CN104460116A - 一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置 - Google Patents

一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置，包括：相对设置的对向基板和阵列基板，以及液晶层，在对向基板和阵列基板相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜，液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元，在每个像素单元沿着取向膜的摩擦方向分为两个像素区域，至少任一像素区域对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，这样可以保证分别从左右视角观察时，液晶层中的液晶分子在两个像素区域的相位延迟是一致的，因此分别从左右视角观察到的色彩相同，从而提高液晶显示器的画面品质。

Description

一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置。
背景技术
目前，液晶显示器已被广泛地应用于各种领域，液晶显示是利用液晶分子的物理性质，在通电时控制液晶分子翻转，使光能透过液晶分子，从而达到显示的目的。其中，高级超维场转换技术(ADvanced Super Dimension Switch，简称ADS)模式和平面转换技术(In-Plane Switching，简称IPS)模式，都是在通电时，使液晶分子在水平方向上产生偏转，并且沿一定的方向排列，来实现图像显示的模式，具有可视角度高，响应速度快，色彩还原准确等优势。
现有的液晶显示面板，如图1所示，具体的结构包括：相对设置的对向基板01与阵列基板02，以及填充在对向基板01和阵列基板02之间的液晶层03，其中阵列基板02包括衬底基板021，以及依次设置在衬底基板021上的栅极022、栅绝缘层023、源漏极024和钝化层025，阵列基板02还会包括诸如有源层、像素电极层和公共电极层等其他膜层结构，在图1中未示出，液晶层03是由介电常数为负且各向异性的液晶分子构成；在上述对向基板01和阵列基板02相对的表面分别涂布了一层具有相反摩擦方向的取向膜04(图1中箭头示出了摩擦方向)，取向膜04能使液晶分子在初始情况下沿一定的预倾角γ的方向整齐地排列，起到使液晶显示器得到均匀的亮度和高的对比度的作用。
由于在对向基板01和阵列基板02相对的表面分别涂布了一层具有相反摩擦方向的取向膜04，使液晶层03中的液晶分子沿一定的预倾角γ的方向排列，即液晶层03中的液晶分子的长轴与对向基板01和阵列基板02所在水平面的夹角方向沿同一个方向排列，此时液晶分子只有一种倾斜状态，从左侧观察时和从右侧观察时，液晶层03中的液晶分子的相位延迟是不同的，导致观察到的色彩稍有不同，即从左右视角分别观察到液晶显示面板呈现出蓝色和黄色，因此，上述现有的液晶显示面板会出现分别从左右视角观察到的色彩不同的现象，而影响液晶显示器的画面品质。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例提供一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置，可以保证分别从左右视角观察到的色彩相同，从而提高液晶显示器的画面品质。
因此，本发明实施例提供了一种液晶显示面板，包括：相对设置的对向基板和阵列基板，以及填充在所述对向基板和阵列基板之间的液晶层，在所述对向基板和所述阵列基板相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜，所述液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元：
在每个所述像素单元沿着所述取向膜的摩擦方向分为两个像素区域；
在每个所述像素单元中，至少任一所述像素区域对应的所述对向基板或所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个所述像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与所述对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，在每个所述像素单元中的两个所述像素区域大小相等。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板或阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板或阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的4倍。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板和阵列基板面向所述液晶层一侧的表面均为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的2倍。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，另一像素区域相对于一个所述像素区域的对应的所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的2倍。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，所述倾斜面的倾斜角为4度至20度。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，所述倾斜面的倾斜角为2度至10度。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，所述阵列基板包括至少一膜层，所述膜层具有使一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构；或，。
所述对向基板包括至少一膜层，所述膜层具有使一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，具有凸起结构的所述膜层为绝缘层、半导体层或导电层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，所述绝缘层材料包括氮化硅、氧化硅或有机树脂。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，在每个像素单元中，倾斜面高点处于两个像素区域分界的基板中，不具有倾斜面的像素区域的膜层具有与所述高点膜层相同的厚度，使所述膜层具有连续的图形。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示面板。
本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述液晶显示面板的制作方法，包括：
在阵列基板或对向基板上形成一膜层；
对所述阵列基板或对向基板的膜层进行缓慢刻蚀，形成具有连续凹凸结构的膜层图形；
对具有连续凹凸结构图形的膜层中除将要形成倾斜面之外的其他区域进行快速刻蚀，去除掉除将要形成倾斜面之外的其他区域，以形成具有倾斜面的膜层。
在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板的制作方法中，还包括，所述具有倾斜面的膜层上形成取向膜的图形。
本发明实施例的有益效果包括：
本发明实施例提供的一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置，包括：相对设置的对向基板和阵列基板，以及填充在对向基板和阵列基板之间的液晶层，在对向基板和阵列基板相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜，液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元，在每个像素单元沿着取向膜的摩擦方向分为两个像素区域，在每个像素单元中，至少任一像素区域对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，这样可以保证分别从左右视角观察时，液晶层中的液晶分子在两个像素区域的相位延迟是一致的，因此分别从左右视角观察到的色彩相同，从而提高液晶显示器的画面品质。
附图说明
图1为现有的液晶显示面板的结构示意图；
图2a至图2d分别为本发明实施例提供的液晶显示面板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的液晶显示面板的制作方法的流程图；
图4为本发明实施例提供的液晶显示面板中阵列基板的制作方法的流程图；
图5a至图5e分别为本发明实施例提供的液晶显示面板中阵列基板的制作方法在各步骤执行后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的液晶显示面板、其制作方法及显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
其中，附图中各膜层的厚度和区域的形状不反映液晶显示面板的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
本发明实施例提供了一种液晶显示面板，如图2a所示，包括：相对设置的对向基板10和阵列基板20，以及填充在对向基板10和阵列基板20之间的液晶层30，在对向基板10和阵列基板20相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜40(图2a中箭头示出了摩擦方向)，该液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元：
在每个像素单元沿着取向膜40的摩擦方向分为两个像素区域A和B，如图2a所示；
在每个像素单元中，至少任一像素区域对应的对向基板10或阵列基板20面向液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个像素区域A和B分别对应的液晶层30中的液晶分子的长轴与对向基板10和阵列基板20所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零。
由于在现有的液晶显示面板中，当液晶层中的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角方向都沿同一个方向排列时，即液晶分子只有一种倾斜状态时，从左侧观察时和从右侧观察时，液晶层中的液晶分子的相位延迟不同，导致观察到的颜色稍有不同，即从左右视角分别观察到液晶显示面板呈现出蓝色和黄色，为了避免分别从左右视角观察到的色彩不同的问题，本发明实施例提供的液晶显示面板在每个像素单元沿着取向膜的摩擦方向分为两个像素区域，在每个像素单元中，至少任一像素区域对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，具体地，可以包括：一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面；或，一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板和阵列基板面向液晶层一侧的表面均为倾斜面；或，一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，另一像素区域相对于一个像素区域的对应的阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面。由于具有上述倾斜面，液晶层中的液晶分子分别在两个像素区域具有不同的倾斜状态，使两个像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，这样可以保证分别从左右视角观察时，液晶层中的液晶分子在两个像素区域的相位延迟是一致的，因此分别从左右视角观察到的色彩是相同的，从而可以进一步改善视角特性，提高液晶显示器的画面品质。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，为了进一步能够保证分别从左右视角观察时，两个像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子在两个像素区域A和B中总的相位延迟是完全一致的，如图2a所示，在每个像素单元中的两个像素区域A和B的大小一般设置为相等，这样就不会出现有分别从左右视角观察时，一部分的液晶层中的液晶分子的相位延迟不一致，出现色彩不相同的现象。
具体地，在一种实施方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，为了使液晶层中的液晶分子在两个像素区域中具有各自不同的倾斜状态，在每个像素单元中，一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面可以设置为倾斜面，且倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧，如图2a所示，像素区域B相对于像素区域A的对应的阵列基板20面向液晶层30一侧的表面设置为倾斜面，且倾斜面的高点为取向膜40的摩擦开始的一侧。
并且，为了保证两个像素区域分别对应的液晶分子的长轴与对向基板或阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，如图2a所示，当像素区域B相对于像素区域A的对应的阵列基板20面向液晶层30一侧的表面设置为倾斜面时，液晶层30中的液晶分子的预倾角γ为倾斜面对应的液晶分子长轴与该倾斜面的夹角，该倾斜面相对于阵列基板20所在水平面的倾斜角θ一般设置为对应的液晶层30中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角的4倍，即该倾斜面相对于对向基板10或阵列基板20所在水平面的倾斜角θ＝4γ。当该倾斜面相对于阵列基板20所在水平面的倾斜角θ为4γ时，则倾斜面表面附近对应的液晶分子的长轴相对于阵列基板20所在水平面的夹角为3γ，而在像素区域B中的对向基板表面附近对应的液晶分子长轴相对于对向基板10所在水平面的夹角为-γ，像素区域B对应的液晶分子的长轴相对于水平面平均下来的夹角为(-γ+3γ)/2＝γ,可以与像素区域A对应的液晶分子的长轴相对于阵列基板20所在水平面的夹角-γ相抵消，则像素区域A对应的液晶分子的预倾角平均值与像素区域B中的液晶分子的预倾角平均值具有相同的角度绝对值，即两个像素区域A和B分别对应的液晶分子的长轴与对向基板或阵列基板所在水平面的夹角平均值具有相同的角度绝对值，并且，两个像素区域A和B分别对应的液晶分子的长轴与对向基板或阵列基板所在水平面的夹角平均值之和为零，即相互抵消。因此，该倾斜面相对于对向基板10或阵列基板20所在水平面的倾斜角θ一般设置为对应的液晶层30中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角β的4倍。
或者，在另一种实施方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，为了使液晶层中的液晶分子在两个像素区域中具有各自不同的倾斜状态，在每个像素单元中，一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板和阵列基板面向液晶层一侧的表面均可以设置为倾斜面，且倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧，如图2b和图2c所示，像素区域B相对于像素区域A的对应的对向基板10和阵列基板20面向液晶层30一侧的表面分别设置为倾斜面，且倾斜面的高点为取向膜40的摩擦开始的一侧。
并且，为了保证两个像素区域分别对应的液晶分子的长轴与对向基板或阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，如图2b和图2c所示，当像素区域B相对于像素区域A的对应的对向基板10和阵列基板20面向液晶层30一侧的表面分别设置为倾斜面时，液晶层30中的液晶分子的预倾角γ为倾斜面对应的液晶分子长轴与该倾斜面的夹角，该倾斜面相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的倾斜角α均可以设置为对应的液晶层30中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角的2倍，即该倾斜面相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的倾斜角α＝2γ。当该倾斜面相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的倾斜角α均为2γ时，则倾斜面的表面附近的液晶分子的长轴相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的夹角均为γ，像素区域B对应的液晶分子的长轴相对于水平面平均下来的夹角为(γ+γ)/2＝γ，可以与像素区域A对应的液晶分子的长轴相对于阵列基板20所在水平面的夹角-γ相抵消，则像素区域A对应的液晶分子的预倾角平均值与像素区域B中的液晶分子的预倾角平均值具有相同的角度绝对值，即两个像素区域A和B分别对应的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角平均值具有相同的角度绝对值，并且，两个像素区域A和B分别对应的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角平均值之和为零，即相互抵消。因此，对向基板10和阵列基板20的倾斜面的倾斜角之和应为液晶分子的预倾角的4倍，因此，该倾斜面相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的倾斜角θ一般设置为对应的液晶层30中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角β的2倍。
或者，在另一种实施方式中，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，为了使液晶层中的液晶分子在两个像素区域中具有各自不同的倾斜状态，在每个像素单元中，一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板面向液晶层一侧的表面可以设置为倾斜面，另一像素区域相对于一个像素区域的对应的阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，且该倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧，如图2d所示，像素区域A相对于像素区域B的对应的对向基板10面向液晶层30一侧的表面设置为倾斜面，像素区域B相对于像素区域A的对应的阵列基板20面向液晶层30一侧的表面设置为倾斜面，且倾斜面的高点为取向膜40的摩擦开始的一侧。
并且，为了保证两个像素区域分别对应的液晶分子的长轴与对向基板或阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，又由于对向基板10和阵列基板20的倾斜面的倾斜角之和应为液晶分子的预倾角的4倍，因此，如图2d所示，该倾斜面相对于对向基板10和阵列基板20所在水平面的倾斜角β可以设置为对应的液晶层30中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角的2倍。
在上述三种实施方式中，第二种实施方式和第三种实施方式相对于第一种实施方式，可以更好地使液晶层中的液晶分子分别在两个像素区域A和B倾斜，但第二种实施方式和第三种实施方式的制作工艺都较复杂，在具体实施时，具体选用哪种实施方式可以根据实际需要进行设计，在此不做限定。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，由于液晶层中的液晶分子相对取向膜，分别在两个像素区域的预倾角有不同的效果，如图2a所示，需要设置倾斜面的倾斜角为对应的液晶层中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角的4倍，又由于液晶分子的预倾角一般设置为1度至5度，因此，该倾斜面相对于对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角应设置为4度至20度。
或者，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，如图2b至图2d所示，需要设置倾斜面的倾斜角为对应的液晶层中的液晶分子长轴与倾斜面的夹角的2倍，又由于液晶分子的预倾角一般设置为1度至5度，因此，该倾斜面相对于对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角应设置为2度至10度。
一般地，在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，为了使阵列基板具有倾斜面，阵列基板包括至少一膜层，该膜层具有使一个像素区域相对于另一像素区域的对应的阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构，如图2a所示，在阵列基板20上的平坦层具有使像素区域B相对于像素区域A的对应的阵列基板20面向液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构28，同样地，也可以在其他膜层具有倾斜面的凸起结构，在此不做赘述；或，
为了使对向基板具有倾斜面，对向基板包括至少一膜层，该膜层具有使一个像素区域相对于另一像素区域的对应的对向基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构，如图2c所示，在对向基板10上的平坦层具有使像素区域B相对于像素区域A的对应的对向基板10面向液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构29，同样地，也可以在其他膜层具有倾斜面的凸起结构，在此不做赘述。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，具有凸起结构的膜层为绝缘层、半导体层或导电层，即凸起结构的材料跟膜层的材料有关，可以为绝缘层材料，半导体层材料，或者导电层材料。其中，典型的半导体层材料包括a-Si或IGZO等，导电层材料包括金属铝、金属铜、ITO或IZO等，绝缘层材料包括氮化硅、氧化硅或有机树脂等。
在具体实施时，在本发明实施例提供的上述液晶显示面板中，如图2c所示，在每个像素单元中，倾斜面高点O处于两个像素区域分界的基板中，不具有倾斜面的像素区域的膜层具有与高点O膜层相同的厚度，使膜层具有连续的图形，这种连续的具有倾斜面的膜层可以减少每个像素单元最中间部分的漏光。
在具体实施时，本发明实施例提供的液晶显示面板的阵列基板上一般还会具有诸如有源层、像素电极层、绝缘层和公共电极层等其他膜层结构，以及还一般形成有薄膜晶体管、栅线、数据线等结构，这些具体结构可以有多种实现方式，在此不做限定。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的上述液晶显示面板的制作方法，由于该方法解决问题的原理与前述一种液晶显示面板相似，因此该方法的实施可以参见液晶显示面板的实施，重复之处不再赘述。
在具体实施时，本发明实施例提供的液晶显示面板的制作方法，如图3所示，具体包括以下步骤：
S301、在阵列基板或对向基板上形成一膜层；
S302、对阵列基板或对向基板的膜层进行缓慢刻蚀，形成具有连续凹凸结构的膜层图形；
S303、对具有连续凹凸结构图形的膜层中除将要形成倾斜面之外的其他区域进行快速刻蚀，去除掉除将要形成倾斜面之外的其他区域，以形成具有倾斜面的膜层。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述液晶显示面板的制作方法中，在执行步骤S303之后，还包括，在具有倾斜面的膜层上形成取向膜的图形。
下面以一个具体的实例详细的说明本发明实施例提供的液晶显示面板中阵列基板的制作方法，如图4所示，具体包括以下步骤：
S401、在衬底基板上依次形成包括栅极、栅绝缘层、源漏极和钝化层的图形；
在具体实施时，制作阵列基板20的过程中，如图5a所示，首先在衬底基板21上依次形成包括栅极22、栅绝缘层23的图形，然后在形成栅绝缘层23的衬底基板上形成与栅极22绝缘的相对而置的源漏极24，之后在源漏极24上形成钝化层25的图形；
S402、在形成有钝化层的衬底基板上形成平坦层的图形；
在具体实施时，为了在阵列基板上的平坦层具有使一个像素区域相对于另一像素区域的对应的阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构，如图5b所示，需要在形成有钝化层25的衬底基板上沉积一层负性光刻胶，通过刻蚀工艺形成平坦层26的图形；
S403、对平坦层进行缓慢刻蚀，形成具有连续凹凸结构的平坦层的图形；
在具体实施时，由于缓慢地进行平坦层的刻蚀，会导致横向刻蚀宽度大于负性光刻胶去除部分，如图5c所示，在每个像素单元中，对阵列基板20的平坦层26进行缓慢刻蚀，形成具有连续凹凸结构27的平坦层的图形。
S404、对具有连续凹凸结构图形的平坦层中除将要形成凸起结构之外的其他区域进行快速刻蚀，去除掉除将要形成凸起结构之外的其他区域，以形成具有凸起结构的平坦层；
在具体实施时，为了使对应的负性光刻胶的刻蚀面积小，需要对具有连续凹凸结构图形的平坦层中除将要形成凸起结构之外的其他区域进行快速刻蚀，如图5d所示，在每个像素单元中，对具有连续凹凸结构27的平坦层中除将要形成凸起结构之外的其他区域进行快速刻蚀，去除掉除将要形成凸起结构之外的其他区域，以形成具有凸起结构28的平坦层的图形；
S405、在形成具有凸起结构的平坦层上形成取向膜的图形；
在具体实施时，为了使液晶层中的液晶分子具有相反摩擦方向，如图5e所示，需要在形成具有凸起结构28的平坦层上形成取向膜40的图形；在制作阵列基板的过程中一般还会制作诸如有源层、像素电极层、绝缘层和公共电极层等其他膜层结构，以及薄膜晶体管、栅线、数据线等结构，在此不做赘述。
至此，经过实例提供的上述步骤S401至S405制作出了本发明实施例提供的上述液晶显示面板中的阵列基板。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本发明的限制。该显示装置的实施可以参见上述液晶显示面板的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供的一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置，包括：相对设置的对向基板和阵列基板，以及填充在对向基板和阵列基板之间的液晶层，在对向基板和阵列基板相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜，液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元，在每个像素单元沿着取向膜的摩擦方向分为两个像素区域，在每个像素单元中，至少任一像素区域对应的对向基板或阵列基板面向液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零，这样可以保证分别从左右视角观察时，液晶层中的液晶分子在两个像素区域的相位延迟是一致的，因此分别从左右视角观察到的色彩相同，从而提高液晶显示器的画面品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (14)

1.一种液晶显示面板，包括：相对设置的对向基板和阵列基板，以及填充在所述对向基板和阵列基板之间的液晶层，在所述对向基板和所述阵列基板相对的表面分别设置有具有相反摩擦方向的取向膜，所述液晶显示面板具有多个呈阵列排布的像素单元，其特征在于：
在每个所述像素单元沿着所述取向膜的摩擦方向分为两个像素区域；
在每个所述像素单元中，至少任一所述像素区域对应的所述对向基板或所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，使两个所述像素区域分别对应的液晶层中的液晶分子的长轴与所述对向基板和阵列基板所在水平面的夹角的均值具有相同的绝对值，且和为零。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，在每个所述像素单元中的两个所述像素区域大小相等。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板或阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板或阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的4倍。
4.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，所述倾斜面的倾斜角为4度至20度。
5.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板和阵列基板面向所述液晶层一侧的表面均为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的2倍。
6.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，在每个所述像素单元中，一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，另一像素区域相对于一个所述像素区域的对应的所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面，且所述倾斜面的高点为取向膜的摩擦开始的一侧；
所述倾斜面相对于所述对向基板和阵列基板所在水平面的倾斜角为对应的所述液晶层中的液晶分子长轴与所述倾斜面的夹角的2倍。
7.如权利要求5或6所述的液晶显示面板，其特征在于，所述倾斜面的倾斜角为2度至10度。
8.如权利要求3-6任一项所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括至少一膜层，所述膜层具有使一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述阵列基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构；或，
所述对向基板包括至少一膜层，所述膜层具有使一个所述像素区域相对于另一像素区域的对应的所述对向基板面向所述液晶层一侧的表面为倾斜面的凸起结构。
9.如权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于，具有凸起结构的所述膜层为绝缘层、半导体层或导电层。
10.如权利要求9所述的液晶显示面板，其特征在于，所述绝缘层材料包括氮化硅、氧化硅或有机树脂。
11.如权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于，在每个像素单元中，倾斜面高点处于两个像素区域分界的基板中，不具有倾斜面的像素区域的膜层具有与所述高点膜层相同的厚度，使所述膜层具有连续的图形。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11任一项所述的液晶显示面板。
13.一种如权利要求1-11任一项所述液晶显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
在阵列基板或对向基板上形成一膜层；
对所述阵列基板或对向基板的膜层进行缓慢刻蚀，形成具有连续凹凸结构的膜层图形；
对具有连续凹凸结构图形的膜层中除将要形成倾斜面之外的其他区域进行快速刻蚀，去除掉除将要形成倾斜面之外的其他区域，以形成具有倾斜面的膜层。
14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，还包括，在所述具有倾斜面的膜层上形成取向膜的图形。
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