CN104124232B - 利用同型结监控n型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了利用同型结监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法，该监控结构包括光阻区和N型轻掺杂离子注入区，N型轻掺杂离子注入区由N型阱‑N型轻掺杂离子阱结构构成，包括：N型阱、N型轻掺杂离子阱、栅极、介质层以及对应于N型轻掺杂离子阱的接触孔；光阻区仅由N型阱构成，包括：N型阱、栅极、介质层，以及对应于N型阱的接触孔；经正电势电子束扫描得到电压衬度影像中，根据发生亮度变化的接触孔的数据即可监控光阻区的对准度，从而实现对CMOS中N型轻掺杂离子注入对准度的实时监控，避免N型轻掺杂离子注入到PMOS的N型阱中而导致漏电现象的发生。

Description

利用同型结监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种在CMOS中利用同型结来监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及监控方法。

背景技术

随着集成电路工艺的发展以及关键尺寸按比例缩小，各种工艺的工艺窗口越来越小，CMOS器件成为现有集成电路中重要的电子元件之一，在CMOS器件的制备过程中，对各种工艺制程的要求越来越高，比如源漏极离子注入对准度、轻掺杂离子注入对准度等；如图1所示，为经电子束扫描得到的PMOS的漏电缺陷示意图，经研究发现，PMOS产生漏电缺陷的形成原因之一是在N型轻掺杂离子注入时产生对准度偏差，从而导致在PMOS中的N型阱中注入了N型轻掺杂离子，如图1中，虚线框中本应为亮孔的位置显示为暗孔，这说明PMOS的N型阱中注入了N型轻掺杂离子，也即是N型轻掺杂离子注入产生对准度偏差。PMOS产生漏电缺陷将导致整个CMOS器件甚至良率失效，从而增加成本。因此，针对此N型轻掺杂离子注入对准度进行监控是十分必要的。N型轻掺杂离子注入产生对准度偏差归根到底是由于N型轻掺杂离子注入时，覆盖在PMOS的N型阱上方的光阻发生对准度偏差导致的。因此，监控N型轻掺杂离子注入对准度偏差可以通过监控该N型轻掺杂离子注入过程中的光阻对准度偏差来实现。

如图2所示，N型轻掺杂离子注入时光阻产生对准度偏差的各种情况示意图，其中，虚线表示异常位置，实线表示正常位置，可以看到，光阻发生偏差的情况包括：单一方向偏移型(图2(a))、外溢型(图2(b))、内收型(图2(c))、旋转型(图2(d))、综合性(图2(e))。目前业界都采用光学检测进行监控，但是由于分辨率的限制和实际光刻胶工艺中对准度偏差的复杂性，因而很难得到准确的监控，更重要的是，其检测结果无法与所导致的漏电问题建立直接的联系。

因此，急需能够准确地对CMOS中N型轻掺杂离子注入对准度进行实时监控的测试结构和方法，从而避免PMOS器件产生漏电而导致整个器件失效的问题发生。

发明内容

为了克服以上问题，本发明旨在提供一种CMOS中利用同型结的特性来监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法，并利用N型轻掺杂离子注入时采用的光阻的对准度，来监控N型轻掺杂离子注入对准度，从而实现对N型轻掺杂离子注入对准度进行准确而有效的实时监控，避免PMOS器件的N型阱中注入N型轻掺杂离子而产生漏电。

为了实现上述目的，本发明提供了一种利用同型结监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构，所述监控结构位于半导体衬底的非功能区域中，其中，所述监控结构包括N型轻掺杂离子注入区和光阻区，所述光阻区为不注入任何类型的轻掺杂离子的区域，其中，

所述N型轻掺杂离子注入区由第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成，包括：在非功能区中设置的第一N型阱，在所述第一N型阱中设置的N型轻掺杂离子阱，位于所述N型轻掺杂离子阱之间的第一栅极，位于所述非功能区表面的介质层，以及位于所述第一介质层中且对应于所述N型轻掺杂离子阱的接触孔；

所述光阻区由第二N型阱结构构成，包括：在非功能区中设置的第二N型阱，位于所述第二N型阱之间的第二栅极，位于非功能区表面的第二介质层，以及位于所述第二介质层中且对应于所述第二N型阱的接触孔；

在正电势电子束扫描模式下得到的电压衬度影像图中，所述第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔。

优选地，所述光阻区与所述N型轻掺杂离子注入区相邻设置且具有公共边。

优选地，整个所述监控结构中的第一N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的第一栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的第一栅极所在的行与整个所述监控结构中的第一N型阱所在的列呈正交分布；整个所述监控结构中的第二N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的第二栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的第二栅极所在的行与整个所述监控结构中的第二N型阱所在的列呈正交分布；所述光阻区中，所述第二栅极之间仅为所述第二N型阱；所述N型轻掺杂离子注入区中，所述第一栅极之间设置有所述第一N型阱及N型轻掺杂离子阱。

进一步的，所述光阻区的形状为一内角为45度的直角三角形，所述N型轻掺杂离子注入区的形状为倒立的一内角为45度的直角三角形，且所述光阻区的斜边与所述N型轻掺杂离子区的斜边向重叠；整个所述监控结构中的第一栅极之间的间距与整个所述监控结构中的第一N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构中的第一栅极的宽度与整个所述监控结构中的第一N型阱的宽度相同；整个所述监控结构中的第二栅极之间的间距与整个所述监控结构中的第二N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构中的第二栅极的宽度与整个所述监控结构中的第二N型阱的宽度相同。

本发明还提供了一种利用同型结对N型轻掺杂离子注入对准度进行监控的方法，包括监控结构的制备和电子束扫描两个过程，其中，

所述监控结构的制备包括：

步骤S01：提供一个半导体衬底的非功能区，并在所述非功能区中设置N型轻掺杂离子注入区和光阻区；

步骤S02：在所述非功能区中依次进行N型阱和栅极的制备；其中，所述N型阱包括第一N型阱和第二N型阱，栅极包括第一栅极和第二栅极；

步骤S03：在所述光阻区上覆盖一层N型轻掺杂离子注入光阻；

步骤S04：向所述N型轻掺杂离子注入区的第一N型阱中进行N型轻掺杂离子注入，从而在该第一N型阱中形成N型轻掺杂离子阱；

步骤S05：去除所述N型轻掺杂离子注入光阻；

步骤S06：在所述非功能区表面形成介质层，在所述介质层中且分别对应于所述N型轻掺杂离子阱和所述第二N型阱上方形成接触孔；

所述电子束扫描过程包括：

步骤S07：在正电势电子束扫描模式下，采用电子束对所述监控结构进行扫描，得到所述监控结构的实际电压衬度影像图；其中，第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述光阻区的第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔；

步骤S08：设置所述监控结构在无对准度偏差情况下的标准电压衬度影像图；其中，第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述光阻区的第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔；

步骤S09：将所述实际电压衬度影像图与所述标准电压衬度影像图进行对比，找出发生亮度变化的接触孔：其中，包括第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构中由亮孔变为暗孔的接触孔或者所述光阻区的第二N型阱结构中由暗孔变为亮孔的接触孔；

步骤S10：根据所找出的发生亮度变化的所述接触孔的数据得到所述光阻区的对准度偏差，也即是所述N型轻掺杂离子注入对准度偏差。

优选地，所述步骤S08具体包括：设定监控结构中的一特定位置为坐标原点，将每个所述接触孔的位置数据和尺寸数据输入到模拟软件中，经仿真模拟得到所述标准电压衬度影像图。

优选地，所述步骤S07中，所述电子束对所述监控结构进行扫描的参数包括：像素为30～80nm，着陆能量为500～1200eV，电流为50～100nA。

优选地，所述光阻区与所述N型轻掺杂离子注入区相邻设置且具有公共边。

优选地，整个所述监控结构中的N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的栅极所在的行与整个所述监控结构中的N型阱所在的列呈正交分布；

所述光阻区中，所述第二栅极之间仅为所述第二N型阱；所述N型轻掺杂离子注入区中，所述第一栅极之间设置有所述第一N型阱及N型轻掺杂离子阱。

进一步的，所述光阻区的形状为一内角为45度的直角三角形，所述N型轻掺杂离子注入区的形状为倒立的一内角为45度的直角三角形，且所述光阻区的斜边与所述N型轻掺杂离子区的斜边向重叠；整个所述监控结构的栅极之间的间距与整个所述监控结构的N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构的栅极的宽度与整个所述监控结构的N型阱的宽度相同。

本发明的利用同型结特性来监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法，采用了在正电势电子束扫描模式下同型NN结为导通状态而单独N阱为不导通状态的原理，从而设计出具有N型阱-N型轻掺杂离子阱结构和单独N型阱结构的监控结构，监控结构中，划分出光阻区和N型轻掺杂离子注入区，光阻区为不用进行任何类型轻掺杂离子注入区，即由单独的N型阱结构构成，N型轻掺杂离子注入区由N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成；在正电势电子束扫描模式下，N型阱-N型轻掺杂离子阱结构上的接触孔显示为亮孔，单独N型阱结构上的接触孔显示为暗孔，因此，一旦光阻区发生对准度偏差，将导致所对应的接触孔发生亮度变化；然后根据发生亮度变化的接触孔的数据比如位置数据、数量等得到光阻区的对准度偏差，也即是N型轻掺杂离子注入对准度偏差；从而实现对CMOS中N型轻掺杂离子注入对准度的实时监控，避免PMOS器件失效和成本的不必要的浪费。

附图说明

图1为经电子束扫描得到的PMOS的漏电缺陷示意图

图2为N型轻掺杂离子注入时光阻产生对准度偏差的各种情况示意图

图3为本发明的一个较佳实施例的N型轻掺杂离子注入对准度的监控结构的俯视示意图

图4为本发明的一个较佳实施例的N型轻掺杂离子注入对准度的监控结构的局部截面结构示意图

图5本发明的N型轻掺杂离子注入对准度的监控方法的流程示意图

图6-11为本发明的一个较佳实施例的监控结构的各个制备步骤所对应的俯视结构示意图

图12为本发明的一个较佳实施例的正电势扫描模式下含有N型轻掺杂离子注入区和光阻区的监控结构的截面结构及其接触孔的电压衬度影像示意图

图13为本发明的一个较佳实施例的监控结构的标准电压衬度影像图

图14为本发明的一个较佳实施例的进行电子束扫描后所形成的监控结构的实际电压衬度影像与标准电压衬度影像的对比示意图

具体实施方式

为使本发明的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本发明的内容作进一步说明。当然本发明并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本发明的保护范围内。

本发明的监控结构和监控方法的原理是：根据正电势电子束扫描过程中，N型阱-N型轻掺杂离子阱结构导通，而N型阱结构不导通，从而所对应的接触孔显示不同的亮度的特性来进行对准度判断，在正电势条件下，前者对应的接触孔显示为亮孔，后者对应的接触孔显示为暗孔；当N型轻掺杂离子注入过程中的光阻的位置发生对准度偏差时，则在监控结构中的光阻区也会发生变化，原本应当显示为亮孔(或暗孔)的接触孔则显示为暗孔(或亮孔)，根据产生变化的接触孔的位置得到光阻区的对准度偏差也即为N型轻掺杂离子注入的对准度偏差。

之所以N型阱结构不导通，显示为暗孔，是由于：在正电势条件下，电子束中入射的二次电子大部分被阻挡在该结构表面，从而该结构对应的接触孔显示为暗孔；同理，N型阱-N型轻掺杂离子阱结构导通，显示为亮孔，是由于：在正电势条件下，电子束中入射的二次电子大部分被该结构吸收，由N型轻掺杂离子阱流向N型阱，从而该结构对应的接触孔显示为亮孔。

以下将结合附图3-4和具体实施例对利用同型结监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式、使用非精准的比例，且仅用以方便、清晰地达到辅助说明本实施例的目的。

本发明的监控结构，设置于半导体衬底上，本发明采用的半导体衬底具有功能区和非功能区，非功能区是指不会影响半导体衬底功能的区域比如切割道、虚拟区域等。半导体衬底可以但不限于为硅衬底；本发明的监控结构则位于半导体衬底的非功能区域中，其包括有N型轻掺杂离子注入区和光阻区，光阻区为不进行任何类型的轻掺杂离子注入的区域。

这是因为，PMOS漏电现象的原因之一是N型轻掺杂离子注入时所采用的遮挡无需进行N型轻掺杂离子注入区域的光阻发生对准度偏差，从而导致在PMOS的N型阱中注入了N型轻掺杂离子；由此，监控N型轻掺杂离子注入对准度可以通过监控该光阻的对准度来实现，而该光阻的对准度可以利用监控结构中的光阻区的对准度来进行监控。因此，在监控结构中设置N型轻掺杂离子注入区和光阻区，N型轻掺杂离子注入区为用于注入N型轻掺杂离子的区域，光阻区为不注入任何类型轻掺杂离子的区域，在注入N型轻掺杂离子的过程中，光阻区上设置光阻用于阻挡N型轻掺杂离子注入到光阻区中，如果光阻区发生对准度偏差，则会导致N型轻掺杂离子注入发生对准度偏差，因此，通过监控光阻区的对准度偏差即可找到N型轻掺杂离子注入的对准度偏差。

N型轻掺杂离子注入区由N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成，包括：在非功能区中设置的N型阱，在N型阱中设置的N型轻掺杂离子阱，位于N型轻掺杂离子阱之间的栅极，位于非功能区表面的介质层，以及位于介质层中且对应于N型轻掺杂离子阱的接触孔。

光阻区由N型阱结构构成，包括：在非功能区中设置的N型阱，在N型阱之间的栅极，位于非功能区表面的介质层，以及位于介质层中且对应于N型阱的接触孔。需要说明的是，光阻区应当不遮挡在N型源漏离子注入区的N型阱上方，因此，光阻区的轮廓线可以位于栅极的上方或N型阱之间的区域上方。

在正电势电子束扫描模式下得到的电压衬度影像图中，N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔。

需要说明的是，在本发明中，在光阻区或N型轻掺杂离子注入区中的栅极上方的介质层中也可以设置有接触孔。

请参阅图3，为本发明的一个较佳实施例的N型轻掺杂离子注入对准度的监控结构的俯视示意图；在本实施例中，监控结构位于半导体衬底的非功能区1中，N型阱2设置成若干等间距排布的平行列，栅极3设置成若干等间距排布的平行行，且与N型阱2呈正交排布；虚线框框住的区域为光阻区a，相邻的区域为N型轻掺杂离子注入区b，光阻区a与N型轻掺杂离子注入区b相邻设置且具有公共边；为了便于后续计算对准度偏差，光阻区a的形状优先但不限于为一个内角为45度或30度直角三角形或者正多边形，因为这些图形的几何数据便于计算；在本实施例中，光阻区为正立的内角为45度的直角三角形，N型轻掺杂离子注入区b为倒立的内角为45度的直角三角形，两个图形全等，两个区域的图形的斜边相重叠拼合则构成了正方形的监控结构；针对此情况，光阻区a进行避免覆盖住N型轻掺杂离子注入区b中的N型阱，因此，可以与光阻区a的形状配合设置相邻栅极的间距与相邻N型阱之间的间距相同，且栅极的宽度与N型阱的宽度相同。

光阻区a中，栅极3之间为N型阱2；N型轻掺杂离子注入区b中，栅极3之间为N型阱2和N型轻掺杂离子阱5；在栅极3之间且分别在光阻区的N型阱2和N型轻掺杂离子阱5上方设置有接触孔6；需要说明的是，为了便于表达，在附图3中未显示介质层。

为了便于清楚完整的表达本发明的监控结构，请参阅图4，列出了本发明的一个较佳实施例的含有N型轻掺杂离子注入区和光阻区的截面结构示意图；其中，虚线框内为光阻区；N型轻掺杂离子注入区由N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成，包括：在非功能区1中设置的N型阱2，在N型阱2中设置的N型轻掺杂离子阱5，位于N型轻掺杂离子阱5之间的栅极(未显示)，位于非功能区1表面的介质层7，以及位于介质层7中且对应于N型轻掺杂离子阱5的接触孔6。光阻区由N型阱结构构成，包括：在非功能区1中设置的N型阱2，在N型阱2之间的栅极(未显示)，位于非功能区1表面的介质层7，以及位于介质层7中且对应于N型阱2的接触孔7。

以下将结合附图5-14和具体实施例对N型轻掺杂离子注入对准度的监控方法作进一步详细说明。需说明的是，附图均采用非常简化的形式、使用非精准的比例，且仅用以方便、清晰地达到辅助说明本实施例的目的。

请参阅图5，为本发明的N型轻掺杂离子注入对准度的监控方法的流程示意图；本发明的N型轻掺杂离子注入对准度的监控方法包括监控结构的制备和电子束扫描两个过程：

首先，请参阅图6-11，为本发明的一个较佳实施例的监控结构的各个制备步骤所对应的俯视结构示意图；本实施例的监控结构采用上述附图3和附图4中的监控结构，以制备和采用电子束扫描附图3和附图4中的监控结构的方法为例进行说明；本实施例的监控结构的制备包括：

步骤S01：请参阅图6，提供一个半导体衬底的非功能区1，并在非功能区1中设置N型轻掺杂离子注入区b和光阻区a；

具体的，本发明中，半导体衬底包括用于制备CMOS器件的功能区以及用于制备监控结构的非功能区；半导体衬底可以为任意半导体衬底，在本实施例中，半导体衬底为硅衬底；为便于描述，在图6-11中，仅显示非功能区1的监控结构示意图，而功能区中的CMOS器件的结构和制备为现有技术，在此不再赘述。光阻区a为不进行任何类型轻掺杂离子注入的区域，如图6中虚线框框住的区域；N型轻掺杂离子注入区b为与虚线框相邻的区域。光阻区a与N型轻掺杂离子注入区b相邻设置且具有公共边；在本实施例中，光阻区为正立的内角为45度的直角三角形，N型轻掺杂离子注入区b为倒立的内角为45度的直角三角形，两个图形全等，两个图形拼合起来构成了正方形，也即该正方形为本实施例的监控结构的形状。

步骤S02：请参阅图7，在非功能区1中依次进行N型阱2和栅极3的制备；

具体的，本实施例中，可以采用现有方法在非功能区1中依次进行N型阱2和栅极3的制备，本发明对此不再赘述；需要说明的是，为了实现对CMOS制备工艺中的N型轻掺杂离子注入的实时监控，在制备本发明中的监控结构的过程中，在功能区也在同步制备CMOS器件，这样，一旦在监控结构中发现光阻区出现对准度偏差，则可以知道NMOS器件的N型轻掺杂离子注入出现对准度偏差，从而可以停止制备，并作出相应的修正来消除N型轻掺杂离子注入对准度偏差。N型阱2设置成若干等间距排布的平行列，栅极3设置成若干等间距排布的平行行，且与N型阱2呈正交排布；相邻栅极的间距与相邻N型阱之间的间距相同，且栅极的宽度与N型阱的宽度相同。

步骤S03：请参阅图8，在光阻区上覆盖一层N型轻掺杂离子注入光阻4；

具体的，本实施例中，由于在整个硅衬底的非功能区1上均进行N型轻掺杂离子注入过程，则需要采用光阻将不进行任何类型轻掺杂离子注入区域遮挡住；这里，监控结构的制备过程中，N型轻掺杂离子注入时采用的光阻称为N型轻掺杂离子注入光阻4，N型轻掺杂离子注入光阻4对应的区域则为光阻区；也即是，光阻区是不用进行任何类型轻掺杂离子注入的区域，N型轻掺杂离子注入光阻4的形状与光阻区的形状一致且大小相同。

步骤S04：请参阅图9，向N型轻掺杂离子注入区中的N型阱2中进行N型轻掺杂离子注入，从而在该N型阱中形成N型轻掺杂离子阱5；

具体的，本实施例中，在N型轻掺杂离子注入光阻4的保护下，仅对光阻区之外的区域需要进行N型轻掺杂离子注入的N型阱2中进行N型轻掺杂离子注入；N型轻掺杂离子注入的各个工艺参数可以根据实际工艺要求来设定，本发明对此不作限制。

步骤S05：请参阅图10，去除N型轻掺杂离子注入光阻4；

具体的，本实施例中，在N型轻掺杂离子注入完成后，可以但不限于湿法刻蚀去除N型轻掺杂离子注入光阻4。

步骤S06：请参阅图11，在非功能区表面形成介质层(图11中未显示介质层)，在介质层中且分别对应于N型轻掺杂离子阱5和光阻区a中的N型阱2上方形成接触孔6；

具体的，本实施例中，可以但不限于采用化学气相沉积法沉积介质层，介质层的材料可以但不限限于为氧化硅。

本实施例中，可以采用现有技术形成接触孔，包括采用光刻和等离子体干法刻蚀工艺在介质层中形成接触孔结构，然后在接触孔结构中填充导电材料，比如金属钨，从而形成具有导电功能的接触孔。

至此，本实施例中的监控结构就制作完毕，以下结合附图12-14对实施例的电子束扫描过程作进一步说明，本实施例的电子束扫描过程包括以下步骤：

步骤S07：在正电势电子束扫描模式下，采用电子束对监控结构进行扫描，得到测试结构的实际电压衬度影像图；

具体的，本实施例中，电子束对监控结构进行扫描的参数可以根据实际工艺要求来设定，较佳的，可以为：像素为30～80nm，着陆能量为500～1200eV，电流为50～100nA。电压衬度影像反映成图形称之为电压衬度影像图；在正电势电子束扫描模式下，监控结构中的N型轻掺杂离子注入区中的N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，光阻区中N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔，如图12所示，为本发明的一个较佳实施例的正电势扫描模式下含有N型轻掺杂离子注入区和光阻区的监控结构的截面结构及其接触孔的电压衬度影像示意图，其中，虚线框为光阻区；接触孔显示亮孔或暗孔是根据接触孔所对应的结构对电子束中的二次电子的吸收程度来决定的；在正电势电子束扫描模式下，当接触孔所对应的结构导通时，则吸收大量的二次电子，从而接触孔显示为亮孔，反之，则显示为暗孔；在本实施例中，在正电势电子束扫描模式下，N型阱2-N型轻掺杂离子阱5构成的同型NN结构呈导通状态，其可以吸收大量的二次电子，二次电子从N型轻掺杂离子阱5流向其下面的N型阱2，从而该结构对应的接触孔6显示为亮孔；而光阻区a中的N型阱2构成的结构呈不导通状态，大量的二次电子聚集在N型阱2表面，从而该结构对应的接触孔6显示为暗孔。

步骤S08：设置监控结构在无对准度偏差情况下的标准电压衬度影像图；

具体的，请参阅图13，为本发明的一个较佳实施例的监控结构的标准电压衬度影像图；根据前述原理，在无对准度偏差的情况下，N型轻掺杂离子注入区中N型阱2-N型轻掺杂离子阱5结构对应的接触孔显示为亮孔，光阻区的N型阱2结构对应的接触孔显示为暗孔。标准电压衬度影像图为无对准度偏差情况下的数据，可以根据现有的图形模拟软件将相关数据输入得到标准电压衬度影像图。

这里，标准电压衬度影像还可以通过以下方式得到：在电子束扫描仪中设置缺陷扫描程式，设定本发明的监控结构中至少一个接触孔发生异常，根据监控结构的类型模拟出监控结构的标准电压衬度影像图。

还可以通过设定监控结构中的一特定位置为坐标原点，将每个接触孔的位置数据和尺寸数据输入到模拟软件中，经仿真模拟得到标准电压衬度影像图。

步骤S09：将实际电压衬度影像图与标准电压衬度影像图进行对比，找出亮度变化的接触孔；其中，包括N型阱-N型轻掺杂离子阱结构中由亮孔变为暗孔的接触孔或者N型阱结构中由暗孔变为亮孔的接触孔；

具体的，请参阅图14，为本发明的一个较佳实施例的进行电子束扫描后所形成的监控结构的实际电压衬度影像与标准电压衬度影像的对比示意图，为了便于表达，图14中不显示监控结构中的N型轻掺杂离子阱，以及半导体衬底的非功能区。

实际电压衬度影像图与标准电压衬度影像图对比之下，光阻区发生对准度偏差情况则可以有效的检测出来；当光阻区发生对准度偏差时，也即是实际光阻区发生各种不对准的情况下，某一接触孔在标准电压衬度影像图中所对应的影像与实际电压衬度影像图中所对应的影像会出现亮度差异，这就表明实际光阻区产生了对准度偏差，产生亮度变化的这些接触孔的位置或数量等数据则可以反映出光阻区发生对准偏差的情况。

在图14中，粗虚线表示实际光阻区，细虚线表示未发生偏移的光阻区，实际光阻区向右发生整体偏移，在标准电压衬度影像图中光阻区左边的N型阱上显示暗孔的接触孔在实际电压衬度影像图中显示为亮孔，标准电压衬度影像图中N型轻掺杂离子注入区右边显示为亮孔的接触孔在实际电压衬度影像图中显示为暗孔，这就表明光阻区向右发生了偏移。

步骤S10：根据所找出的发生亮度变化的接触孔的数据得到光阻区的对准度偏差，也即是N型轻掺杂离子注入对准度偏差。

具体的，请参阅图14，根据发生影像变化的接触孔的数据比如接触孔间距、接触孔与光阻区的距离等位置数据，以及发生异常变化的接触孔的数量等，则可以计算出光阻区偏移量，即对准度偏差；图14中，光阻区向右发生偏移，偏移量为水平方向上相邻的两个接触孔的间距，也即是N型轻掺杂离子阱离子注入对准度偏差。需要说明的是，在实际监控过程中，光阻区偏移量可能存在不是接触孔间距的整数倍的情况，然当光阻区偏移造成光阻区的N型阱区中注入了N型轻掺杂离子时，该注入位置也会显示为亮孔，这就难免造成仅仅取接触孔间距的整数倍的数值不准确，此时，只要通过调整使实际的光阻区遮挡住其下面所有的N型阱即可，比如，根据亮度变化的接触孔的位置，初步设定实际偏移量非整数部分在偏移方向上的相邻两个接触孔间距范围内，将该一个间距再分为多个区间，比如1.2、1.4、1.6、1.8等，利用这些偏移量来调整实际光阻区，直至监控结构的实际电压衬度影像图与标准电压衬度影像图相同。然而，根据实际电压衬度影像图与标准电压衬度影像图的对比，还可以采用现有的其它数学方法来得到光阻区的对准度偏差，本发明对此不作限制。例如，设定偏移量在x～x+1范围内，其中x为非负整数，采用二次迭代法或其它迭代法，来逐步选取偏移量，并根据此偏移量来调整光阻区的位置，重新制备监控结构和电子束扫描，直至实际电压衬度影像图与所述标准电压衬度影像图相同。

需要说明的是，针对CMOS的电子束扫描过程中，由于CMOS器件中存在不同类型的缺陷，则需要建立多个不同类型的监控结构，那么如何在电子束扫描时准确的找到所需要的监控结构的电压衬度影像也是十分重要的；因此，在本发明的另一个较佳实施例中，电子束扫描过程还可以具体包括：

步骤A01：在正电势电子束扫描模式下，利用电子束扫描仪器根据缺陷检测程式对监控结构进行扫描得到监控结构中的接触孔的实际位置的电压衬度影像图；这里，接触孔的实际位置的电压衬度影像图可以通过拍摄电子扫描图片得到。

具体的，在缺陷检测程式中，设定不同类型的监控结构中至少有一个接触孔出现缺陷；所说的缺陷不一定是真正的缺陷，只是一种假设；根据假设出现缺陷的位置得到监控结构的类型数据，并与接触孔实际位置的电压衬度影像图进行对照，找到本发明中的监控结构的接触孔实际位置的影像图。

步骤A02：在电子束扫描仪器中建立缺陷检测程式，根据缺陷检测程式得到监控结构中的接触孔的标准位置的电压衬度影像图；这里，接触孔的标准位置的电压衬度影像图可以通过数据模拟程序得到；

步骤A03：根据实际位置的电压衬度影像图与标准位置的电压衬度影像图进行对比，得到接触孔的实际位置的对准度偏差分布数据；

步骤A04：根据上述对准度偏差分布数据得到光阻区的对准度偏差。

综上所述，本发明的利用同型结特性来监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构及方法，采用了在正电势电子束扫描模式下同型NN结为导通状态而单独N阱为不导通状态的原理，从而设计出具有N型阱-N型轻掺杂离子阱结构和单独N型阱结构的监控结构，监控结构中，划分出光阻区和N型轻掺杂离子注入区，光阻区为不进行N型轻掺杂离子注入区，即由N型阱结构构成，N型轻掺杂离子注入区由N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成；在正电势电子束扫描模式下，N型阱-N型轻掺杂离子阱结构上的接触孔显示为亮孔，单独N型阱结构上的接触孔显示为暗孔，因此，一旦光阻区发生对准度偏差，将导致所对应的接触孔发生亮度变化；然后根据发生亮度变化的接触孔的数据比如位置数据、数量等得到光阻区的对准度偏差，也即是N型轻掺杂离子注入对准度偏差；从而实现对CMOS中N型轻掺杂离子注入对准度的实时监控，避免PMOS器件失效和成本的不必要的浪费。

虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然所述实施例仅为了便于说明而举例而已，并非用以限定本发明，本领域的技术人员在不脱离本发明精神和范围的前提下可作若干的更动与润饰，本发明所主张的保护范围应以权利要求书所述为准。

Claims (10)

1.一种利用同型结监控N型轻掺杂离子注入对准度的结构，所述监控结构位于半导体衬底的非功能区域中，其特征在于，所述监控结构包括N型轻掺杂离子注入区和光阻区，所述光阻区为不注入任何类型的轻掺杂离子的区域，其中，

所述N型轻掺杂离子注入区由第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构构成，包括：在非功能区中设置的第一N型阱，在所述第一N型阱中设置的N型轻掺杂离子阱，位于所述N型轻掺杂离子阱之间的第一栅极，位于所述非功能区表面的第一介质层，以及位于所述第一介质层中且对应于所述N型轻掺杂离子阱的接触孔；

所述光阻区由第二N型阱结构构成，包括：在非功能区中设置的第二N型阱，位于所述第二N型阱之间的第二栅极，位于非功能区表面的第二介质层，以及位于所述第二介质层中且对应于所述第二N型阱的接触孔；

在正电势电子束扫描模式下得到的电压衬度影像图中，所述第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔。

2.根据权利要求1所述的监控结构，其特征在于，所述光阻区与所述N型轻掺杂离子注入区相邻设置且具有公共边。

3.根据权利要求1所述的监控结构，其特征在于，整个所述监控结构中的第一N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的第一栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的第一栅极所在的行与整个所述监控结构中的第一N型阱所在的列呈正交分布；整个所述监控结构中的第二N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的第二栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的第二栅极所在的行与整个所述监控结构中的第二N型阱所在的列呈正交分布；所述光阻区中，所述第二栅极之间仅为所述第二N型阱；所述N型轻掺杂离子注入区中，所述第一栅极之间设置有所述第一N型阱及N型轻掺杂离子阱。

4.根据权利要求3所述的监控结构，其特征在于，所述光阻区的形状为一内角为45度的直角三角形，所述N型轻掺杂离子注入区的形状为倒立的一内角为45度的直角三角形，且所述光阻区的斜边与所述N型轻掺杂离子区的斜边向重叠；整个所述监控结构中的第一栅极之间的间距与整个所述监控结构中的第一N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构中的第一栅极的宽度与整个所述监控结构中的第一N型阱的宽度相同；整个所述监控结构中的第二栅极之间 的间距与整个所述监控结构中的第二N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构中的第二栅极的宽度与整个所述监控结构中的第二N型阱的宽度相同。

5.一种利用同型结对N型轻掺杂离子注入对准度进行监控的方法，其特征在于，包括监控结构的制备和电子束扫描两个过程，其中，

所述监控结构的制备包括：

步骤S01：提供一个半导体衬底的非功能区，并在所述非功能区中设置N型轻掺杂离子注入区和光阻区；

步骤S02：在所述非功能区中依次进行N型阱和栅极的制备；其中，所述N型阱包括第一N型阱和第二N型阱，栅极包括第一栅极和第二栅极；

步骤S03：在所述光阻区上覆盖一层N型轻掺杂离子注入光阻；

步骤S04：向所述N型轻掺杂离子注入区的第一N型阱中进行N型轻掺杂离子注入，从而在该第一N型阱中形成N型轻掺杂离子阱；

步骤S05：去除所述N型轻掺杂离子注入光阻；

步骤S06：在所述非功能区表面形成介质层，在所述介质层中且分别对应于所述N型轻掺杂离子阱和所述第二N型阱上方形成接触孔；

所述电子束扫描过程包括：

步骤S07：在正电势电子束扫描模式下，采用电子束对所述监控结构进行扫描，得到所述监控结构的实际电压衬度影像图；其中，第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述光阻区的第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔；

步骤S08：设置所述监控结构在无对准度偏差情况下的标准电压衬度影像图；其中，第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构对应的接触孔显示为亮孔，所述光阻区的第二N型阱结构对应的接触孔显示为暗孔；

步骤S09：将所述实际电压衬度影像图与所述标准电压衬度影像图进行对比，找出发生亮度变化的接触孔：其中，包括第一N型阱-N型轻掺杂离子阱结构中由亮孔变为暗孔的接触孔或者所述光阻区的第二N型阱结构中由暗孔变为亮孔的接触孔；

步骤S10：根据所找出的发生亮度变化的所述接触孔的数据得到所述光阻区的对准度偏差，也即是所述N型轻掺杂离子注入对准度偏差。

6.根据权利要求5所述的监控方法，其特征在于，所述步骤S08具体包括：设定监控结构中的一特定位置为坐标原点，将每个所述接触孔的位置数据和尺寸数据输入到模拟软件中，经仿真模拟得到所述标准电压衬度影像图。

7.根据权利要求5所述的监控方法，其特征在于，所述步骤S07中，所述电子束对所述监控结构进行扫描的参数包括：像素为30～80nm，着陆能量为500～1200eV，电流为50～100nA。

8.根据权利要求5所述的监控方法，其特征在于，所述光阻区与所述N型轻掺杂离子注入区相邻设置且具有公共边。

9.根据权利要求5所述的监控方法，其特征在于，整个所述监控结构中的N型阱呈若干平行的列等间距排布，整个所述监控结构中的栅极呈若干平行的行等间距排布；且整个所述监控结构中的栅极所在的行与整个所述监控结构中的N型阱所在的列呈正交分布；

所述光阻区中，所述第二栅极之间仅为所述第二N型阱；所述N型轻掺杂离子注入区中，所述第一栅极之间设置有所述第一N型阱及N型轻掺杂离子阱。

10.根据权利要求9所述的监控方法，其特征在于，所述光阻区的形状为一内角为45度的直角三角形，所述N型轻掺杂离子注入区的形状为倒立的一内角为45度的直角三角形，且所述光阻区的斜边与所述N型轻掺杂离子区的斜边向重叠；整个所述监控结构的栅极之间的间距与整个所述监控结构的N型阱之间的间距相同，且整个所述监控结构的栅极的宽度与整个所述监控结构的N型阱的宽度相同。