中间位置Rc而设置于两侧的区域D是以光强度低的波纹波R1与光强度比该光强度高的波纹波R2包围的第3区域D3(图示省略)及以光强度低的波纹波R2与光强度比该光强度强的波纹波R1包围的第4区域C4(图示省略)，因为波长间隔不足波纹波长Rλ的3/4，所以第3区域D3一方成为比第4区域D4大的区域。即，对应于波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的5/8且不足3/4的范围的情况下的第2光Lb的光(区域D中的光)波纹波R2的光强度比波纹波R1的光强度要高。
还有，在波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的5/8且不足3/4的范围的情况下，以在第2光Lb的发光光谱内不存在中间位置Rc的波长间隔的情况为单区域形成状态，以在第2光Lb的发光光谱内存在中间位置Rc的波长间隔的情况为多区域形成状态，以第3区域D3与第4区域D4之差为差分区域D5。
而且，液晶面板50的面内中的光的强度差在单区域形成状态的情况下，成为示于图6(b)的区域A与单区域形成状态下的区域D之差，在多区域形成状态的情况下，成为示于图6(b)的区域A与差分区域C5之差。
虽然这些单区域形成状态及多区域形成状态下的光的强度差比波长间隔为波纹波长Rλ的5/8的情况要大，但是相比于采用现有的光源装置的情况下的差为以区域A(参照图4(c))表示的范围要小。
如以上说明地，波长间隔设定为超过波纹波长Rλ的1/4且不足3/4的范围，液晶面板50的面内中的光的强度差相比于采用现有的光源装置的情况要小，可抑制液晶面板50的面内中的干涉条纹。
在具有现有的激光光源的光源装置中，如果能够使射出的光的有效波长范围非常地大，则也可以对液晶面板50的干涉条纹进行抑制。但是，1个激光光源射出的光的有效波长范围为1nm非常地小，为了使有效波长范围增大，需要非常多的激光光源。相对于此，本发明的激光光源11因为有效波长范围W1、W2设定为10nm以下，所以可以通过对激光光源的数量进行抑制而实现第1光源装置11的大型化的抑制和/或第1光源装置11制造的简化。而且，通过具有第1光La、第2光Lb可以对液晶面板50的干涉条纹进行抑制已通过所述而言。
并且，虽然所述的实施方式对波纹波长Rλ约为26nm的情况进行了例示，但是第1波长λ1、第2波长λ2在第1光La、第2光Lb各自中，能够设定为成为强度的峰值的范围，可以对应于比26nm短的波纹波长Rλ对液晶面板50的干涉条纹进行抑制。
例如，虽然详细的图示进行省略，但是在有效波长范围W1、W2为10nm的第1光La、第2光Lb的情况下，通过设定为波长间隔超过10nm，能够使第1波长λ1、第2波长λ2在第1光La、第2光Lb各自中，成为强度的峰值。具体地，若考虑波长间隔超过波纹波长Rλ的1/4且不足3/4，则可以对应于约为14nm以上的波纹波长Rλ而对光调制装置中的干涉条纹进行抑制。并且，如果有效波长范围W1、W2不足10nm，则可以对应于更短的波纹波长Rλ而对液晶面板50的干涉条纹进行抑制。
还有，因为从第2光源装置21射出而入射于液晶光阀5G、5R的G光、R光为远超波纹波长Rλ的范围的宽波段的光，所以在液晶光阀5G、5R中的液晶面板50，基本不会产生干涉条纹。
如此地，第1光源装置11射出具有波长间隔超过波纹波长Rλ的1/4且不足3/4而有效波长范围W1、W2为10nm以下的第1光La及第2光Lb的光，并对液晶面板50的干涉条纹进行抑制。
如以上说明地，根据本实施方式，能够得到以下的效果。
(1)因为可抑制液晶面板50的干涉条纹，所以投影机100可以进行对亮度的不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影。
(2)因为作为光调制装置采用利用反射光的反射型的液晶面板50，所以可以更有效地对液晶面板50的面内中的干涉条纹进行抑制，并对投影的图像的亮度的不匀和/或色不匀进行抑制。
(3)第1光源装置11因为构成为，通过多个激光光源射出具有第1光La及第2光Lb的光，所以可以谋求第1光源装置11的长寿命化，并射出超过波纹波长Rλ的1/4且不足3/4地对波长间隔进行了设定的光。
(4)因为有效波长范围W1、W2设定为10nm以下，所以可以对应于波纹波长Rλ至少为14nm以上的波纹而对液晶面板50的干涉条纹进行抑制。
(5)投影机100因为具备射出B光(第1色光)的第1光源装置11及射出包括G光(第2色光)、R光的光的第2光源装置21，所以能够对各色光的强度容易地进行控制。
并且，液晶光阀5B(第1光调制装置)中的液晶面板50通过具有第1光La与第2光Lb的光可抑制干涉条纹，液晶光阀5G、5R中的液晶面板50通过宽波段的光基本不会产生干涉条纹。
从而，可以提供使各色光的强度的平衡良好，并可以进行对亮度的不匀和/或色不匀进行了抑制的图像的投影的投影机。
(变形例)
还有，所述实施方式也可以如以下地变更。
虽然在所述实施方式中构成为，具有第1光La及第2光Lb的光为B光，但是既可以构成为，具有第1光La及第2光Lb的光为B光以外例如G光和/或R光，也可以构成为，不仅一色而是多色。
第1光源装置11虽然构成为，通过多个激光光源的组合，射出具有第1光La及第2光Lb的光，但是只要是射出如所述的窄波段的光的光源即可也可以采用激光光源以外的光源。
所述实施方式的投影机100虽然作为光调制装置采用反射型的液晶面板50，但是也可以采用透射型的液晶面板。在透射型的液晶面板中，因为入射的光的一部分在构成液晶面板的构件的各层进行反射，所以也会产生波纹。因此，即使在采用透射型的液晶面板的情况下，也可以对该液晶面板中的干涉条纹进行抑制。
并且，作为光调制装置，只要是构成为在调制入射的光的过程中反射光相干涉的调制装置即可，并不限于液晶面板。
虽然在所述实施方式中构成为，第1波长λ1处的光强度与第2波长λ2处的光强度基本相同，但是也可以构成为，第1波长λ1处的光强度与第2波长λ2处的光强度不同。尤其是在具有第1光La及第2光Lb的光为B光的情况下，因为考虑到在第2波长λ2处(低波长侧)包括紫外线，所以通过将第2波长λ2处的光强度设定为比第1波长λ1处(高波长侧)的光强度低，可以对投影的图像的亮度的不匀和/或色不匀进行抑制，并对液晶面板的通过紫外线引起的劣化进行抑制。
并且，也可以设置可以对第1波长λ1处的光强度及第2波长λ2处的光强度进行调整的调整部。
也可以构成为，代替所述的实施方式中的第1积分光学系统13、第2积分光学系统23，采用通过使分别入射的光在面内进行多重反射而均匀化的棒形透镜。

Claims (7)

1.一种投影机，其特征在于：
具备射出光的光源装置、对从所述光源装置射出的光相应于图像信息进行调制的光调制装置及对在所述光调制装置调制的光进行投影的投影光学系统；
所述光源装置射出具有光强度在第1波长处成为峰值的窄波段的第1光及光强度在第2波长处成为峰值的窄波段的第2光的光；
所述第1波长与所述第2波长的间隔超过相对于所述光调制装置的入射光的射出光的分光光谱所具有的波纹之中的所述第1波长及所述第2波长的附近范围处的所述波纹的1个周期波长的1/4且不足3/4。
2.根据权利要求1所述的投影机，其特征在于：
所述光调制装置为液晶面板。
3.根据权利要求2所述的投影机，其特征在于：
所述光调制装置为反射型的液晶面板。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的投影机，其特征在于：
所述光源装置具备射出所述第1光的激光光源及射出所述第2光的激光光源。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的投影机，其特征在于：
所述第1波长及所述第2波长处于蓝色光的波长范围。
6.根据权利要求1～5的任一项所述的投影机，其特征在于：
所述第1光中，光强度为所述第1波长处的光强度的一半以上的波段的宽度为10nm以下；
所述第2光中，光强度为所述第2波长处的光强度的一半以上的波段的宽度为10nm以下。
7.根据权利要求1～6的任一项所述的投影机，其特征在于：
所述光源装置具备第1光源装置和第2光源装置，
所述第1光源装置具备射出具有所述第1光和所述第2光的第1色光的第1光源及使从所述第1光源射出的所述第1色光扩散的光扩散部，
所述第2光源装置具有射出激励光的第2光源及将所述激励光变换为包括第2色光的光的荧光体；
所述光调制装置具备对所述第1色光进行调制的第1光调制装置及对所述第2色光进行调制的第2光调制装置。
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