CN104174906A - 一种强制断屑内冷钻 - Google Patents

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李振丰
周攀科
奚旭东
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SUZHOU TIMA PRECISION MACHINERY Co Ltd
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SUZHOU TIMA PRECISION MACHINERY Co Ltd
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    • B23B51/06Drills with lubricating or cooling equipment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

本发明的目的是提出一种使用寿命长的强制断屑内冷钻,以节约客户使用成本。本发明的强制断屑内冷钻包括柄部和刃部,所述柄部贯穿设置有入水通道,所述刃部沿轴向开设有抛物线形的排屑槽及侧刃,关键在于所述侧刃在朝向内冷钻转动方向的一面设置有内凹的弧形断屑槽。在工作过程中,弧形断屑槽对碎屑条进行二次铰割,可以自动切断所产生的碎屑,这样碎屑就很容易经过排屑槽排出,而不会积聚在排屑槽内,造成刀尖磨损严重及刀具崩裂。

Description

一种强制断屑内冷钻
技术领域
本发明属于刀具制造技术领域,特别涉及到一种强制断屑内冷钻。
 
背景技术
钻头作为机械加工用刀具中的一个重要组成部分,主要用于孔的粗加工。随着机械行业的发展,用户对产品的加工质量、加工可靠性、加工效率、刀具的交货期等都提出了更高要求。传统内冷钻的刀尖没有采取保护,容易出现刀尖磨损严重、加工过程中容易引起刀具崩断;传统内冷钻排屑不畅,涂层覆盖不牢固。 
 
发明内容
本发明的目的是提出一种使用寿命长的强制断屑内冷钻,以节约客户使用成本。
本发明的强制断屑内冷钻包括柄部和刃部,所述柄部贯穿设置有入水通道,所述刃部沿轴向开设有抛物线形的排屑槽及侧刃,关键在于所述侧刃在朝向内冷钻转动方向的一面设置有内凹的弧形断屑槽。 
在工作过程中,弧形断屑槽对碎屑条进行二次铰割,可以自动切断所产生的碎屑,这样碎屑就很容易经过排屑槽排出,而不会积聚在排屑槽内,造成刀尖磨损严重及刀具崩裂。
进一步对,所述刃部的前端侧面设有与所述入水通道相通的排水口,所述排水口朝向排屑槽方向。将排水口设置在排屑槽的端部且朝向排屑槽,有利于冲出排屑槽内所积聚的铁屑,不仅改善了排屑性能,而且铁屑会带走大量的热量,从而降低了刃部的温度,提高了加工质量,延长了刀具的使用寿命。
进一步地,所述刃部为抛光处理过,且刃部表面设有TIALN-H涂层。经过抛光处理后,可以提高刃部的光洁度,让排屑更顺畅,而且还可以让刃部去除尖峰效应,让涂层覆盖面更牢固。
本发明的强制断屑内冷钻通过设置独特结构的断屑槽和排水口,可以减少刀尖磨损和提高排屑顺畅度,从而延长刀具的使用寿命。
 
附图说明
图1是本发明的强制断屑内冷钻的结构示意图。 
图2是侧刃的截面图。
图3是图1的端面结构示意图。
 
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明。
实施例:
如图1、2、3所示,本实施例的强制断屑内冷钻包括柄部1和刃部2,所述柄部1贯穿设置有入水通道3,所述刃部2沿轴向开设有抛物线形的排屑槽4及侧刃5,关键在于所述侧刃5在朝向内冷钻转动方向的一面设置有内凹的弧形断屑槽6。 
在工作过程中,弧形断屑槽6对碎屑条进行二次铰割,可以自动切断所产生的碎屑,这样碎屑就很容易经过排屑槽4排出,而不会积聚在排屑槽4内,造成刀尖磨损严重及刀具崩裂。
进一步对,所述刃部2的前端侧面设有与所述入水通道3相通的排水口7,所述排水口7朝向排屑槽4方向。将排水口7设置在排屑槽4的端部且朝向排屑槽4,有利于冲出排屑槽4内所积聚的铁屑,不仅改善了排屑性能,而且铁屑会带走大量的热量,从而降低了刃部2的温度,提高了加工质量,延长了刀具的使用寿命。
进一步地,所述刃部2为抛光处理过,且刃部2表面设有TIALN-H涂层。经过抛光处理后,可以提高刃部2的光洁度,让排屑更顺畅,而且还可以让刃部2去除尖峰效应,让涂层覆盖面更牢固。

Claims (3)

1.一种强制断屑内冷钻,包括柄部和刃部,所述柄部贯穿设置有入水通道,所述刃部沿轴向开设有抛物线形的排屑槽及侧刃,其特征在于所述侧刃在朝向内冷钻转动方向的一面设置有内凹的弧形断屑槽。
2.根据权利要求1所述的强制断屑内冷钻,其特征在于所述刃部的前端侧面设有与所述入水通道相通的排水口,所述排水口朝向排屑槽方向。
3.根据权利要求1或2所述的强制断屑内冷钻,其特征在于所述刃部为抛光处理过,且刃部表面设有TIALN-H涂层。
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CN111014785A (zh) * 2019-12-28 2020-04-17 中山市光和精密科技有限公司 一种双刃倒棱挤压钻铰刀

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20141203