CN107037925A - 触控屏及其制备方法及触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种触控屏，其依次包括基材层、第一金属网格层、透明绝缘层、以及第二金属网格层；第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，第二触控线路与第一触控线路配合。上述触控屏，由于在一张基材层的同一侧形成两层金属网格层，两层金属网格层用透明绝缘层隔开，在靠近基材层的金属网格层中除了形成触控线路之外，还形成有屏蔽网格，屏蔽显示屏的噪音信号，从而避免触控屏乱报点，进而提高触控灵敏度。本发明还提供了一种触控屏的制备方法及触控显示装置。

Description

触控屏及其制备方法及触控显示装置
技术领域
本发明涉及触控技术领域，特别是涉及一种触控屏及其制备方法及触控显示装置。
背景技术
在触控屏中，通常由氧化铟锡(ITO)材料制成。然而，ITO虽然有极好的电导率但是价格昂贵，因为在其中用作原料的铟(indium)是稀土金属。此外，在接下来的10年中，预计铟资源很可能紧缺甚至被耗尽，以致不能被稳定供给。
金属网格触控屏，视为取代ITO材料与降低触控屏成本的新技术与新材料正蓄势待发。金属网格触控屏，一般搭配显示屏组合形成触控显示装置使用，以便用户可以直接点选图像操作，以达改善人机界面操作的目的。
但是，目前的在做触控显示装置时，由于触控屏与显示屏之间的距离越来越小，触控屏会受到显示屏的TFT/LTPS或者OLED阴极噪声的干扰，导致触控屏乱报点从而触控不灵敏。
发明内容
基于此，有必要针对现有的触控屏乱报点而导致触控不灵敏的问题，提供一种可降低干扰、提高触控灵敏度的触控屏。
一种触控屏，包括：
基材层；
第一金属网格层，形成于所述基材层的一侧表面上；所述第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；
透明绝缘层，形成于所述第一金属网格层远离所述基材层的一侧表面上；
以及第二金属网格层，形成于所述透明绝缘层远离所述第一金属网格层的一侧表面上；所述第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，所述第二触控线路与所述第一触控线路配合。
上述触控屏，由于在一张基材层的同一侧面形成两层金属网格层，两层金属网格层用透明绝缘层隔开，在靠近基材层的金属网格层中除了形成触控线路之外，还形成有屏蔽网格，屏蔽显示屏的噪音信号，从而避免触控屏乱报点，进而提高触控灵敏度。
在其中一个实施例中，所述第二金属网格划分形成所述第二触控线路、以及第二屏蔽网格。
在其中一个实施例中，所述第一金属网格与所述第二金属网格错位设置。
在其中一个实施例中，所述触控屏还包括位于所述第二金属网格层上的保护层。
在其中一个实施例中，所述透明绝缘层为氧化硅层、或光刻胶层。
在其中一个实施例中，所述第一金属网格的网格线的宽度为1μm～15μm；所述第二金属网格的网格线的宽度为1μm～15μm。
在其中一个实施例中，所述第一触控线路为驱动线路，所述第二触控线路为感测线路。
在其中一个实施例中，所述第一金属网格中每个网格的面积为200μm2～10000μm2。
本发明还提供了一种触控屏的制备方法。
一种触控屏的制备方法，包括如下步骤：
在基材层的一侧表面上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；
在所述第一金属网格层远离所述基材层的一侧表面上形成透明绝缘层；
在所述透明绝缘层远离所述第一金属网格层的一侧表面上形成第二金属网格层；所述第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，所述第二触控线路与所述第一触控线路配合。
上述触控屏的制备方法，简单易行，且得到本发明触控屏，能够有效屏蔽显示屏的噪音信号，从而避免乱报点现象，进而提高触控灵敏度。
本发明还提供了一种触控显示装置。
一种触控显示装置，包括：
触控屏，为本发明所提供的触控屏，
以及显示屏，位于所述触控屏靠近所述基材层的一侧。
上述触控显示装置，由于采用本发明所提供的触控屏，故而避免乱报点现象，进而提高触控灵敏度。
附图说明
图1为本发明一实施方式的触控屏的结构示意图。
图2为图1中的第一金属网格层的版式设计局部示意图。
图3为图1中的第二金属网格层的版式设计局部示意图。
图4为图1中的第一、第二金属网格的套构设计局部示意图。
图5为图4中A处的放大示意图。
图6为本发明一实施方式的触控显示装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
需要说明的是，当元件被称为“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
参见图1，本发明实施例一的触控屏1000，包括基材层100、第一金属网格层200、透明绝缘层300、第二金属网格层400、以及保护层500。
其中，基材层100为其他各层提供支撑，其他各层均依次形成于基材层100之上。优选地，基材层100可以是聚酰亚胺层(PI层)或聚对苯二甲酸乙二醇酯层(PET层)。当然，可以理解的是，本发明的基材层100并不局限于上述，还可以是其它各种软的透明基材。
在本实施例中，基材层100的厚度为5μm～100μm。当然，可以理解的是，本发明对基材层100的厚度没有特殊要求，也可以是其它厚度。
其中，第一金属网格层200形成于基材层100的一侧表面上；第二金属网格层400形成于透明绝缘层300远离第一金属网格层200的一侧表面上。第一金属网格层200与第二金属网格层400是触控屏1000的核心部分，两者之间在外界手指触摸下发生电容变化，从而实现触控。第一金属网格层200与第二金属网格层400均为图案层。
结合图1参见图2-5，具体地，第一金属网格层200由排布在基材层100上的第一金属网格210构成，第一金属网格210由若干平行的横向金属线211与若干平行的纵向金属线212交错呈网格状而成。同样地，第二金属网格层400由排布在透明绝缘层300上的第二金属网格410构成，第二金属网格410也由若干平行的横向金属线411与若干平行的纵向金属线412交错呈网格状而成。
具体地，在第一金属网格层200中的第一金属网格210被划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格。也就是说，第一金属网格210中的横向金属线211和/或纵向金属线212在某些地方被设计线800截断(可以理解的是，设计线800是为了方便截断金属网格而生成的虚拟线，在触控屏1000中实际并不存在；为了方便描述，将截断的地方定义为第一截断处204)，金属线由于被截断，从而截断处204两侧的金属线相互之间不连通，横向金属线211和/或纵向金属线212在截断处204不导电；而使第一金属网格210的一部分形成第一触控线路，同时使第一金属网格210的另一部分形成第一屏蔽网格。图2中只示出了四方连续中一个的纹样，也就是说，第一金属网格层200的设计图为图2所述的纹样的四方连续纹样。
在本实施例中，同样地，在第二金属网格层400中的第二金属网格410被划分形成第二触控线路、以及第二屏蔽网格。也就是说，第二金属网格410中的横向金属线411和/或纵向金属线412也在某些地方被设计线800截断(此处设计线800与第一金属网格层200中的设计线800上下位置重叠，可视为同一设计线；为了方便描述，将截断的地方定义为第二截断处404)，金属线由于被截断，从而截断处404两侧的金属线相互之间不连通，横向金属线411和/或纵向金属线412在截断处404不导电；从而使第二金属网格410的一部分形成第二触控线路，同时使第二金属网格410的另一部分形成第二屏蔽网格。第二屏蔽网格的作用是与第一屏蔽网格一样起屏蔽噪声的作用。同样地，图3中只示出了四方连续中一个的纹样，也就是说，第二金属网格层400的设计图为图3所述的纹样的四方连续纹样。
当然，可以理解的是，本发明也可以只设置第一屏蔽网格，而不设置第二屏蔽网格。
在本实施例中，第一屏蔽网格均匀分布于第一金属网格层200中。这样可以进一步提高屏蔽效果。同样地，第二屏蔽网格均匀分布于第二金属网格层400中。这样可以进一步提高屏蔽效果。
在本实施例中，第一触控线路为驱动线路，第二触控线路为感测线路。当然，可以理解的是，第一触控线路也可以为感测线路，对应地，第二触控线路也可以为驱动线路，即只要第一触控线路与对应处的第二触控线路之间能够形成触控感应即可。
在本实施例中，第一金属网格210与第二金属网格410错位设置。更具体地，第一金属网格210与第二金属网格410错位。也就是说，第一金属网格210的网格点(横向金属线211与纵向金属线212交叉处)位于第二金属网格410中一个网格中的任一点；第二金属网格410的网格点(横向金属线411与纵向金属线412交叉处)位于第一金属网格210中一个网格的几何中心。由于错位设置，这样可以进一步触控屏1000的视觉感受，避免触控屏1000对显示屏的影响。当然，可以理解的是，本发明的第一金属网格210与第二金属网格410并不局限于错位设置，还可以不错位。
优选地，横向金属线211、纵向金属线212(也即第一金属网格210的网格线)的宽度为1μm～15μm；横向金属线411、纵向金属线412(也即第二金属网格410的网格线)的宽度也为1μm～15μm。这样可以进一步提高触控屏1000的性能。在本实施例中，金属线为银线，当然，可以理解的是，并不局限于银线，还可以其他合适的金属线。
在本实施例中，第一金属网格210中每个网格的面积为200μm2～10000μm2。这样既可以进一步提高触控屏1000的透过率，提高视觉感受，还可以同时降低电阻，从而有利于降低驱动电压。
重点参见图1，其中，透明绝缘层300位于第一金属网格层200与第二金属网格层400之间，也就是说，透明绝缘层300形成于第一金属网格层200之上，第二金属网格层400形成于透明绝缘层300之上。透明绝缘层300的主要作用是，将第一金属网格210与第二金属网格410绝缘，也即将第一触控线路与第二触控线路绝缘，从而避免两者之间短路。
透明绝缘层300可以是氧化硅(SiOx)层或者光刻胶层。当然，可以理解的是，透明绝缘层300还可以由其它透明且绝缘的材料制成。
在本实施例中，透明绝缘层300的厚度为0.5μm到5μm。这样可以进一步提高光的透过率，且具有良好的绝缘性能。
其中，保护层500位于第二金属网格层400之上，其主要作用是，保护第二金属网格层400，防止第二金属网格410氧化、被刮断等。
具体地，保护层500可以是氧化硅(SiOx)层或者光刻胶层。当然，可以理解的是，保护层500还可以由其它透明的材料制成。
在本实施例中，保护层500的厚度为0.5μm到5μm。
当然，可以理解的是，本发明也可以不设置保护层500。
上述触控屏，由于在一张基材层的同一侧形成两层金属网格层，两层金属网格层用透明绝缘层隔开，在靠近基材层的金属网格层中除了形成触控线路之外，还形成有屏蔽网格，屏蔽显示屏的噪音信号，从而避免触控屏乱报点，进而提高触控灵敏度。
本发明还提供了一种触控屏的制备方法。
一种触控屏的制备方法，包括如下步骤：
在基材层的一侧表面上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；
在所述第一金属网格层远离所述基材层的一侧表面上形成透明绝缘层；
在所述透明绝缘层远离所述第一金属网格层的一侧表面上形成第二金属网格层；所述第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，所述第二触控线路与所述第一触控线路配合。
其中，第一金属网格层可以采用镀膜黄光工艺。当然，可以理解的是，本发明并不局限于镀膜黄光工艺，还可以是其他合适的工艺。
当然，可以理解的是，触控屏的制备方法还包括其它步骤(例如形成保护层)，其它步骤可以采用本领域技术人员所公知的步骤和步骤顺序。
上述触控屏的制备方法，简单易行，且得到触控屏有效屏蔽显示屏的噪音信号，从而避免乱报点现象，进而提高触控灵敏度。
本发明还提供了一种触控显示装置。
结合图1参见图6，本发明一实施例的触控显示装置3000，包括本发明所提供的触控屏1000以及显示屏2000。显示屏2000位于触控屏1000靠近基材层100的一侧，也即图6中的下侧。
其中，显示屏2000为触控显示装置3000的显示部分；其主要作用是，用于显示图像。触控屏1000为触控显示装置3000的触控部分；其主要作用是，用于检测用户触摸以获取位置信息。
具体地，显示屏2000包括阵列基板(未示出)以及形成于阵列基板上的像素结构层(未示出)。更具体地，阵列基板为LTPS基板。
在本实施例中，显示屏2000为OLED屏，当然可以理解的是，显示屏2000并不局限于OLED屏，还可以其它显示屏，例如LCD屏。
一般地，显示屏2000与触控屏1000的距离d较小，显示屏2000的电信号层(LTPS基板、阴极、TFT等)与触控屏1000的第一触控线路距离较近；但是由于设置有第一屏蔽网格，有效屏蔽来自显示屏2000的电信号层的噪音，这样使第一触控线路的工作不受干扰，从而避免触控屏1000乱报点，提高触控屏1000的灵敏度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种触控屏，其特征在于，包括：
基材层；
第一金属网格层，形成于所述基材层的一侧表面上；所述第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；
透明绝缘层，形成于所述第一金属网格层远离所述基材层的一侧表面上；
以及第二金属网格层，形成于所述透明绝缘层远离所述第一金属网格层的一侧表面上；所述第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，所述第二触控线路与所述第一触控线路配合。
2.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述第二金属网格划分形成所述第二触控线路、以及第二屏蔽网格。
3.根据权利要求1或2所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属网格与所述第二金属网格错位设置。
4.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述触控屏还包括位于所述第二金属网格层上的保护层。
5.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述透明绝缘层为氧化硅层、或光刻胶层。
6.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属网格的网格线的宽度为1μm～15μm；所述第二金属网格的网格线的宽度为1μm～15μm。
7.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述第一触控线路为驱动线路，所述第二触控线路为感测线路。
8.根据权利要求1所述的触控屏，其特征在于，所述第一金属网格中每个网格的面积为200μm2～10000μm2。
9.一种触控屏的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
在基材层的一侧表面上形成第一金属网格层，所述第一金属网格层中的第一金属网格划分形成第一触控线路、以及第一屏蔽网格；
在所述第一金属网格层远离所述基材层的一侧表面上形成透明绝缘层；
在所述透明绝缘层远离所述第一金属网格层的一侧表面上形成第二金属网格层；所述第二金属网格层中的第二金属网格形成有第二触控线路，所述第二触控线路与所述第一触控线路配合。
10.一种触控显示装置，其特征在于，包括：
触控屏，为权利要求1-9任一项所述的触控屏，
以及显示屏，位于所述触控屏靠近所述基材层的一侧。
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