CN104536170B - 去除集成电路的方法及装置 - Google Patents

去除集成电路的方法及装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104536170B
CN104536170B CN201510001238.0A CN201510001238A CN104536170B CN 104536170 B CN104536170 B CN 104536170B CN 201510001238 A CN201510001238 A CN 201510001238A CN 104536170 B CN104536170 B CN 104536170B
Authority
CN
China
Prior art keywords
display floater
integrated circuit
chamber
heating
transition chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201510001238.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104536170A (zh
Inventor
孙勇
唐先珍
钱志禹
闫龙
张骏
祝道成
王伟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201510001238.0A priority Critical patent/CN104536170B/zh
Publication of CN104536170A publication Critical patent/CN104536170A/zh
Priority to US14/742,820 priority patent/US9987836B2/en
Application granted granted Critical
Publication of CN104536170B publication Critical patent/CN104536170B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B43/00Operations specially adapted for layered products and not otherwise provided for, e.g. repairing; Apparatus therefor
    • B32B43/006Delaminating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form
    • B32B3/10Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar shape; Layered products comprising a layer having particular features of form characterised by a discontinuous layer, i.e. formed of separate pieces of material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/12Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by using adhesives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/10Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/06Interconnection of layers permitting easy separation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/34Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies not provided for in groups H01L21/0405, H01L21/0445, H01L21/06, H01L21/16 and H01L21/18 with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/44Manufacture of electrodes on semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/38 - H01L21/428
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)

Abstract

本发明提供了一种去除集成电路的方法及装置,属于显示技术领域。其中,去除集成电路的装置,用于去除显示面板上的集成电路,所述装置包括:用于与所述显示面板相接触并对所述显示面板进行加热的加热单元;用于夹取加热后的所述显示面板上的集成电路的可伸缩夹取组件。本发明的技术方案能够在不破坏显示面板的情况下将集成电路从显示面板上去除,并能够提高去除集成电路的效率。

Description

去除集成电路的方法及装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别涉及一种去除集成电路的方法及装置。
背景技术
随着智能手机、平板电脑、超级本等移动产品的大规模发展,对液晶显示模组的小型化、薄型化程度要求越来越高,由于COG(Chip on glass)产品结构简单,可以大大减小液晶显示模组的体积,且易于大批量生产,为了更好的降低成本,目前,小尺寸移动产品的液晶显示模组大都采用COG工艺,即使用ACF(异方性导电胶)将Drive IC(集成电路,integrated circuit)直接绑定(Bonding)到Panel(显示面板)上。
在实际的液晶显示模组生产和分析过程中,可能由于IC的原材料混料,bonding的偏移、bonding压接不良等原因造成IC绑定不良,需要将IC去除后重新进行IC绑定修复;另一方面,在对Panel进行测试和分析时,需要去除IC漏出相应电极区的信号引线,也需要进行IC的去除。
现有去除IC的方式一般是使用热风枪对IC表面进行加热,加热温度高达300~450度,加热一段时间后使用硬物将IC从液晶显示模组上剥离。但是这种去除IC的方式存在以下的问题:由于热风枪不能直接接触IC,与IC之间存在一定的间隙,所以需要较长的加热时间才能加热到所需温度,效率比较低,不能大批量的进行IC的去除;另外在使用硬物进行IC的剥离时,如果操作不当,可能会划伤Panel的电极区,甚至造成Panel电极区破裂,导致Panel的显示、测试和分析都受到影响。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种去除集成电路的方法及装置,能够在不破坏显示面板的情况下将集成电路从显示面板上去除,并能够提高去除集成电路的效率。
为解决上述技术问题,本发明的实施例提供技术方案如下:
一方面,提供一种去除集成电路的装置,用于去除显示面板上的集成电路,所述装置包括:
用于与所述显示面板相接触并对所述显示面板进行加热的加热单元;
用于夹取加热后的所述显示面板上的集成电路的可伸缩夹取组件。
进一步地,所述装置还包括:
用于承载并固定所述显示面板的承载单元。
进一步地,所述装置还包括:
用于放置去除后的集成电路的集成电路回收单元。
进一步地,所述加热单元包括:
加热片;
用于控制所述加热片温度的温度控制器。
进一步地,所述加热片的材料为不锈钢、硅或陶瓷。
进一步地,所述可伸缩夹取组件包括:
相对设置的两个夹杆;
用于控制所述两个夹杆之间距离的距离控制器。
进一步地,所述承载单元包括:
用于承托所述显示面板的放置平台;
位于所述放置平台上、用于固定所述显示面板的固定件。
进一步地,所述装置还包括:
操作腔室,所述加热单元和可伸缩夹取组件位于所述操作腔室内。
进一步地,所述操作腔室为真空腔室。
进一步地,所述装置还包括:
位于所述操作腔室一侧、与所述操作腔室紧邻的第一过渡腔室;
用于对所述第一过渡腔室抽真空的第一抽真空单元;
位于所述操作腔室另一侧、与所述操作腔室紧邻的第二过渡腔室;
用于对所述第二过渡腔室抽真空的第二抽真空单元。
进一步地,所述装置还包括:
用于将所述显示面板在所述第一过渡腔室、操作腔室和第二过渡腔室之间传送的传送带;
用于拿取显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上的机械手。
本发明实施例还提供了一种去除集成电路的方法,应用于上述的装置,所述方法包括:
利用所述加热单元对所述显示面板进行加热;
利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
进一步地,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路包括:
利用所述承载单元固定所述显示面板,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
进一步地,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路之后还包括:
将去除后的集成电路放置在所述集成电路回收单元中。
进一步地,所述方法具体包括:
利用机械手拿取所述显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上,利用所述传送带将所述显示面板传送至所述第一过渡腔室;
利用所述第一抽真空单元对所述第一过渡腔室抽真空,待所述第一过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,将所述显示面板从所述第一过渡腔室传送至所述操作腔室;
利用所述机械手将所述显示面板放置在所述承载单元上,利用所述加热单元对所述显示面板进行加热,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路;
利用所述第二抽真空单元对所述第二过渡腔室抽真空,待所述第二过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,利用机械手将所述显示面板从承载单元放置到所述传送带上,并利用所述传送带将所述显示面板从所述操作腔室传送至所述第二过渡腔室;
将所述显示面板传送出所述第二过渡腔室。
本发明的实施例具有以下有益效果:
上述方案中,在对显示面板进行加热时,加热单元与显示面板相接触,能够提高对显示面板进行加热的效率;在对显示面板加热后,固定显示面板,并利用夹取组件将显示面板上的集成电路去除,采用本发明的技术方案,能够快速高效地去除显示面板上的集成电路,并能够有效防止去除集成电路过程中对显示面板造成的损伤。
附图说明
图1为本发明实施例去除集成电路的装置的结构示意图。
附图标记
1 显示面板 2 印刷电路板 3 集成电路 4 传送带
5 第一过渡腔室 6 操作腔室 7 第二过渡腔室 8 加热单元
9 放置平台 11 可伸缩夹取组件 12 集成电路回收单元
13 第一抽真空单元 14 第二抽真空单元 15 机械手
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明的实施例提供一种去除集成电路的方法及装置,能够在不破坏显示面板的情况下将集成电路从显示面板上去除,并能够提高去除集成电路的效率。
本发明实施例提供了一种去除集成电路的装置,用于去除显示面板上的集成电路,所述装置包括:
用于与所述显示面板相接触并对所述显示面板进行加热的加热单元;
用于夹取加热后的所述显示面板上的集成电路的可伸缩夹取组件。
本实施例在对显示面板进行加热时,加热单元与显示面板相接触,能够提高对显示面板进行加热的效率;在对显示面板加热后,固定显示面板,并利用夹取组件将显示面板上的集成电路去除,采用本发明的技术方案,能够快速高效地去除显示面板上的集成电路,并能够有效防止去除集成电路过程中对显示面板造成的损伤。
进一步地,所述装置还包括:用于承载并固定所述显示面板的承载单元。这样在去除集成电路时,利用承载单元固定加热后的显示面板,之后利用可伸缩夹取组件夹取显示面板上的集成电路。
进一步地,所述装置还包括:用于放置去除后的集成电路的集成电路回收单元。
进一步地,所述加热单元包括:
加热片;
用于控制所述加热片温度的温度控制器。
具体地,所述加热片的材料可以为不锈钢、硅或陶瓷等导热性能较好的材料。
进一步地,所述可伸缩夹取组件包括:
相对设置的两个夹杆;
用于控制所述两个夹杆之间距离的距离控制器,距离控制器可以根据要夹取的集成电路的大小调整两个夹杆之间的距离,使两个夹杆之间的距离与集成电路的大小相适配。
进一步地,所述承载单元包括:
用于承托所述显示面板的放置平台;
位于所述放置平台上、用于固定所述显示面板的固定件。
进一步地,所述装置还包括:
操作腔室,所述加热单元和可伸缩夹取组件位于所述操作腔室内。
优选地,所述操作腔室为真空腔室,因为真空环境下热量不容易散失,可以起到保温的效果,有利于缩短加热时间。
进一步地,为了保证操作腔室的真空环境,所述装置还包括:
位于所述操作腔室一侧、与所述操作腔室紧邻的第一过渡腔室;
用于对所述第一过渡腔室抽真空的第一抽真空单元;
位于所述操作腔室另一侧、与所述操作腔室紧邻的第二过渡腔室;
用于对所述第二过渡腔室抽真空的第二抽真空单元。
进一步地,所述装置还包括:
用于将所述显示面板在所述第一过渡腔室、操作腔室和第二过渡腔室之间传送的传送带;
用于拿取显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上的机械手。
本发明实施例还提供了一种去除集成电路的方法,应用于上述的装置,所述方法包括:
利用所述加热单元对所述显示面板进行加热;
利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
本实施例在对显示面板进行加热时,加热单元与显示面板相接触,能够提高对显示面板进行加热的效率;在对显示面板加热后,固定显示面板,并利用夹取组件将显示面板上的集成电路去除,采用本发明的技术方案,能够快速高效地去除显示面板上的集成电路,并能够有效防止去除集成电路过程中对显示面板造成的损伤。
进一步地,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路包括:
利用所述承载单元固定所述显示面板,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
进一步地,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路之后还包括:
将去除后的集成电路放置在所述集成电路回收单元中。
进一步地,所述方法具体包括:
利用机械手拿取所述显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上,利用所述传送带将所述显示面板传送至所述第一过渡腔室;
利用所述第一抽真空单元对所述第一过渡腔室抽真空,待所述第一过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,将所述显示面板从所述第一过渡腔室传送至所述操作腔室;
利用所述机械手将所述显示面板放置在所述承载单元上,利用所述加热单元对所述显示面板进行加热,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路;
利用所述第二抽真空单元对所述第二过渡腔室抽真空,待所述第二过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,利用机械手将所述显示面板从承载单元放置到所述传送带上,并利用所述传送带将所述显示面板从所述操作腔室传送至所述第二过渡腔室;
将所述显示面板传送出所述第二过渡腔室。
下面结合附图对本发明的去除集成电路的装置及方法进行进一步地介绍:
如图1所示,本发明的去除集成电路的装置包括第一过渡腔室5,操作腔室6,第二过渡腔室7,将显示面板1在第一过渡腔室5、操作腔室6和第二过渡腔室7之间传送的传送带4,用于将显示面板1拿取到传送带4上或者从传送带4上拿取显示面板1的机械手15,机械手15上带有用于吸取显示面板1的吸球。
操作腔室6中设置有对显示面板1进行加热的加热单元8,承载并固定显示面板1的承载单元,夹取显示面板1上集成电路3的可伸缩夹取组件11,放置去除后的集成电路3的集成电路回收单元12。其中,加热单元8包括加热片和控制加热片温度的温度控制器,加热片的材料可以为不锈钢、硅、陶瓷等导热性能较好的材料;承载单元包括承托显示面板1的放置平台9,具体地,放置平台9可以为真空吸附台;可伸缩夹取组件11包括相对设置的两个夹杆和控制两个夹杆之间距离的距离控制器,可以根据要夹取的集成电路的尺寸来调节两个夹杆之间的距离,可伸缩夹取组件11可以根据显示面板1上集成电路3的位置和大小进行移动和伸缩。
由于真空环境下热量不容易散失,可以起到保温的效果,有利于缩短加热时间,因此,操作腔室6为真空腔室,另外为了保证操作腔室6的真空环境,在操作腔室6的两侧还分别设置有第一过渡腔室5和第二过渡腔室7,第一过渡腔室5包括有供显示面板1传送入的A门和供显示面板1传送出的B门,第一过渡腔室5连接有对第一过渡腔室5抽真空的第一抽真空单元13;第二过渡腔室7包括有供显示面板1传送入的C门和供显示面板1传送出的D门,第二过渡腔室7连接有对第二过渡腔室7抽真空的第二抽真空单元14。
在工作时,机械手15将包括有印刷电路板2和集成电路3的显示面板1放置到传送带4上,传送带4传送显示面板1至第一过渡腔室5,打开A门,显示面板1进入第一过渡腔室5,第一抽真空单元13对第一过渡腔室5抽真空,待第一过渡腔室5的真空度与操作腔室6一致时,关A门,打开B门,显示面板1进入操作腔室6;机械手15从传送带4上拿取显示面板1,将显示面板1放置到放置平台9上,放置平台9对显示面板1进行固定,由图1可以看出,显示面板1对应集成电路3的区域位于放置平台9之外,放置平台9从位置E前进到位置F处,加热单元8升起,加热片与显示面板1对应集成电路3的区域相接触,对显示面板1进行加热,温度控制器可以根据需要调节加热片的温度,加热片可以根据显示面板的尺寸进行更换,加热到合适温度后绑定集成电路3的ACF熔化,可伸缩夹取组件11夹住显示面板1上的集成电路3,通过可伸缩夹取组件11向上力的作用将集成电路3从显示面板1上去除,加热单元8下降,放置平台9向前移动。由于可伸缩夹取组件11可以移动,因此可以去除显示面板1上的多个集成电路3,可伸缩夹取组件11将去除后的集成电路3放置到集成电路回收单元12中,集成电路回收单元12不在放置平台9的前进路线上。由于集成电路3去除后很难再继续使用,所以一般只设置一个回收单元,如果需要Gate(栅电极)侧和Source(源电极)侧的集成电路分开放置,只需要再增加一回收单元和更改相应的流程即可,去除集成电路3后,机械手15从放置平台9上拿取显示面板1,将显示面板1放置到传送带4上。第二抽真空单元14对第二过渡腔室7抽真空,待第二过渡腔室7的真空度与操作腔室6一致时,打开C门,传送带4将去除集成电路3后的显示面板1从操作腔室6传送进入第二过渡腔室7,然后C门关闭,打开D门,显示面板1被传送出第二过渡腔室7,D门关闭。之后机械手15将显示面板1从传送带4上吸取后以便进行后续工序,继续需要的工艺流程。
本发明的去除集成电路的装置结构简单,易于实现,在对显示面板进行加热时,加热片与显示面板相接触,能够提高对显示面板进行加热的效率;在对显示面板加热后,固定显示面板,并利用夹取组件将显示面板上的集成电路去除,采用本发明的技术方案,能够快速高效地去除显示面板上的集成电路,并能够有效防止去除集成电路过程中对显示面板造成的损伤。
以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明所述原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种去除集成电路的装置,用于去除显示面板上的集成电路,其特征在于,所述装置包括:
用于与所述显示面板相接触并对所述显示面板进行加热的加热单元;
用于夹取加热后的所述显示面板上的集成电路的可伸缩夹取组件;
所述装置还包括:
操作腔室,所述加热单元和可伸缩夹取组件位于所述操作腔室内,所述操作腔室为真空腔室;
所述装置还包括:
位于所述操作腔室一侧、与所述操作腔室紧邻的第一过渡腔室;
用于对所述第一过渡腔室抽真空的第一抽真空单元;
位于所述操作腔室另一侧、与所述操作腔室紧邻的第二过渡腔室;
用于对所述第二过渡腔室抽真空的第二抽真空单元。
2.根据权利要求1所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述装置还包括:
用于承载并固定所述显示面板的承载单元。
3.根据权利要求1所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述装置还包括:
用于放置去除后的集成电路的集成电路回收单元。
4.根据权利要求1所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述加热单元包括:
加热片;
用于控制所述加热片温度的温度控制器。
5.根据权利要求4所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述加热片的材料为不锈钢、硅或陶瓷。
6.根据权利要求1所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述可伸缩夹取组件包括:
相对设置的两个夹杆;
用于控制所述两个夹杆之间距离的距离控制器。
7.根据权利要求2所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述承载单元包括:
用于承托所述显示面板的放置平台;
位于所述放置平台上、用于固定所述显示面板的固定件。
8.根据权利要求1所述的去除集成电路的装置,其特征在于,所述装置还包括:
用于将所述显示面板在所述第一过渡腔室、操作腔室和第二过渡腔室之间传送的传送带;
用于拿取显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上的机械手。
9.一种去除集成电路的方法,应用于如权利要求1-8中任一项所述的装置,其特征在于,所述方法包括:
利用所述加热单元对所述显示面板进行加热;
利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
10.根据权利要求9所述的去除集成电路的方法,其特征在于,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路包括:
利用所述承载单元固定所述显示面板,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路。
11.根据权利要求9所述的去除集成电路的方法,其特征在于,所述利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路之后还包括:
将去除后的集成电路放置在所述集成电路回收单元中。
12.根据权利要求9所述的去除集成电路的方法,其特征在于,所述方法具体包括:
利用机械手拿取所述显示面板并将所述显示面板放置在所述传送带上,利用所述传送带将所述显示面板传送至所述第一过渡腔室;
利用所述第一抽真空单元对所述第一过渡腔室抽真空,待所述第一过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,将所述显示面板从所述第一过渡腔室传送至所述操作腔室;
利用所述机械手将所述显示面板放置在所述承载单元上,利用所述加热单元对所述显示面板进行加热,并利用所述可伸缩夹取组件夹取加热后的所述显示面板上的集成电路;
利用所述第二抽真空单元对所述第二过渡腔室抽真空,待所述第二过渡腔室的真空度与所述操作腔室一致时,利用机械手将所述显示面板从承载单元放置到所述传送带上,并利用所述传送带将所述显示面板从所述操作腔室传送至所述第二过渡腔室;
将所述显示面板传送出所述第二过渡腔室。
CN201510001238.0A 2015-01-04 2015-01-04 去除集成电路的方法及装置 Expired - Fee Related CN104536170B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510001238.0A CN104536170B (zh) 2015-01-04 2015-01-04 去除集成电路的方法及装置
US14/742,820 US9987836B2 (en) 2015-01-04 2015-06-18 Method and device for removing integrated circuits

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201510001238.0A CN104536170B (zh) 2015-01-04 2015-01-04 去除集成电路的方法及装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104536170A CN104536170A (zh) 2015-04-22
CN104536170B true CN104536170B (zh) 2017-03-08

Family

ID=52851723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510001238.0A Expired - Fee Related CN104536170B (zh) 2015-01-04 2015-01-04 去除集成电路的方法及装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US9987836B2 (zh)
CN (1) CN104536170B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112506251B (zh) * 2020-12-24 2021-10-22 苏州爱本科技有限公司 一种预先静置冷却的智能温控箱装置
CN112981106A (zh) * 2021-02-05 2021-06-18 高凤芹 一种集成电路贵金属回收系统及方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5256562A (en) * 1990-12-31 1993-10-26 Kopin Corporation Method for manufacturing a semiconductor device using a circuit transfer film
JPH06112272A (ja) * 1992-09-30 1994-04-22 Fujitsu Ltd Icチップの実装方法
US5753133A (en) * 1994-07-11 1998-05-19 Applied Komatsu Technology, Inc. Method and apparatus for etching film layers on large substrates
US6027958A (en) * 1996-07-11 2000-02-22 Kopin Corporation Transferred flexible integrated circuit
KR100543024B1 (ko) * 1998-01-21 2006-05-25 삼성전자주식회사 액정표시장치의 편광판 제거장치
US6318384B1 (en) * 1999-09-24 2001-11-20 Applied Materials, Inc. Self cleaning method of forming deep trenches in silicon substrates
US6977014B1 (en) * 2000-06-02 2005-12-20 Novellus Systems, Inc. Architecture for high throughput semiconductor processing applications
US6860965B1 (en) * 2000-06-23 2005-03-01 Novellus Systems, Inc. High throughput architecture for semiconductor processing
GB0327093D0 (en) * 2003-11-21 2003-12-24 Koninkl Philips Electronics Nv Active matrix displays and other electronic devices having plastic substrates
CN2890984Y (zh) * 2006-05-12 2007-04-18 通成科电子技术咨询(上海)有限公司无锡分公司 Ic剥离工具的工作台结构
CN101144924A (zh) * 2006-09-15 2008-03-19 上海晨兴电子科技有限公司 液晶显示模块的拆卸装置及其拆卸方法
TWI419091B (zh) * 2009-02-10 2013-12-11 Ind Tech Res Inst 可轉移的可撓式電子裝置結構及可撓式電子裝置的製造方法
CN104216154B (zh) * 2013-05-31 2017-12-08 北京京东方光电科技有限公司 一种去除ic的装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20160198599A1 (en) 2016-07-07
CN104536170A (zh) 2015-04-22
US9987836B2 (en) 2018-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104536170B (zh) 去除集成电路的方法及装置
CN104889931B (zh) 一种电子设备拆卸装置及拆卸方法
JP5156847B2 (ja) 気泡除去用加圧装置および方法
CN107765454B (zh) 压接装置
TWI339689B (en) Method, clamp and device for conveying an item to be treated in an electrolysis system
CN206323666U (zh) 一种电子产品用点胶贴片装置
KR20120059682A (ko) Pcb기판의 유가금속 및 부품 회수장치와 이를 이용한 회수방법
CN101609856B (zh) 太阳能硅电池片丝网印刷装置及印刷方法
CN105140167A (zh) 承载装置、湿法刻蚀设备及其使用方法
CN103769713A (zh) 预热模组、使用该预热模组的预热区及预热段
CN106986167A (zh) 电芯卸料装置
CN105271680A (zh) 脆性材料基板的裂断装置
KR101267243B1 (ko) 피씨비 본딩 장치 및 피씨비 본딩 방법
CN202162472U (zh) 一种分离电路板电子元器件的设备
CN203733762U (zh) 一种热压装置
CN203890287U (zh) 胶带及液晶显示模组
CN204173574U (zh) 一种lcd邦定设备间自动搬运定位装置
CN203919973U (zh) 柔性线路板的导电胶网印治具
CN207467700U (zh) 一种基板传送装置以及包括该装置的裂片系统
CN204887718U (zh) 一种用于柔性线路板的电磁膜贴合装置
US9578795B2 (en) System and method for extracting components
JP2009036894A (ja) 表示パネルのフレキシブル基板剥離装置
CN205416699U (zh) Smt自动上板机
CN203127724U (zh) 自动搬运生产线的缓冲装置
CN105572437B (zh) 电子组件测试装置及其应用的测试设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170308