CN104166311B - 一种基板制作方法、平台和基板 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种基板制作方法、平台和基板，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法包括：通过介质生成装置生成作用介质；利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。本发明使得光刻胶在基板不同区域上的附着力存在差异，降低显影强度，进而提高基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。

Description

一种基板制作方法、平台和基板

技术领域

本发明涉及液晶领域，尤其涉及一种基板制作方法、平台和基板。

背景技术

目前的基板制作工艺主要包括：清洗—涂布—曝光—显影。

其中清洗主要指通过大气压等离子体(Atmospheric-Pressure Plasma，APP)方式对基板表面进行处理，水洗干燥等。目前APP主要有以下两种方法:

<方式一>臭氧氧化处理方式

这种方式主要是利用APP设备电离出臭氧离子，通过臭氧离子对基板上表面进行扫描试的氧化处理；再用去离子水或药液进行冲洗，洗去玻璃表面的氧化物和油渍。

<方式二>紫外线UV照射表面处理方式

如图1所示，基板1按图1中箭头所示的方向通过产生紫外线的UV扫描杆2。

以上两种方法都是对整张基板表面进行处理。主要目的是去除基板表面的氧化物，以及增大玻璃表面和光刻胶之间的接触附着力。

但是无论采用臭氧氧化处理还是UV照射方式对基板进行清洗，都是对整张玻璃基板的表面进行了处理。在后续显影时，光刻胶需要洗掉的部分和需要留在玻璃基板上的部分对玻璃的附着力是一样的，这样会造成需要比较大的显影强度，进而使得基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度均变得比较差。本发明主要是针对UV照射方式提出的解决方案。

发明内容

本发明的目的是提供一种基板制作方法、平台和基板，使得光刻胶在基板不同区域上的附着力存在差异，降低显影强度，进而提高基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。

为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法包括：

通过介质生成装置生成作用介质；

利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置为掩膜板。

上述的基板制作方法，其中，所述作用介质为紫外线；

所述利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上具体为：

利用生成的紫外线通过掩膜板的透光区域照射在所述基板上。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置的透光区域与所述第一区域相对应。

上述的基板制作方法，其中，所述遮挡装置的遮光区域与所述第二区域相对应。

上述的基板制作方法，其中，所述基板为彩膜基板。

在彩膜基板制作过程中，可以直接利用光刻胶形成预定图案的有色像素或黑矩阵。因此，适用于本发明提供的上述方法。

上述的基板制作方法，其中，所述基板为阵列基板。

在阵列基板的制作过程中，金属材料之类的图形生成的前期并不适用本发明提供的上述方法。但是阵列基板上如果有图案是利用光刻胶形成的，那么同样适用本方法。

为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种基板制作平台，所述平台包括：

基板承载台，用于承载基板；

具有透光区域的遮挡装置；

介质生成装置，用于生成作用介质，且所述作用介质通过所述遮挡装置的透光区域作用在所述基板承载台承载的所述基板上，使得所述基板在第一区域对光刻胶的附着力高于第二区域对光刻胶的附着力。

为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种使用上述任一项所述的基板制造方法制造的基板。

在本发明实施例中，在用光刻胶在基板上形成预定图案之前，先将作用介质通过具有透光区域的遮挡装置作用在基板上，使得基板上不同区域的光刻胶的附着力不同。这样，在后续显影时，光刻胶需要留在基板上的部分的附着力高于需要洗掉的部分对基板的附着力，因此就不需要太大的显影强度，进而提高了基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度。

附图说明

图1为现有技术中通过UV照射清洗基板表面的装置示意图；

图2为本发明实施例提供的基板制作过程中形成预定图案之前的处理方法的流程示意图；

图3a-3b为本发明实施例提供的UV照射基板表面的示意图。

具体实施方式

为使本发明实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

本发明实施例提供了一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基板上形成预定图案的步骤，在基板上形成预定图案之前，所述方法如图2所示，包括：

步骤21，通过介质生成装置生成作用介质；

步骤22，利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基板上，使得所述基板在第一区域对光刻胶的附着力高于在第二区域对光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基板上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基板上需要形成预定图案之外的区域。

决定显影强度的主要因素包括：显影液浓度、温度、显影速度、喷洒压力等，附着力越大所需要的显影液浓度、温度、喷洒压力越大。显影速度越小，对图案的表面平坦度、边缘直线性越差(其中，图案的边缘直线性需要通过显微镜和眼睛观察得出，表面的平坦度可以根据原子力显微镜AFM观察得出)。

在本发明实施例中，在基板上利用光刻胶形成预定图案之前，先将作用介质通过具有透光区域的遮挡装置作用在基板上，使得基板在预定形成图案的第一区域的光刻胶的附着力高于需要形成预定图案之外的第二区域的光刻胶的附着力。这样，在后续显影时，由于光刻胶在不同区域的附着力不同，没有图案的区域的光刻胶附着力低于需要形成图案的区域的光刻胶附着力，因此不需要太大的显影强度，进而提高了基板图案的边缘直线型和图案上表面的平坦度；进一步地，还提高了基板的线宽均匀性。

在本发明实施例中，生成的作用介质优选地，为紫外线，遮挡装置为掩膜板，掩膜板的大小与基板的大小一致。如图3a所示，介质生成装置4将生成的紫外线通过遮挡装置的透光区域3作用在所述基板1上，即照射在所述基板1上，从而使得基板上不同区域的光刻胶的附着力不同。

其中，基板在紫外线的照射下停留几秒钟，进行定位和漏光；采用遮挡装置曝光的紫外线强度和时间等视具体情况而定，应以产品最佳的效果进行调整。

在本发明实施例中，如图3b所示，所述遮挡装置的透光区域3与所述第一区域5相对应，第一区域5为基板上需要形成预定图案的区域；所述遮挡装置的遮光区域6与所述第二区域7相对应，第二区域7为基板上需要形成预定图案之外的区域。

当然，所述遮挡装置并不局限于上述的掩膜板，只要是透光区域与所述第一区域对应，遮光区域与所述第二区域对应的能够对紫外线有部分遮挡作用的装置均可以作为遮挡装置。在本发明实施例中，优选地，直接采用后续用于形成预定图案时的掩膜板作为遮挡装置。

在实际应用中，光刻胶的附着力主要通过附着角度(Contact-angle)来体现。附着角度越大，说明附着力越小。在本发明实施例中，还提供了现有的三种光刻胶在同一基板上有紫外线照射区域和无紫外线照射区域与所述基板的附着角度值，如表1所示(为多次实验数据)。

表1

通过表1可以明显看出在无紫外线照射的区域，光刻胶与基板的附着角度值较大，即附着力越小；有紫外线照射的区域，光刻胶与基板的附着角度值较小，即附着力越大。

在本发明实施例中，，对应地所述基板可以为彩膜基板，所述光刻胶为负性光刻胶。

利用本发明实施例提供的方法制作彩膜基板，具体过程如下：

在将相应颜色的负性光刻胶涂覆在衬底基板上形成光刻胶层之前，先将介质生成装置生成的紫外线通过遮挡装置的透光区域照射在基板上，紫外线强度和时间等视具体情况而定。然后将相应颜色的负性光刻胶涂覆在衬底基板上形成光刻胶层，利用掩膜板对负性光刻胶进行曝光显影，得到设定图案的有色像素或黑矩阵。

由于基板在形成预定图案之前，先利用生成的紫外线对所述基板进行了预处理，使得光刻胶在不同区域的附着力不同，没有图案的区域的光刻胶附着力低于需要形成图案的区域的光刻胶附着力。因此在后续显影时，不需要太大的显影强度，达到了本发明的目的。

彩膜基板上的黑矩阵及有色像素(RGB)都可以直接采用光刻胶材料形成，因此本发明实施例提供的上述方法主要适用于彩膜基板。但是，并不局限于彩膜基板。在制作其他基板时，例如阵列基板，如果在其制作过程中，用于形成图案的材料为光刻胶，那么同样适用于本方法。

本发明实施例还提供了一种基板制作平台，所述平台包括：

基板承载台，用于承载基板；

具有透光区域的遮挡装置；

介质生成装置，用于生成作用介质，且所述作用介质通过所述遮挡装置的透光区域作用在所述基板承载台承载的所述基板上，使得所述基板在第一区域对光刻胶的附着力高于第二区域对光刻胶的附着力。

本发明实施例提供了一种使用上述任一项所述的基板制造方法制造的基板。

以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种基板制作方法，所述方法包括用光刻胶在基底上形成预定图案的步骤，其特征在于，在基底上形成预定图案之前，所述方法包括：

通过介质生成装置生成作用介质；

利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基底上，使得所述基底在第一区域对所述光刻胶的附着力高于在第二区域对所述光刻胶的附着力；其中，所述第一区域为所述基底上需要形成预定图案的区域，所述第二区域为所述基底上需要形成预定图案之外的区域。

2.如权利要求1所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置为掩膜板。

3.如权利要求2所述的基板制作方法，其特征在于，所述作用介质为紫外线；

所述利用生成的所述作用介质通过遮挡装置的透光区域作用在所述基底上具体为：

利用生成的紫外线通过掩膜板的透光区域照射在所述基底上。

4.如权利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置的透光区域与所述第一区域相对应。

5.如权利要求3所述的基板制作方法，其特征在于，所述遮挡装置的遮光区域与所述第二区域相对应。

6.如权利要求1-5任一项所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板为彩膜基板。

7.如权利要求1-5任一项所述的基板制作方法，其特征在于，所述基板为阵列基板。

8.一种使用权利要求1-7任一项所述的基板制作方法制作的基板。