CN104126212B - 用于中压开关装置的屏蔽元件 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于具有真空断续器的中压开关装置中的屏蔽元件，该真空断续器具有至少两个触头，该至少两个触头沿闭合与断开触头位置之间的开关路径是可移动的，其中屏蔽元件被围绕真空断续器中的触头位置区域定位，其中至少该屏蔽的内表面利用一构形结构实施，该构形结构是粗糙的或结构化的表面。为了增强至少该屏蔽的能量吸收行为，所述实施的构形结构以这样的方式来形成，即通过屏蔽体的给定恒定或近似恒定的体积(Vi)，具有实施的表面结构的经处理的表面(S2)与不具有构形结构的未处理的表面(S1)的表面比大于1，使得这遵循条件：V1～V2，并且S2/S1＞1。

Description

用于中压开关装置的屏蔽元件
技术领域
本发明涉及用于具有真空断续器的中压开关装置的屏蔽元件，该真空断续器具有至少两个触头，该至少两个触头沿闭合与断开触头位置之间的开关路径是可移动的，其中屏蔽元件被围绕真空断续器中的触头位置区域定位。
背景技术
真空断续器使用内屏蔽元件，环绕处于闭合和断开位置的触头位置。
通过为真空断续器使用具有成形的屏蔽，可以在开关期间为真空断续器吸收更多的金属蒸汽，因此能够增加断续能力，如从DE19503347A1中所获知的那样。
到目前为止，如果使用具有成形的屏蔽，则该外形与屏蔽的轴向方向相切，并且需要采用如该DE19503347A1所述的机械加工来制作。该外形与屏蔽相切，因此，生产方法仅能使用机械加工。屏蔽的壁厚必须厚，以致消耗足够的体材料，用来在机械加工之后得到具有成形的屏蔽。
发明内容
本发明的目的是增强屏蔽的能量吸收行为。
用于本发明的基本特征是实施的构形结构以这样的一种方式形成，即通过屏蔽体的给定恒定或近似恒定的体积(Vi)，具有实施的表面结构的经处理的表面(S2)与不具有构形结构的未处理的表面(S1)的表面比大于1，使得这遵循条件V1～V2，并且S2/S1＞1。
该条件由于其在制造方面的优点以及在这样的屏蔽和真空断续器的恒定高性能方面的优点以及不同测量和安培容量的真空断续器和屏蔽的成套制造中的优点，而必须被获悉。
因此其是基于屏蔽本身的体积不是屏蔽环绕的圆柱空间所包围的体积的认知。
上述体积是屏蔽本身的材料体积。因此V1是具有未处理的平的内表面的屏蔽的体积，并且V2是具有经处理的结构化内表面的屏蔽的体积。
在这个意义上，部分无规律的表面意味着实施的结构不主要在一个方向的定向结构中。
通过这种方式，导致了微观(mikroscopic)表面增殖的最大化，如果发生光弧，其具有最大的可能的能量吸收。
这样的具有高能量吸收的构形的有益实施例以这样一种方式给出，即构形表面结构是由喷砂粒处理的喷砂表面。该表面是粗糙的，具有前述高有效表面增殖，并且能够被非常容易地制造，但具有高复现质量。
进一步有益的实施例由以下方式给出，即构形结构由交叉布置的槽构成，即所谓的滚花结构。该结构是规则定向的，但相对于长轴或任意其它定向不是对其的。
这种非常特别的构形，通常用作构造表面用以获得更好的手感，其用于增强在真空断续器内部发生的光弧能的能量吸收。
滚花具有良好的表面放大系数，使得能量能够被更大的表面所吸收。
有益的实施例是构形结构由机械加工来实施。这是容易制造的。
进一步有益的是每个触头均安装在杆上，并且至少靠近触头件的部分区域额外利用构形表面结构来实施，以便吸收来自光弧发生的能量。
螺纹的屏蔽具有能够在宽范围内限定深度的有益效果。在选择铜材料或铜铬材料的情况下，在短路条件下起弧期间熔融金属来自触头系统并且在该表面处粘在一起。铜或铜铬湿化屏蔽材料的表面。这意味着材料在良好的束缚条件下停留在表面处。在通过使用特殊的钢材料或不锈钢材料的情况下，会发生铜铬材料(无熔融的触点材料)的湿化不会以足够正确的方式粘附在屏蔽表面处。这会产生来自螺纹的每一圈的螺纹区域的尖刺。在这些特定的情况中，介电性能下降。
“滚花”结构设计提供了所需的表面面积增大(相较于因此所附的草图和滚花设计看上去的图片)，而不具有在螺纹的表面的圈内部可能产生“长”的尖刺的缺点。
而且喷砂表面容易以高复现恒定质量维持的方式制造。
附图说明
图1示出了根据本发明的实例的中压开关装置。
具体实施方式
图1示出了本发明的实例，在该实例中，至少真空断续器2中的屏蔽1在其内表面上至少部分地被构造有滚花结构3，这意味着槽的十字线对正。
滚花结构3位于屏蔽的内表面上的至少靠近触头件4，5的位置。
此外，靠近触头件4和5的区域，例如，触头件利用杆6和7固定的区域，也能够额外地具有该滚花结构，以便也有效吸收该区域中的能量。
本文公开的滚花表面结构的替代是喷砂表面。因此该喷砂表面不仅可以被施加在屏蔽的内表面上，还可以施加在前述的其它区域中，类似在滚花结构实例中所描述的。
位置编号
1 屏蔽
2 真空断续器
3 表面结构(滚花，喷砂)
4 触头件
5 触头件
6 杆
7 杆
8 波纹管

Claims (4)

1.屏蔽元件，用于具有真空断续器的中压开关装置中，该真空断续器具有至少两个触头，该至少两个触头沿闭合与断开触头位置之间的开关路径是可移动的，其中屏蔽元件被围绕真空断续器中的触头位置区域定位，其中至少该屏蔽的内表面利用一构形结构实施，该构形结构是粗糙的或结构化的表面，
其特征在于，
通过滚花或喷砂实施的所述构形结构以这样的方式来形成，即通过屏蔽体的给定恒定或近似恒定的体积(Vi)，具有实施的构形结构的经处理的表面与不具有构形结构的未处理的表面的表面比大于1，使得这遵循条件
V1～V2，并且S2/S1＞1，
其中V1表示不具有构形结构的屏蔽的体积，V2表示具有实施的构形结构的屏蔽的体积，S1表示不具有构形结构的未处理的表面，S2表示具有实施的构形结构的经处理的表面。
2.根据权利要求1所述的屏蔽元件，
其特征在于，
所述构形结构是采用喷砂粒处理的喷砂表面。
3.根据权利要求1所述的屏蔽元件，
其特征在于，
所述构形结构由交叉布置的槽构成，即所谓的滚花结构。
4.根据前述权利要求当中的一项所述的屏蔽元件，
其特征在于，
每个触头安装在杆上，并且靠近触头件的至少部分区域额外利用前述构形结构实施，以便吸收来自光弧发生的能量。
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