CN104246666A - 包含导电图案的导电基板以及包含该基板的触控面板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种包含具有改进的隐蔽性能的导电图案的导电基板，以及包含该导电基板的触控面板，且根据本发明的导电基板包括：透明基板；以及导电图案，该导电图案包括设置在该透明基板上的导电线，其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下。根据本发明的导电基板可以更有效地隐蔽在导电图案中包含的金属线。

Description

包含导电图案的导电基板以及包含该基板的触控面板
本发明要求于2011年9月27日向韩国知识产权局提交的编号10-2011-0097756的韩国专利申请的优先权，并在此将其公开的全部内容通过引用方式并入本申请。
技术领域
本发明涉及一种包含导电图案的导电基板，以及包含该基板的触控面板。
背景技术
一般而言，显示设备是用于电视或计算机的监视器的统称，且其包括形成图像的显示装置和支撑该显示装置的壳体。
显示设备的例子可包括等离子体显示面板（PDP）、液晶显示器（LCD）、电泳显示器、以及阴极射线管（CRT）。可在显示设备中设置用于显示图像的RGB像素图案和附加的滤光片。
该滤光片可包括以下至少一种：防反射膜，其防止由外部入射的光线反射至外部；近红外（near IR）屏蔽膜，其屏蔽由显示装置中产生的近红外光，从而防止如遥控器的电子器件误操作；色彩校正膜（color correction film），其由所包含的彩色控制染料以调控色调从而增加色彩的纯度；以及，电磁波屏蔽膜（electromagnetic wave shield film），其屏蔽在驱动显示设备时显示装置中所产生的电磁波。在此，该电磁波屏蔽膜包含透明基板，以及设置在该基板上的金属网格图案。
同时，关于显示设备，随着IPTV的加速推广，使用手作为直接输入设备而无单独的输入装置（如遥控器）的触控功能的需求正逐渐增加。此外，需要用于识别特定点以及纪录的多点触控功能。
根据信号的检测方式，进行上述功能的触控面板可分为下列类型。
即，其例子包括电阻式，其在改变电流或电压的同时，在施加直流电压的状态下检测由压力按压的位置；电容式，其在施加交流电压的状态下使用电容耦合；电磁式，其在施加磁场作为电压变化的状态下检测选择的位置，等等。
其中，最广泛推广的电阻式和电容式触控面板通过使用如IT0膜的透明导电膜，经由电接触或电容变化来识别触摸。然而，由于透明导电薄膜具有100欧姆/平方以上的高电阻，当显示设备制造为大尺寸时灵敏度会降低，且随着屏幕的尺寸增加，IT0膜的成本迅速增加，因此，不容易将其商业化。为了克服这一点，人们通过使用具高导电性的金属图案以努力实现扩大。
同时，在大多数已知的透明导电图案的情况下，通常，间距是基于形成导电图案的线的线宽通过计算透光度而确定，且已通过向图案中引入以此方法确定的间距而在如PDP的大尺寸显示器中采用该图案。然而，基于线的线宽确定间距的问题在于，即在近距离的显示以及通过使用者直接接触使用的电子设备的情况下，不方便使用该方法，因为存在该线可被肉眼所见，或者像素的干扰受阻而扭曲显示的问题。
发明内容
[技术问题]
因此，本发明致力于提供一种导电基板以及其制造方法，该导电基板包括具有改善的隐蔽性的导电图案，该导电图案不易被使用者肉眼可见。
[技术方案]
本发明的示例性实施方式提供了一种导电基板，其包括：透明基板；以及导电图案，该导电图案包括设置在该透明基板上的导电线，其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下。
本发明的另一个示例性实施方式提供了一种导电基板，其包括：透明基板；以及导电图案，该导电图案包括设置在该透明基板上的导电线，其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且该导电图案进一步包括设置在电性隔离的间隔区域内的导电线；所述设置在电性隔离的间隔区域内的导电线具有该间隔区域的长度和导电线的线宽的乘积的80%至120%的面积；且设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离为15μm以下。
本发明的另一个示例性实施方式提供了一种制造导电基板的方法，其包括：形成设置在透明基板上的导电图案，从而该导电图案包括断线部，该断线部在构成该导电图案的至少一导电线的纵向方向以80至110°角度进行断线。
本发明的又一个示例性实施方式提供了一种触控面板，其包括：所述导电基板。
[有益效果]
本发明涉及一种导电基板，其包括具有改善的隐蔽性的导电图案；以及包含该导电图案的触控面板，并且根据本发明的导电基板的特征在于，通过使在与导电图案电性断开的导电线的端部和其相邻的导电图案的端部之间的最短距离形成为15μm以下，从而更有效地隐蔽包含在该导电图案中的金属线。
附图说明
图1是显示出根据导电图案的线宽和间距的开口率的图，以及基于与导电图案的线宽和间距的变化相关的开口率，不能识别图案的可见度的区域。
图2是显示出已知的导电图案的断线方法的图。
图3是显示出根据本发明的示例性实施方式的导电图案的断线方法的图。
图4是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有50%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，可见度的确认的结果的图。
图5是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有20%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，可见度的确认的结果的图。
图6是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有50%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，断线的识别的区域的图。
图7是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有20%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，断线的识别的区域的图。
图8是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有50%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，斜率的变化的图。
图9是显示出根据已知的方法和本发明的方法中，根据包括具有10%反射率的金属网格的导电图案的断线线宽，斜率的变化的图。
图10是显示出图8和图9的图形的微分函数的图。
图11是显示出根据本发明的示例性实施方式的透明导电膜的图。
图12是显示出通过使用根据本发明的示例性实施方式的透明导电膜制造的触控屏幕的图。
具体实施方式
以下将详细描述本发明。
在本发明中，通过首先制造具有各种线宽以及间距的图案并在20cm的距离下确认图案来判断根据线宽以及间距的图案的可视度，从而克服已知的问题。结果证实，当线宽为5μm以下且间距为300μm以下时，观察者通常识别该线为平面而不是线，其评估结果如以下图1所示。
图1的左图显示出开口率根据通过计算的数值的线宽和间距的曲线图，图1的右图显示出基于线宽和间距的改变的开口率，图案的可视度无法被辨识的区域，且在开口率为95%的情况下，黄绿色区域对应于图案的可视度无法被辨识的区域。对此结果的解释中，在基于4μm的89%的开口率为目标的情况下，适合的间距对应于50至300μm的区域，且当95%的开口率为目标的情况下，150至300μm的区域对应于适合的区域。此外，在95%的开口率为目标的情况下，适合的最大线宽和间距可被理解为应用了具有6μm线宽和250μm间距的区域。
在此图案（特别是网格）上的线被破坏，而进行电中断的情况下，断线的辨识特性很大程度上取决于断线的线宽性质，以及放置该断线的网格的线宽和间距的性质。
在本发明中，在产品通过实际的网格制造的情况下，普遍适用的规则是通过揭示断线的断线方法，以及构成放置断线的网格的金属的反射率和线宽的关系而构成。
图2显示出已知的导电图案的常规断线方法，且图3显示出根据本发明的示例性实施方式的导电图案的断线方法的图。也就是说，在本发明中，通过相对地评估图2和图3的导电图案的断线方法并同时在改变组成网格的金属线的反射率时进行评估从而证实了上述的内容。
为了确认的断线方法的关系，以及如上所述的网格的线宽与间距，通过使用已知常规的导电图案的断线方法（A型）和根据本发明的示例性实施方式（图4到图7）的断线方法（B型），当在具有50%和20%的反射率的金属线的不同线宽和间距的网格中的断线的线宽从2μm改变为15μm时，观察到在导电图案中识别出金属线的区域。更具体而言，在识别金属线的观察方法中，通过共100人在20cm的距离下进行评估，再取其平均值。
作为结果可以确认的是，在对于断线的相同线宽的B型的情况下其隐蔽性能更好，且在基于此设计图案时判断适用的区域的情况下，可以确认在B型的情况下，可确保更宽的适用区域（优选蓝色与红色的色区较少侵入上述的适用区域）。
通过使用具有20%反射率的金属表面进行相同的此评估，作为结果，类似地，确认了在B型的情况下可确保更高的隐蔽性能，但与使用具前述有50%反射率的金属相比，可确认：由人辨识的断线线宽的范围更大幅减小。
基于此结果，在图6和图7中显示出了通过应用A型和B型的断线方法，在具有不同线宽和间距的网格上使断线的线宽由2μm改变至15μm时，由观察识别出断线的区域得到的结果。通过这一点，可以确认在使用具有低反射率的金属线的情况下，所述金属线的隐蔽性能相对较好。
为了确认断线的线宽以及网格的线宽的可视度的倾向，除了在上述结果中对间距的关系（在间距的情况下，考虑到识别性能，如果基本上排除2μm的线，则建议300μm以下的可用的区域），在每种情况中观察了对断线的宽度的斜率的变化，且其结果如图8和图9所示。
在图8和图9中可以确认，斜率对宽度的变化显示出三次函数的倾向，且在此情况下，可被人辨识的部分在每种情况下都有大幅度的改变，其斜率经过得到的三次函数的微分而大幅度的改变。在此情况下，微分函数的曲线图与图10相同。
如图10所得的结果证实，根据断线的形状和金属的反射率，基于线宽为4μm和10μm确定最显著影响断线的线宽的区域，而中间区域并无太大的偏差。若以此分析，可确认的是对于用户，在断线的区域由2μm增宽至4μm时，首先辨识其可视度，然后保持同样程度的可视度，而被断线线宽以及反射率迅速影响的区域是由10μm的点开始。也就是说，综合以上，可确认的是不被金属的反射率和其它因素大幅度地影响的断线的线宽可被限定为10μm，而在具有大于上述值的宽度的断线的情况下，其辨识性能会根据断线的类型和金属的反射率而有大幅度的改变。在此基础上可确认的是，在具有20%的反射率的金属，以及A型的情况下，基于微分值1的可能的断线线宽优选大约为15μm以下。综上所述，优选使用具有20%以下的金属反射率的材料，其中可能的断线线宽大约为15μm以下。
根据本发明的导电基板的示例性实施方式包括：透明基板；以及导电图案，该导电图案包括设置在该透明基板上的导电线，其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下。
该彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下，大于0μm且在10μm以下，以及在1μm以上且5μm以下。
在本说明书中，该彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是指彼此间隔的两根以上的导电线的彼此最接近的相邻端部之间的距离，且其具体的例子如下图3中所示。
根据本发明的导电基板可包括断线部，该断线部在构成该导电图案的至少一导电线的纵向方向以80至110°的角度进行断线。可以仅在部分导电图案上设置断线部分。
在根据本发明的导电基板中，所述导电图案可包括导电金属线形成的图案。在此，所述导电金属线形成的图案可包括由直线、曲线或直线和曲线形成的封闭曲线。
在根据本发明的导电基板中，所述导电图案可包括规则图案或不规则图案。
该导电图案形式可以是规则图案或者不规则图案。
可以使用本领域中的图案形状，如网格图案作为规则图案。所述网格图案可包括规则多边形图案，包括三角形、四边形、五边形、六边形和八边形的一种或多种形状。
本发明的示例性实施方式中，所述导电图案是规则图案，且包括通过交叉在构成导电图案的线之中的多个预定的线而形成的交叉点，且在此情况下，交叉点的数量为每3.5cm×3.5cm的面积内3000至122500、13611至30625、以及19600至30625。此外，根据本发明的示例性实施方式，当在显示器中设置该图案时，确认了在交叉点的数量为4000至123000的情况下，该显示器的光学性质不会大幅度地受损。
此外，在本发明的示例性实施方式中，所述导电图案是不规则图案，且包括通过交叉在构成导电图案的线之中的多个预定的线而形成的交叉点，且在此情况下，交叉点的数量为每3.5cm×3.5cm的面积内6000至245000、3000至122500、13611至30625、以及19600至30625。此外，根据本发明的示例性实施方式，当在显示器中设置该图案时，确认了在交叉点的数量为4000至123000的情况下，该显示器的光学性质不会大幅度地受损。
该导电图案的间距可为600μm以下和250μm以下，但也可根据本领域技术人员所需的透光度以及导电率而调整该间距。
在本发明中使用的导电图案优选是具有1×106至30×106ohm·cm的电阻率的材料，且更优选为7×106ohm·cm以下。
在本发明中，所述导电图案可以是不规则图案。
所述不规则图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在预定的不规则单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同的形状的闭合图形，且该闭合图形的顶点的数目可以和与该闭合图形具有相同数目的四角形的顶点数目不同。更具体而言，该闭合图形的顶点的数目可能大于与该闭合图形具有相同数目的四角形的顶点数目，或该闭合图形的顶点的数目比与该闭合图形具有相同数目的四角形的顶点数目大1.9至2.1倍，但本发明不限于此。
所述闭合图形是连续地彼此连接，且例如，在该闭合图形为多边形的情况下，所述相邻的闭合图形可以具有共享至少一个侧边的形状。
所述不规则图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在不规则图案中的预定的单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同的形状的闭合图形，且该闭合图形的顶点的数目可以和通过连接在闭合图形的重心之间的最短距离而形成的多边形的顶点数目不同。更具体而言，该闭合图形的顶点的数目可能大于通过连接在闭合图形的重心之间的最短距离而形成的多边形的顶点数目，或该闭合图形的顶点的数目比通过连接在闭合图形的重心之间的最短距离而形成的多边形的顶点数目大1.9至2.1倍，但本发明不限于此。
所述不规则图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在不规则图案中的预定的单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同的形状的闭合图形，且在所述闭合图形中，以下式1的值可以为50以上。
[式1]
（顶点之间距离的标准差/顶点之间距离的平均值）×100
式1的值可在导电图案的单位面积中计算。所述单位面积可以是形成导电图案的面积，且例如，为3.5cm×3.5cm等，但并不限于此。
在本发明中，所述顶点是指构成导电图案的闭合图形的边缘的线彼此交叉处的点。
所述不规则图案可具有这样的形状：通过在规则排列的单元中放置预定的点以后，连接所述的点至与其他点的距离相比其最接近的点而得到的闭合图形的边缘结构的形状。
在此情况下，在向在规则排列的单元中放置预定的点的方式中引入随机性的情况下，可以形成不规则的图案。例如，在随机性设置为0的情况下，如果该单元为方形，则该导电图案具有方形网格结构，且如果该单元为规则六边形，则该导电图案具有蜂巢状结构。也就是说，所述不规则图案意味着随机性不为0的图案。
可抑制构成图案的线的倾斜现象等，可由显示器得到均匀的透光度，可保持单位面积的线密度为相同值，且通过根据本发明的具有不规则图案形状的导电图案可确保均匀的导电率。
在本发明中，所述导电图案的材料并没有特别限定，但优选为金属。优选地，所述导电图案的材料具有优异的导电性且容易被蚀刻。
在本发明中，即使使用了具有70至80%以上的全反射率的材料，也有可能减少全反射，减少导电图案的可视度，并保持或提高对比性能。
优选包括单层膜或多层膜的导电图案的材料的具体例子包括金、银、铝、铜、钕、钼、镍、或其合金。在此，第一导电图案和第二导电图案的厚度并无特别限制，但根据导电图案的导电率和其形成工艺的经济效率，优选为0.01至10μm。
导电图案的形成可采用利用蚀刻抗蚀剂图案的方法。该蚀刻抗蚀剂图案可以通过使用印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法或者激光转移法形成，例如，热转移图像，且更优选为印刷法或光刻法。可通过使用该蚀刻抗蚀剂图案而蚀刻该导电图案，并可移除该蚀刻抗蚀剂图案。
在本发明中，该导电图案的线宽可为10μm以下、7μm以下、5μm以下、4μm以下、2μm以下、或0.1μm以上。更具体地，该导电图案的线宽可为0.1至lμm、l至2μm、2至4μm、4至5μm、5至7μm等，但并不限于此。
此外，该导电图案的线宽可为10μm以下，且其厚度可为10μm以下；该导电图案的线宽可为7μm以下，且其厚度可为1μm以下；或者，该导电图案的线宽可为5μm以下，且其厚度可为0.5μm以下。
更具体地，在本发明中，该导电图案的线宽可为10μm以下，且在该导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积内的封闭图形的顶点数量可为6,000至245,000个。此外，该导电图案的线宽可为7μm以下，且在该导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积内的封闭图形的顶点数量可为7,000至62,000个。此外，该导电图案的线宽可为5μm以下，且在该导电图案中，在3.5cm×3.5cm的面积内的封闭图形的顶点数量可为15,000至62,000个。
该导电图案的开口率，即，未被图案覆盖的区域的比率，可为70%以上、85%以上、以及95%以上。此外，该导电图案的开口率可以为90至99.9%，但不限于此。
在本发明中使用的导电图案优选是具有1×106至30×106ohm·cm的电阻率的材料，且更优选为7×106ohm·cm以下。
在本发明中，在使用以下方法在透明基板上形成上述导电图案的情况中，线宽和线高可以均匀制得。根据本发明的示例性实施例，导电图案的至少一部分可以与其余图案有任意的不同。可以通过上述的结构获得预期的导电图案。例如，在根据其目的需要一部分区域的导电性高于其它区域时，或在触控面板电极的情况中，需要一部分区域的触控识别度更敏感时，可以在初始设计等过程中，设置对应区域和其他区域的导电图案通过间距值的变化而彼此不同。印刷图案的线宽和线间距可以设置为彼此不同，从而导电图案的至少一部分设置为与其余印刷图案不同。作为其例子，在电容型触控屏幕的情况下，作为大因素，可以考虑的是，在其侧面连接到衬垫（pad）的部分是否为高导电性。
根据本发明的示例性实施方式，所述导电基板可以包括其中没有形成导电图案的区域。
此外，根据本发明的导电基板的示例性实施方式包括：透明基板；以及导电图案，该导电图案包括设置在该透明基板上的导电线，其中，该导电图案进一步包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，以及设置在电性隔离的间隔区域内的导电线；所述设置在电性隔离的间隔区域内的导电线具有该间隔区域的长度和导电线的线宽的乘积的80%至120%的面积；且设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离为15μm以下。
该设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离可以为15μm以下，大于0μm且10μm以下，以及1μm以上且5μm以下。
在根据本发明的透明导电基板中，该导电线可具有对应于断线部分区域的面积的80%至120%的面积，并可具有对应于断线部分区域的长度的80%至120%的长度。
在根据本发明的导电基板中，当连接断线部分时形成的断线的图案可包括不规则的图案形状。由于断线的不规则图案的形状的内容与上述的不规则图案的形状相同，省略其具体描述。
在根据本发明的导电基板中，当连接断线部分时形成的断线的图案可进一步包括规则图案形状。在此情况下，优选地该规则图案形状小于断线的整个图案的形状的20%。
在本发明中，优选使用具有优异导电性的金属作为导电图案的材料。此外，导电图案材料的电阻率值优选为1微欧厘米以上和200微欧厘米以下。导电图案材料的具体例子可包括铜、银、金、铁、镍、铝、碳纳米管（CNT）等，并且最优选银。可以使用颗粒形式的导电图案材料。在本发明中，可以使用银包裹的铜颗粒作为导电图案材料。
在本发明中，在使用包含导电图案材料的膏剂情况下，除了上述导电图案材料外，所述膏剂可以进一步包含有机粘合剂，从而容易地进行印刷步骤。优选地，该有机粘合剂在烧结处理中具有挥发性。该有机粘合剂的例子包括：基于聚丙烯酸的树脂（polyacryl-based resin）、基于聚氨酯的树脂（polyurethane-based resin）、基于聚酯的树脂（polyester-based resin）、基于聚烯烃的树脂（polyolefine-based resin）、基于聚碳酸酯的树脂（polycarbonate-based resin）、纤维素树脂（cellulose resin）、基于聚酰亚胺的树脂（polyimide-based resin）、基于聚萘二甲酸乙二酯的树脂（polyethylenenaphthalate-based resin）、变性环氧树脂（denatured epoxy resin）等，但不限于此。
为了改善膏剂对透明基板，如玻璃的附着能力，该膏剂可以进一步包括玻璃粉。所述玻璃粉可以选自商用产品，但优选使用不含铅成分的环保玻璃粉。在此情况下，优选使用的玻璃粉的平均直径为2μm以下且其最大直径为50μm以下。
如果需要，可以向膏剂中进一步加入溶剂。溶剂的例子包括二甘醇丁醚醋酸酯、卡必醇醋酸酯、环己酮、乙酸溶纤剂、萜品醇等，但并不限于此。
在本发明中，在使用包含导电图案材料、有机粘合剂、玻璃粉和溶剂的膏剂的情况下，优选导电图案材料的重量比为50至90%，有机粘合剂的重量比为1至20%，玻璃粉的重量比为0.1至10%，并且溶剂的重量比为1至20%。
根据本发明的示例性实施方式，所述导电图案可以被黑化。如果在高温下烧结含有金属材料的膏剂，会显示出金属光泽，这样由于光的反射等而使可视度降低。上述问题可以通过黑化导电图案来防止。为了黑化导电图案，可以向膏剂中加入黑化材料以形成导电图案或者在膏剂印刷和烧结后进行黑化处理，从而黑化导电图案。
可以加入膏剂的黑化材料的例子包括金属氧化物、炭黑、碳纳米管、黑色颜料、着色玻璃粉等。在此情况下，膏剂的组分可以包括50至90wt%的导电图案材料、1至20wt%的有机粘合剂、1至10wt%的黑化材料、0.1至10wt%的玻璃粉以及1至20wt%的溶剂。
当烧结后进行黑化处理时，膏剂的组成可以包括50至90wt%的导电图案材料、1至20wt%的有机粘合剂、0.1至10wt%的玻璃粉和1至20wt%的溶剂。烧结后的黑化处理包括浸入氧化溶液中，例如包括Fe或Cu离子的溶液；浸入包括卤素离子，例如氯离子的溶液中；浸入过氧化氢和硝酸中；使用卤素气体处理等。
根据本发明的示例性实施方式，可通过在溶剂中分散导电图案材料、有机粘合剂和玻璃粉进行制造。具体而言，该有机粘合剂树脂溶液是通过以下制造的：将有机粘合剂溶于溶剂中，将玻璃料加入其中，最后将前述的作为导电材料的金属粉末加入其中，混炼该溶液，并通过使用三阶段的辊磨机（three stage roll mill）均匀地分散团聚的金属粉末和玻璃粉。然而，本发明并不限于上述方法。
此外，根据本发明的制造导电基板的方法的示例性实施方式包括：形成设置在透明基板上的导电图案，从而该导电图案包括断线部，该断线部在构成该导电图案的至少一导电线的纵向方向以80至110°角度进行断线。
在本发明中，在首先确定了想要的图案形式后，通过采用印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、溅射法、喷墨法等在透明基板上形成具有小线宽的精确的导电图案。当确定图案形式后，可以使用维诺图生成器，以便能够很容易地确定复杂的图案形式。在此，“维诺图生成器”是指如上所述可形成维诺图而配置的点。然而，本发明的范围并不局限于此，并且在当确定想要的图案形式时，还可以使用其他方法。
可以通过使用以下方法进行印刷法，在该方法中，将包括导电图案材料的膏剂以想要的图案形式转印至透明基板上并然后烧结。
所述转印的方法没有具体限制，但是上述的图案形式是在如凹模或丝网的图案转印介质上形成的，并且可以通过使用该图案形式将想要的图案转印至透明基板上。在图案转印介质上形成图案形式的方法可以通过使用本领域公知的方法进行。
印刷法并没有特别限制，并且可使用例如胶版印刷、丝网印刷、凹版印刷、柔版印刷（flexo printing）和喷墨印刷的印刷法，且可使用这些方法中的一种或多种混合方法。印刷方法可以采用辊到辊的方法、辊到板的方法、板到辊的方法、或板到板的方法。
可以通过使用以下方法进行胶版印刷，其中在将膏剂填充于形成了图案的凹版中后，通过使用被称为橡皮滚筒（blanket）的硅橡胶进行首次转印，并通过橡皮滚筒与透明基板的紧密接触实施二次转印。可以通过使用下面的方法进行所述丝网印刷，其中在将膏剂分布于其上形成图案的丝网后，在进行挤压的同时，膏剂通过具有空间的丝网可以被直接提供在基板上。可以通过使用以下方法进行凹版印刷，其中当卷绕在辊上形成了图案的橡皮滚筒的同时将膏剂填充到图案中后，该膏剂被转印到透明基板上。在本发明，可以使用上述方法并且可以组合使用上述方法。另外，可以使用本领域技术人员已知的其它印刷方法。
在胶版印刷法的情况下，由于橡皮滚筒的脱模性能，大部分的膏剂被转印到透明基板（如玻璃）上，因此不需要单独的橡皮滚筒清洗工艺。通过精确蚀刻玻璃而制备凹版，在所述玻璃上形成预期的导电图案，并且为了持久性可以在玻璃表面上进行金属或DLC（金刚石型碳）涂布。凹版可以通过蚀刻金属板来制备。特别地，在本发明中，优选使用反向胶版印刷工艺，但并不限于此。
在本发明，为了实现更精确的导电图案，优选使用胶版印刷法。作为第一步骤，通过使用刮墨刀将膏剂填充于凹版的图案中后，通过滚动橡皮滚筒进行首次转印，且作为第二步骤，通过滚动橡皮滚筒在透明基板的表面上进行二次转印。
在本发明中，并不限于上述印刷法，并且可以使用光刻工艺。例如，光刻工艺可以通过使用下面的方法进行，其中在透明基板的整个表面上形成导电图案材料层，在其上形成光致抗蚀剂层，所述光致抗蚀剂层通过选择性曝光和显影步骤来图案化，所述导电图案是通过使用图案化的光致抗蚀剂层作为掩模来图案化，并且除去光致抗蚀剂层。
本发明可以采用光刻法。例如，在将含有卤化银的图片光敏材料应用至透明基板上以后，可以通过对所述光敏材料进行选择性曝光和显影工艺来形成图案。以下将描述具体的例子。首先，将用于底片的光敏材料施加至将要形成图案的基板上。在此情况中，可以使用聚合物膜如PET和乙酰基纤维素（acetyl celluloide）作为基板。施加了光敏材料的聚合物膜材料在此被称作膜。用于底片的光敏材料是由卤化银形成的，其中，对光十分敏感并且通常会与之发生反应的AgBr与少量AgI互相混合。由于用于底片的通过对普通光敏材料成像来显影的图片是负片，其与对象的明暗面相反，因此可以通过使用具有图案形式的掩模来进行成像，这些图案形式将会形成并优选形成不规则图案形式。
为了增加通过使用光刻和照相工艺形成的导电图案的导电性，可以进一步进行电镀处理。所述电镀可以采用无电电镀的方法，可以使用铜或镍作为电镀材料，并且在进行镀铜后可在其上进行镀镍，但是本发明的范围并不限于此。
本发明可以采用使用掩模的方法。例如，在将具有所需导电图案形状的掩模放置于贴近基板之后，通过将该导电图案材料沉积在该基板上以进行图案化。
在这种情况中，所述沉积方法可以采用通过加热或电子束的热沉积法、PVD（物理气相沉积）法（如溅射）以及使用金属有机材料的CVD（化学气相沉积）法。
在本发明中，在使用上述膏剂的情况下，如果在通过上述图案印刷之后烧结该膏剂，则形成具有导电性的图案。在此情况下，烧结温度并无特别限制，但可以为400至800℃，且优选为600至700℃。当形成导电图案的透明基板为玻璃的情况中，如果需要，在烧结步骤中，玻璃可以根据其目的来成型。另外，当使用塑料基板或膜作为形成导电图案的透明基板的情况下，优选在相对低的温度下进行烧结。例如，烧结可以在50至350℃下进行。
此外，本发明提供了包括导电基板的触控面板。根据本发明的触控面板可包括：下基板；上基板；以及电极层，该电极层设置于该下基板表面的与上基板接触的任一面或两面上，以及与下基板接触的上基板的表面上。上述电极层可具有X轴和Y轴的位置检测功能。
在此情况下，设置在下基板和与该上基板相接触的下基板的表面上的一或二电极层；以及设置在上基板和与该下基板相接触的上基板的表面上的该电极层，可以是根据本发明的上述导电基板。在只有任一该电极层为根据本发明的导电基板的情况下，其他的可具有本领域中已知的图案。
在电极层设置在上基板和下基板各自的一个表面上以形成双层电极层的情况下，可在该下基板和该上基板之间设置绝缘层或间隔件以恒定地保持这些电极层之间的间隔，并防止这些电极层之间连接。优选地该绝缘层为粘合剂、或者UV或热固化树脂。该触控面板可进一步包括连接至上述导电图案的接地部分。例如，该接地部分可形成于：基板的导电图案形成于其上的表面的边缘部分。此外，可在包含该导电基板的堆叠层的至少一个表面上设置抗反射膜、偏光膜、以及防指纹膜中的至少一种。除了上述功能性膜以外还可以根据设计规格进一步包括其他种类的功能性膜。该触控面板可以应用于显示设备，如OLED显示面板（PDP）、液晶显示器（LCD）、阴极射线管（CRT）和PDP。
所述触控面板的雾度值可为10%以下，且其透光度可为75%以上。更具体而言，该触控面板具有10%以下的雾度值和75%以上的透光度，5%以下的雾度值和85%以上的透光度，以及2%以下的雾度值和90%以上的透光度。
包含根据本发明的导电基板的触控面板包括：在导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且以及彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下的导电图案，从而更有效地隐蔽包含于导电图案中的金属线。

Claims (21)

1.一种导电基板，其包括：
透明基板；以及
导电图案，该导电图案包括设置在所述透明基板上的导电线，
其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是15μm以下。
2.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是10μm以下。
3.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述彼此间隔的两根以上的导电线的最接近的相邻端部之间的距离是5μm以下。
4.根据权利要求1所述的导电基板，其包括：
断线部，该断线部在构成该导电图案的至少一导电线的纵向方向以80至110°的角度进行断线。
5.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括选自金属、金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物和金属合金中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括选自Ag、Cu、Cr、Al、Mo、Ni、其氧化物、其氮化物、其氮氧化物和其合金中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括规则图案。
8.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括不规则图案。
9.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在所述导电图案中在预定的单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同形状的闭合图形，且该闭合图形的顶点的数目和与该闭合图形具有相同数目的四边形的顶点数目不同。
10.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在所述导电图案中在预定的单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同形状的闭合图形，且该闭合图形的顶点的数目和通过连接在闭合图形的重心之间的最短距离而形成的多边形的顶点数目不同。
11.根据权利要求1所述的导电基板，其中，所述导电图案包括连续地连接的闭合图形的边缘结构，在所述导电图案中的预定的单位面积（1cm×1cm）内不存在具有相同的形状的闭合图形，且在所述闭合图形中，以下式1的值为50以上：
[式1]
（顶点之间距离的标准差/顶点之间距离的平均值）×100。
12.一种导电基板，其包括：
透明基板；以及
导电图案，其包括设置在所述透明基板上的导电线，
其中，该导电图案包括在该导电线的纵向方向上彼此间隔的两根以上的导电线，且该导电图案进一步包括设置在电性隔离的间隔区域内的导电线，
所述设置在电性隔离的间隔区域内的导电线具有该间隔区域的长度和导电线的线宽的乘积的80%至120%的面积，以及
设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离为15μm以下。
13.根据权利要求12所述的导电基板，其中，设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离为10μm以下。
14.根据权利要求12所述的导电基板，其中，设置在电性隔离的间隔区域内的导电线的端部和与其相邻的所述彼此间隔的导电线的端部之间的距离为5μm以下。
15.权利要求1所述的导电基板的制造方法，其包括：
形成设置在透明基板上的导电图案，从而该导电图案包括断线部，该断线部在构成该导电图案的至少一导电线的纵向方向以80至110°角度进行断线。
16.根据权利要求15所述的导电基板的制造方法，其中，设置在所述透明基板上的导电图案的形成是通过印刷工艺进行的。
17.根据权利要求15所述的导电基板的制造方法，其中，所述印刷工艺是反向胶版印刷工艺。
18.一种触控面板，其包括：
根据权利要求1～14中任一项所述的导电基板。
19.根据权利要求18所述的触控面板，其中，所述触控面板的雾度值为10%以下，且其透光度为75%以上。
20.根据权利要求18所述的触控面板，其中，所述触控面板的雾度值为5%以下，且其透光度为85%以上。
21.根据权利要求18所述的触控面板，其中，所述触控面板的雾度值为2%以下，且其透光度为90%以上。
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