CN104109482A - 一种铝合金抛光液及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出了一种铝合金抛光液,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶92.5~97份、稳定剂1~2.5份、活性剂1~2.5份和增效剂1~2.5份;其制备方法如下:采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;在真空负压状态下将上述过滤后的硅溶胶加入密闭反应罐中;在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。本发明的有益效果如下:本发明制备的铝合金抛光液无腐蚀、用量小、成本低,划伤少、抛光速率高,与传统酸性抛光液对比具有无污染、易回收的优点。
Description
技术领域
本发明涉及铝合金抛光技术领域,特别是指一种铝合金抛光液及其制备方法。
背景技术
铝合金是一种良好的结构材料,具有良好的力学物理性能和高温下的化学稳定性,因此,随着手机壳体、笔记本电脑壳体、电子设备、机械设备、汽车和精密零件相关行业的发展,铝合金材料的需求量越来越大,具有广泛的应用前景。
另外,由于铝合金比重较轻、强度高、易加工、尺寸稳定,具有优良的工艺性能、良好的耐腐蚀性、成本低、可再生利用,因此被誉为二十一世纪绿色工程金属,能在很多地方代替钢铁合金。
随着铝合金材料的广泛应用,对其表面光亮度的要求越来越严格。影响铝合金表面光亮度的关键因素是抛光液的性能。目前,市面上现有的铝合金抛光液大都存在如下问题:铝合金抛光液的种类少,成本高、质量差,划伤多抛光效率低,不能满足显微检验表面质量的要求。
发明内容
本发明提出一种铝合金抛光液及其制备方法,解决了现有技术中铝合金抛光液划伤多、抛光效率低的问题。
本发明的技术方案是这样实现的:
一种铝合金抛光液,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶92.5~97份、稳定剂1~2.5份、活性剂1~2.5份和增效剂1~2.5份。
作为优选,所述各原料的重量配比为:硅溶胶94.75份、稳定剂1.75份、活性剂1.75份和增效剂1.75份。
作为优选,所述硅溶胶的粒径为60~70纳米,其浓度为37%~42%,胶体形状为圆形,莫氏硬度为7。
作为优选,所述稳定剂采用四甲基亚烷基二胺、二甲基乙醇胺和脂肪醇聚氧乙烯醚按质量比为1:1:1的比例混合制备而成。
作为优选,所述活性剂采用脂肪醇聚氧乙烯醚O-20、烷基酚聚氧乙烯(7)醚和脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9按质量比为1:1:1的比例混合制备而成。
作为优选,所述增效剂采用氢氧化钾或氢氧化钠。
一种铝合金抛光液的制备方法,其步骤如下:
(1)采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
(2)在真空负压状态下将上述过滤后的浓度为37%~42%的硅溶胶加入密闭反应罐中;
(3)在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。
本发明所述铝合金抛光液的制备方法全程均在万级洁净间内进行,保证了产品的生产环境安全,避免外界灰尘、悬浮颗粒进入生产线。
本发明的有益效果为:
采用的硅溶胶粒径范围窄,对铝合金表面粗糙度控制效果好,胶体为圆形能有效避免铝合金表面形成不规则腐蚀坑,莫氏硬度为7不会对铝合金表面造成划伤;
采用3种碱性物质混合作为稳定剂,能使抛光下来的铝合金粉末有效包裹团聚,对铝合金表面光洁度无法造成伤害,提高铝合金表面的光洁度;有戏控制抛光过程中的稳定性,减少表面暗斑,降低铝合金表面粗糙度,消除转移性腐蚀坑及局部点腐蚀坑;
加入活性剂有效去除铝合金表面的油性物质,同时提高铝合金表面的光洁度,增加表面亮度;
加入增效剂能使铝合金抛光液具有较好的悬浮性,使得抛光液不发生沉降,加快磨削速度,进而增加抛光速率;
采用100纳米级陶瓷膜过滤系统对硅溶胶原料进行过滤,能有效去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质,避免杂质混入反应罐内,避免了大于100纳米的硅溶胶颗粒进入抛光液产品中,避免抛光过程中大粒径硅溶胶对铝合金表面造成划伤;
本发明制备的铝合金抛光液无腐蚀、用量小、成本低,与传统酸性抛光液对比具有无污染、易回收的优点。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
原材料制备:
硅溶胶:采用粒径为60~70纳米、浓度为37%~42%、胶体形状为圆形、莫氏硬度为7的硅溶胶作原料,并采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
稳定剂:采用四甲基亚烷基二胺、二甲基乙醇胺和脂肪醇聚氧乙烯醚按质量比为1:1:1的比例混合,制备成稳定剂;
活性剂:采用脂肪醇聚氧乙烯醚O-20、烷基酚聚氧乙烯(7)醚和脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9按质量比为1:1:1的比例混合,制备成活性剂;
增效剂:采用氢氧化钾或氢氧化钠作为增效剂;
实施例1
一种铝合金抛光液,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶92.5份、稳定剂1份、活性剂1份和增效剂1份。
上述铝合金抛光液的制备方法,其步骤如下:
(1)采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
(2)在真空负压状态下将上述过滤后的浓度为37%~42%的硅溶胶加入密闭反应罐中;
(3)在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。
实施例2
一种铝合金抛光液,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶97份、稳定剂2.5份、活性剂2.5份和增效剂2.5份。
上述铝合金抛光液的制备方法,其步骤如下:
(1)采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
(2)在真空负压状态下将上述过滤后的浓度为37%~42%的硅溶胶加入密闭反应罐中;
(3)在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。
实施例3
一种铝合金抛光液,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶94.75份、稳定剂1.75份、活性剂1.75份和增效剂1.75份。
上述铝合金抛光液的制备方法,其步骤如下:
(1)采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
(2)在真空负压状态下将上述过滤后的浓度为37%~42%的硅溶胶加入密闭反应罐中;
(3)在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种铝合金抛光液,其特征在于,它由下述重量份的原料制成:硅溶胶92.5~97份、稳定剂1~2.5份、活性剂1~2.5份和增效剂1~2.5份。
2.根据权利要求1所述的一种铝合金抛光液,其特征在于,所述各原料的重量配比为:硅溶胶94.75份、稳定剂1.75份、活性剂1.75份和增效剂1.75份。
3.根据权利要求1所述的一种铝合金抛光液,其特征在于,所述硅溶胶的粒径为60~70纳米,其浓度为37%~42%,胶体形状为圆形,莫氏硬度为7。
4.根据权利要求1所述的一种铝合金抛光液,其特征在于,所述稳定剂采用四甲基亚烷基二胺、二甲基乙醇胺和脂肪醇聚氧乙烯醚按质量比为1:1:1的比例混合制备而成。
5.根据权利要求1所述的一种铝合金抛光液,其特征在于,所述活性剂采用脂肪醇聚氧乙烯醚O-20、烷基酚聚氧乙烯(7)醚和脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9按质量比为1:1:1的比例混合制备而成。
6.根据权利要求1所述的一种铝合金抛光液,其特征在于,所述增效剂采用氢氧化钾或氢氧化钠。
7.一种权利要求1所述的铝合金抛光液的制备方法,其特征在于,其方法步骤如下:
(1)采用100纳米级陶瓷膜过滤系统去除硅溶胶原料中的金属离子和其他杂质;
(2)在真空负压状态下将上述过滤后的浓度为37%~42%的硅溶胶加入密闭反应罐中;
(3)在真空负压状态下将稳定剂、活性剂和增效剂加入密闭反应罐中,然后充分搅拌、混合均匀,制得成品铝合金抛光液。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106752969A (zh) * | 2016-11-22 | 2017-05-31 | 启东市清清蔬果农地股份专业合作社 | 一种铝合金外壳的抛光液 |
CN107057580A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 合肥博之泰电子科技有限公司 | 一种硅溶胶抛光液及其制备方法 |
CN107573855A (zh) * | 2017-08-26 | 2018-01-12 | 安徽胜利精密制造科技有限公司 | 电脑外壳用抛光剂 |
CN110746890A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-02-04 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种珠光砖用陶瓷抛光液 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000243734A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Clariant Fr Sa | アルミニウムまたはアルミニウム合金導電性材料の層の機械化学的研磨方法 |
CN1861726A (zh) * | 2006-06-13 | 2006-11-15 | 河北工业大学 | 超大规模集成电路铝布线抛光液 |
CN101353556A (zh) * | 2007-07-23 | 2009-01-28 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 铝合金用抛光液 |
CN101368069A (zh) * | 2007-08-16 | 2009-02-18 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 |
JP2011009747A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Siltronic Ag | 半導体ウェハの製造方法 |
CN102010669A (zh) * | 2010-07-21 | 2011-04-13 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 蓝宝石衬底材料cmp抛光液的制备方法 |
CN102020975A (zh) * | 2010-07-21 | 2011-04-20 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 镁铝合金材料表面化学机械抛光液的制备方法 |
US20110203186A1 (en) * | 2008-11-06 | 2011-08-25 | Yoshiaki Oshima | Polishing liquid composition for magnetic disk substrate |
WO2013077281A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 株式会社 フジミインコーポレーテッド | 合金材料の研磨方法及び合金材料の製造方法 |
-
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000243734A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Clariant Fr Sa | アルミニウムまたはアルミニウム合金導電性材料の層の機械化学的研磨方法 |
CN1861726A (zh) * | 2006-06-13 | 2006-11-15 | 河北工业大学 | 超大规模集成电路铝布线抛光液 |
CN101353556A (zh) * | 2007-07-23 | 2009-01-28 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 铝合金用抛光液 |
CN101368069A (zh) * | 2007-08-16 | 2009-02-18 | 江苏海迅实业集团股份有限公司 | 锌和铬加工用的纳米二氧化硅磨料抛光液 |
US20110203186A1 (en) * | 2008-11-06 | 2011-08-25 | Yoshiaki Oshima | Polishing liquid composition for magnetic disk substrate |
JP2011009747A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Siltronic Ag | 半導体ウェハの製造方法 |
CN102010669A (zh) * | 2010-07-21 | 2011-04-13 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 蓝宝石衬底材料cmp抛光液的制备方法 |
CN102020975A (zh) * | 2010-07-21 | 2011-04-20 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 镁铝合金材料表面化学机械抛光液的制备方法 |
WO2013077281A1 (ja) * | 2011-11-25 | 2013-05-30 | 株式会社 フジミインコーポレーテッド | 合金材料の研磨方法及び合金材料の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106752969A (zh) * | 2016-11-22 | 2017-05-31 | 启东市清清蔬果农地股份专业合作社 | 一种铝合金外壳的抛光液 |
CN107057580A (zh) * | 2017-06-28 | 2017-08-18 | 合肥博之泰电子科技有限公司 | 一种硅溶胶抛光液及其制备方法 |
CN107573855A (zh) * | 2017-08-26 | 2018-01-12 | 安徽胜利精密制造科技有限公司 | 电脑外壳用抛光剂 |
CN110746890A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-02-04 | 广东纳德新材料有限公司 | 一种珠光砖用陶瓷抛光液 |
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