CN104105573A - 研磨垫及研磨装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及研磨垫，其具有：在研磨面上以规定的间隔平行地设置的多个第一槽；设置在所述研磨面上且与所述第一槽交叉的多个第二槽；及设置在所述第一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供给孔及研磨液吸引孔构成的多个孔。

Description

研磨垫及研磨装置

技术领域

本发明涉及研磨垫及使用了研磨垫的研磨装置。

背景技术

液晶显示器等所使用的FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用的玻璃板通过被称为浮法的玻璃制法将熔融玻璃成形为板状，并将其通过专利文献1等公开的连续式的研磨装置，研磨除去表面的微小的凹凸、弯曲，由此制造成满足作为FPD用的玻璃板所要求的平坦度的薄板。

专利文献1的研磨装置使用由分散剂使研磨材料分散而成的料浆，利用研磨垫对玻璃板的表面(以下，称为被研磨面)进行研磨。料浆从设置在研磨垫的中央部的料浆供给孔向研磨垫的研磨面与玻璃板的被研磨面之间供给，但是当料浆的供给量在研磨面上变得不均匀时，研磨出的玻璃板的被研磨面的平坦度恶化。因此，在研磨装置中，需要使料浆均匀地遍及研磨垫的研磨面整个区域。

本申请人在专利文献2中提出了如下的研磨垫，为了使料浆均匀地遍及研磨垫的研磨面整个区域，而在研磨面的中央部具备料浆供给孔，通过从中心朝向外侧形成的多个槽将研磨面分割成放射状。

另外，专利文献3记载的研磨装置的研磨垫在其研磨面上大致等间隔地具备多个槽，由此在研磨加工时促进研磨剂的扩散。而且，专利文献3的研磨垫在其研磨面的大致整个区域具备多个交替排列的研磨剂供给孔和研磨剂排出孔。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】日本国特开2004-122351号公报

【专利文献2】日本国特开2011-235425号公报

【专利文献3】日本国特开2009-125873号公报

发明内容

【发明要解决的课题】

然而，即便是专利文献2、3的研磨垫，也存在对于一边的长度超过2000mm的大型的玻璃板无法进行高品质且高生产性的研磨加工这样的问题。

即，专利文献2的研磨垫从在研磨垫的研磨面的中央部等具备的料浆供给孔供给料浆，并经由放射状的槽使料浆遍及研磨面整个区域，但是当为了对前述的大型的玻璃板进行研磨而使该研磨垫大型化时，难以使料浆遍及研磨面整个区域。

另外，专利文献3的研磨垫从在研磨面具备的多个研磨剂供给孔供给研磨剂，经由在研磨面上等间隔地具备的槽而使研磨剂遍及研磨面整个区域，但是当为了对前述的大型的玻璃板进行研磨而使该研磨垫大型化时，难以使研磨剂遍及研磨面整个区域。

因此，在专利文献2、3的研磨垫中，当增加来自料浆(研磨剂)供给孔的料浆(研磨剂)供给量而尝试要消除上述问题时，专利文献2、3的研磨垫是基本上难以使料浆遍及研磨面整个区域的构成，因此从料浆供给孔供给的料浆量增多为从研磨面的槽向外部排出的料浆量以上。这种情况下，料浆滞留在研磨垫与玻璃板之间而产生背压。其结果是，玻璃板从研磨垫分离，该分离部分难以由研磨垫研磨，因此产生玻璃板的研磨品质、生产性下降这样的问题。需要说明的是，背压能够由设置在将料浆供给孔和料浆供给源连接的管路上的压力计测定。

另外，因所述背压也会产生以下的问题。

即，研磨垫被定期地压紧于整形修整砂轮而进行整形修整。这种情况下，一边从研磨垫的料浆供给孔将整形修整用液体向研磨垫的研磨面与整形修整砂轮的研磨面之间供给，一边进行整形修整，但是在该整形修整作业时，由于整形修整用液体产生的背压作用于研磨垫，因此存在该背压产生部位的研磨面未被整形修整这样的问题。在未进行整形修整的研磨面上，附着有作为料浆中的成分的氧化铈等研磨材料，若在此状态下研磨玻璃板，则所述研磨材料附着于玻璃板而成为使玻璃板的品质下降的原因。而且，未进行整形修整的研磨面的研磨能力较低，因此成为研磨时间变长而使玻璃板的生产性下降的原因。此外，由于在整形修整时研磨垫的研磨面未被均匀地研磨，因此研磨垫的寿命也变短。

本发明鉴于这样的情况而作出，其目的在于提供一种尤其是对一边的长度超过2000mm的大型的板状体进行研磨时，不减少研磨液的供给量，减少背压并使研磨液遍及研磨垫的研磨面的整个区域，由此能够提高研磨品质并缩短研磨时间而提高生产性的研磨垫及研磨装置。

【用于解决课题的方案】

为了实现所述目的，本发明的研磨垫具有：在研磨面上以规定的间隔平行地设置的多个第一槽；设置在所述研磨面上且与所述第一槽交叉的多个第二槽；及设置在所述第一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供给孔及研磨液吸引孔构成的多个孔。

根据本发明，在研磨垫的研磨面除了具备第一槽之外，还具备与第一槽交叉的第二槽，因此从研磨液供给孔向研磨面供给的研磨液通过第一槽及第二槽而在研磨面上高效率地扩散。由此，在板状体与研磨垫之间产生的背压下降，因此板状体的研磨品质提高，而且，能够增加研磨液的供给量，从而能够缩短研磨时间并提高生产性。

本发明的第二槽将所述孔与所述孔连通。即，所述孔是研磨液供给孔及研磨液吸引孔，因此第二槽可以将研磨液供给孔彼此连通，而且，也可以将研磨液供给孔与研磨液吸引孔连通，此外还可以将研磨液吸引孔彼此连通。从研磨液供给孔供给的研磨液通过第一槽及第二槽，由此向研磨垫的研磨面整个区域扩散。而且，第二槽相对于仅具备第一槽的研磨垫，仅设置在该研磨面中的发生背压升高的部位即可。此外，第二槽相对于第一槽的交叉方式可以是正交方向，也可以是该方向以外的方向。而且，第二槽可以为直线状，也可以为曲线状。

优选的是，本发明的所述多个第一槽贯通到与所述研磨面相接的外周面，所述多个第二槽中，该多个第二槽中的一部分的槽相对于所述外周面贯通，或者该多个第二槽的全部的槽相对于所述外周面非贯通。

在研磨垫的研磨面具备多个槽的情况在研磨液的扩散、排出的观点上优选。然而，随着槽的个数增加而板状体的被研磨面上产生因槽的边缘引起的“条纹”，有时会使板状体的研磨品质恶化。由此，新具备的第二槽并不是随便地具备多个，而是只要在用于减少背压的必要部位上具备必要长度即可。即，将多个第二槽的一部分相对于所述外周面贯通，或者将该多个第二槽的全部的槽相对于所述外周面非贯通，由此能够使第二槽的长度比第一槽缩短，能够抑制“条纹”的产生。而且，即使缩短第二槽的长度，流入到第二槽的研磨液也经由与第一槽交叉的交叉部而向第一槽流入，并从研磨面的外周面排出，因此研磨液不会滞留在板状体与研磨垫之间，不会产生背压。如此能够抑制背压的本发明的研磨垫在整形修整时也利用整形修整砂轮平坦地研磨，因此板状体的研磨品质提高，而且，研磨时间也能够大幅缩短，因此板状体的生产性也提高。而且，还具有研磨垫的寿命也延长的优点。

优选的是，本发明的所述研磨液供给孔配置在所述研磨面的整个区域，并且设定为所述研磨面的中央部的配置密度高于所述中央部以外的配置密度，所述第二槽配置在所述研磨面的整个区域，并且设定为所述研磨面的中央部的配置密度高于除了所述中央部以外的部分的配置密度。

根据本发明，为了使研磨液遍及研磨垫的研磨面的整个区域，而优选在研磨面的中央部具备多个研磨液供给孔，并且，为了抑制在中央部产生的背压，在研磨面的中央部具备多个第二槽。由此，研磨液容易遍及研磨面整个区域，而且，也能够可靠地抑制在中央部产生的背压。

优选的是，本发明的所述第二槽设置成以所述研磨面的中心点为中心而成为点对称。

根据本发明，通过使第二槽设置成以研磨面的中心点为中心而成为点对称，而板状体的被研磨面的平坦度进一步提高。

本发明优选的是，为了对一边的长度超过2000mm的矩形形状的板状体的被研磨面进行研磨，使所述研磨面的表面积大于所述被研磨面的表面积。

通过本发明的研磨垫研磨的板状体的一边的长度如前述那样优选超过2000mm，但是在一边的长度超过2500mm的情况，尤其是在一边的长度超过2800mm的板状体的研磨中特别有效。而且，研磨垫可以是圆形，也可以是矩形。

另外，本发明为了实现所述目的，提供一种通过本发明的研磨垫对板状体的被研磨面进行研磨的研磨装置。

本发明的研磨装置可以是以公转轴为中心而使板状体侧公转并使研磨垫侧回旋的方式的研磨装置，也可以是使板状体侧自转及公转的方式的研磨装置。需要说明的是，通过使板状体侧公转，能够得到用于将板状体的表面的微小凹凸除去的力。

【发明效果】

根据本发明的研磨垫及研磨装置，即使在对大型的板状体进行研磨的情况下，也不会减少研磨液的供给量，能够减少背压并使研磨液遍及研磨垫的研磨面的整个区域，因此研磨品质及生产性提高。

附图说明

图1是表示实施方式的研磨装置的整体结构的俯视图。

图2是托架及膜框的组装立体图。

图3是表示研磨头及研磨台的实施方式的侧视图。

图4是表示研磨平台的结构的包含局部剖切部的立体图。

图5是表示膜框对于托架的安装结构的主要部分放大剖视图。

图6(a)是表示使膜体膨胀而从膜框将玻璃板拆卸的初始状态的图。

图6(b)是从压缩空气喷射喷嘴将压缩空气向玻璃板的缘部与膜体的分界部喷射的图。

图6(c)是从膜体将玻璃板剥离的说明图。

图6(d)是将玻璃板从膜体完全拆卸而载置在工作台上的说明图。

图6(e)是通过拆卸装置从托架将膜框拆卸而将膜框载置于千斤顶的说明图。

图7是表示搬运装置的结构的立体图。

图8是表示搬运装置的结构的主要部分放大立体图。

图9是表示搬运装置的结构的俯视图。

图10是表示以公转中心为中心进行公转的膜框的移动轨迹的说明图。

图11是研磨垫的研磨面的俯视图。

图12是研磨垫的研磨面的主要部分放大立体图。

具体实施方式

以下，按照附图，说明本发明的研磨垫及研磨装置的优选的实施方式。

图1是表示实施方式的研磨装置10的整体结构的俯视图。图2是托架52及膜框14的组装立体图。图3是表示研磨头50及研磨台的实施方式的侧视图。

研磨装置10是将例如一边的长度超过2000mm且厚度为0.2mm～0.7mm的矩形的大型的玻璃板G的被研磨面研磨成液晶显示器用玻璃板所需的平坦度的研磨装置。

如图1那样，研磨装置10主要具备将研磨前的玻璃板G搬入的玻璃板搬入用输送设备12、将玻璃板G粘贴于膜框14的玻璃板粘贴台16、第一研磨台18、第二研磨台20、将研磨完成后的玻璃板G从膜框14拆卸的玻璃板拆卸台22、玻璃板搬出用输送设备24、膜框清洗台26、膜框干燥台28、及膜框送回输送设备30。

以下，为了简化说明，对于玻璃板粘贴台16、第一研磨台18、第二研磨台20、玻璃板拆卸台22、膜框清洗台26及膜框干燥台28，仅记载为台16、18、20、22、26、28。

在研磨装置10设有从台16向台18搬运膜框14的搬运装置150、从台18向台20搬运膜框14的搬运装置152、及从台20向台22搬运膜框14的搬运装置154。上述的搬运装置150、152、154为同一结构且由统一控制研磨装置10的控制部200来控制其动作，在图1上沿左右方向同步地往复移动。

由玻璃板搬入用输送设备12搬入的研磨前的玻璃板G被设置在机器人32的臂33上的吸附垫34吸附保持。并且，通过臂33的旋转动作而从玻璃板搬入用输送设备12向输送设备36移载，由输送设备36向台16搬运。

在台16中，研磨前的玻璃板G粘贴于膜框14。对该粘贴方法进行说明时，膜框14在台16中，由未图示的升降装置保持，在玻璃板G位于膜框14的下方时，通过升降装置使膜框14下降移动，将在图2所示的膜框14上张设的具有挠性及自吸附性的膜体38向玻璃板G的非研磨面(玻璃板G的与被研磨面相对的相对面)压紧。通过该按压力而将玻璃板G的非研磨面粘贴于膜体38。然后，将膜框14保持于图1的搬运装置150，向图3的台18搬运，在此安装于研磨头50的托架(板状体保持部)52。需要说明的是，以下叙述的膜框14是指张设有膜体38的整体。而且，关于搬运装置150在后文叙述。

如图2所示，膜框14将能够粘贴玻璃板G的矩形形状的膜体38张设在同样的矩形形状的上框40与下框42之间后，通过未图示的螺栓将上框40和下框42紧固而构成。

接下来，对图3所示的研磨头50进行说明。需要说明的是，台18的研磨头50及台20的研磨头50成为同一结构，因此标注同一标号进行说明。

研磨头50具备主体壳体51，在主体壳体51内置有未图示的公转驱动机构部。该公转驱动机构部由行星齿轮机构部和马达构成，由该马达驱动的行星齿轮机构部的输出轴与沿铅垂方向垂下的主轴56连结。而且，在该主轴56上连结托架52。因此，当驱动所述行星齿轮机构部时，托架52及膜框14以规定的公转中心P为中心进行公转(参照图10)。

而且，图3所示的主体壳体51经由滑动件158而与升降机构156连结。通过该升降机构156使主体壳体51相对于滑动件158升降，由此托架52相对于台18的圆形的研磨垫58及台20的圆形的研磨垫60进退移动，并且粘贴在膜框14上的玻璃板G的被研磨面以规定的研磨压力被按压于研磨垫58、60的研磨面。

需要说明的是，也可以从研磨装置10将滑动件158拆卸，将主体壳体51与升降机构156直接连结。

图4是表示研磨平台62的结构的包含一部分剖切部的立体图。

图4所示的研磨垫58粘贴在研磨平台62的上表面。该研磨平台62经由轴承65而旋转自如地支承于研磨工作台64，该研磨平台62的旋转中心设定在与研磨垫58的中心轴同轴上。而且，在研磨平台62的侧面设有齿轮部66，该齿轮部66与利用马达68而旋转的齿轮67啮合。此外，齿轮部66构成为以研磨垫58的中心轴为中心的圆弧状。因此，通过使马达68正转、反转，而研磨垫58以其中心轴为中心沿顺时针方向及逆时针方向回旋。

另外，研磨工作台64由平行配置的一对导轨69、69支承为滑动移动自如。通过具备使研磨工作台64沿导轨69、69往复动作的驱动部(未图示)，而研磨垫58在必要时沿箭头A所示的水平方向摆动。研磨垫58的摆动方向可以是与图1的搬运装置150的搬运方向正交的方向，也可以是与该搬运方向平行的方向。即，只要是使研磨垫58沿水平方向摆动的方向即可。

需要说明的是，在图4的研磨平台62连结有多个管路(未图示)，所述多个管路用于向沿上下(研磨垫58的厚度方向)贯通而设于研磨垫58的多个料浆供给孔(研磨液供给孔)供给料浆(研磨液)。为了避免使上述的管路缠绕，研磨垫58以从规定的基准位置在规定的角度范围内回旋的方式设定其回旋角度。所述料浆通过所述多个料浆供给孔而向研磨垫58的研磨面176供给，经由研磨面176具备的多个槽(第一槽、第二槽)而向研磨面176的整个区域扩散。并且，料浆从在研磨面176上设置的多个料浆吸引孔(研磨液吸引孔)及与研磨面176相接的外周面177向研磨垫58的外部排出。关于研磨垫58的所述料浆供给孔、所述槽及所述料浆吸引孔在后文叙述。

另外，研磨垫58的回旋角度的范围、回旋速度等的回旋动作、每单位时间的公转转速等的公转动作、及图4的箭头A所示的摆动范围、摆动速度由图1的控制部200独立控制。

需要说明的是，关于研磨垫60的各部结构，与上述的研磨垫58的结构相同，因此这里省略其说明。

另一方面，如图3那样，在台18的滑动件158安装有直动引导件70、70。直动引导件70、70与导轨72、72嵌合。该导轨72、72朝向如图1的虚线那样对台18的主轴56、托架52进行维修的维修台74设置。

另外，如图3那样，在台20的滑动件158上也同样地安装直动引导件70、70，直动引导件70、70与导轨160、160嵌合。该导轨160、160朝向如图1的虚线那样对台20的主轴56、托架52进行维修的维修台76设置。

需要说明的是，也可以从研磨装置10将滑动件158拆卸，将直动引导件70、70直接安装于升降机构156。

接下来，对图2、图5所示的托架52进行说明。图5是表示膜框14相对于托架52的安装结构的主要部分放大剖视图。

通过未图示的螺栓在托架52的上部外周部固定有悬吊框架78。在悬吊框架78的凸缘部以规定的等间隔开设有贯通孔80、80…，在滑动框架82(slide-contact frame：滑动-接触框架)的上表面突出设置的滑动框架吊具84如图5那样从下方贯通这些贯通孔80、80…。而且，滑动框架吊具84如图5所示向配置在悬吊框架78与悬吊用蝶形弹簧86之间的悬吊弹簧88贯通，并向悬吊用蝶形弹簧86的贯通孔90贯通，与螺旋千斤顶92连结。

因此，使螺旋千斤顶92动作，使滑动框架吊具84克服悬吊弹簧88的作用力而向上方提升，由此滑动框架82相对于托架52被提升。由此，拆装自如地安装于滑动框架82的膜框14被提升，向膜体38施加规定的张力。

在托架52上开设有向空气室54喷出压缩空气的喷射口98、98…。这些喷射口98、98…经由在托架52的上表面设置的空气室100而与图3上的虚线及实线所示的空气供给通路102连通。空气供给通路102经由安装在研磨头50上的未图示的回旋接头而向研磨头50的外部延伸设置，经由阀104而与空气泵106连接。因此，当打开阀104时，来自空气泵106的压缩空气经由空气供给通路102、图5的空气室100及喷射口98向空气室54供给。由此，压缩空气的压力经由膜体38而向玻璃板G传递，通过该压力将玻璃板G的被研磨面压紧于图4的研磨垫58(60)的研磨面176而进行研磨。

接下来，说明图2、图5所示的膜框14相对于滑动框架82的拆装单元的结构。

在膜框14的上框40等间隔地突出设置有多个销108、108…，在上述的销108的上端部设置的大径的头部110与在滑动框架82的下部固定的钩112扣合，由此将膜框14安装于滑动框架82。头部110与钩112的扣合力通过由螺旋千斤顶92将膜体38提升时的膜体38的反力而变得牢固，避免头部110在研磨时从膜体38受到的研磨阻力的作用下从钩112脱落。

玻璃板G的研磨如图3那样利用搬运装置150，将粘贴有玻璃板G的膜框14从台16向台18搬运，在台18上对玻璃板G的被研磨面进行了研磨后，利用搬运装置152将粘贴有玻璃板G的膜框14从台18向台20依次搬运，在台20中对玻璃板G的被研磨面进行研磨，由此以2阶段来实施。此外，在台20上结束了玻璃板G的研磨后，在此将膜框14从托架52拆卸而利用搬运装置154向台22搬运。需要说明的是，研磨台根据用途的不同可以为一个，也可以为两个以上。当考虑效率、成本时，优选具备粗研磨台和精研磨台这两个台，但是根据情况也可以为了高品质目的而追加精研磨台。

从托架52将膜框14拆卸的方法首先使图5所示的螺旋千斤顶92向松缓的方向动作，消除膜体38的张力。接下来，使膜框14相对于托架52滑动而从钩112将头部110拆卸。由此，从托架52将膜框14拆卸。

另一方面，在图1所示的台22中，从由搬运装置154搬运来的膜框14将研磨结束后的玻璃板G拆卸。拆卸后的玻璃板G由输送设备138搬运，然后，由安装在机器人140的臂142上的吸附头144吸附，利用机器人140的动作而向玻璃板搬出用输送设备24移载，向研磨装置10的外部搬出。

图6(a)～6(d)示出在台22上实施的将研磨完成后的玻璃板G从膜框14拆卸的工序。需要说明的是，在图6(a)～6(d)中，说明了从膜框14将玻璃板G拆卸之后将膜框14从托架52拆卸的例子，但也可以如上述那样在从托架52将膜框14拆卸之后从膜框14将玻璃板G拆卸。

如图6(a)所示，当托架52位于在台22上设置的工作台204的上方时，经由空气供给通路102向空气室54供给空气，使膜体38膨胀。该状态是玻璃板G的拆卸的初始状态。当成为该状态时，由于玻璃板G与膜体38相对地产生位置错动的情况及欲使玻璃板G返回成平坦的弾性力，而玻璃板G容易从膜体38拆卸。即，以往通过将玻璃板G强制地拆卸而设备存在负担的拆卸工序通过使膜体38膨胀而能够容易地进行。

为了缩短拆卸工序中的作业时间，可列举其他的实施方式。如图6(b)所示，在图6(a)的工序之后，从与玻璃板G的缘部相对配置的多个压缩空气喷射喷嘴206、206将压缩空气向玻璃板G的缘部与膜体38的分界部喷射。由此，如图6(c)那样，从膜体38将玻璃板G剥离。膜体38的吸附力因压缩空气而下降，因此容易将玻璃板G从膜体38拆卸。需要说明的是，也可以取代压缩空气而喷射水，而且，即使将水和压缩空气一起喷射也能够得到同样的效果。需要说明的是，在图6(c)中省略压缩空气喷射喷嘴206。

图6(d)示出将玻璃板G从膜体38完全拆卸而载置在工作台204上的状态。然后，玻璃板G由图1所示的输送设备138搬运，并且，由机器人140向玻璃板搬出用输送设备24移载，向研磨装置10的外部搬出。

另一方面，如图6(d)那样，当将玻璃板G从膜体38完全拆卸时，接下来，如图6(e)那样，利用拆卸装置从托架52将膜框14拆卸，将膜框14载置在千斤顶208、208上。该膜框14由图1所示的输送设备146向膜框清洗台26搬运。

被搬运到台26上的膜框14在此进行水清洗。清洗结束后的膜框14由输送设备148向台28搬运，在此被加热而干燥。并且，干燥结束后的膜框14由膜框送回输送设备30向台16搬运，再使用于玻璃板G的粘贴。

接下来，参照图7、图8、图9，说明搬运装置150(152、154)。图7、8、9分别是表示搬运装置150(152、154)的结构的立体图、主要部分放大立体图、俯视图。

搬运装置150具备从下方对在膜框14的四角部设置的突起部43进行保持的4个保持部162、162…。这些保持部162、162…配置于在台16与台18之间形成的膜框14的搬运通路的两侧，并与机器人164的轴166连结。该轴166由机器人164沿铅垂方向及水平方向驱动，由此，将保持部162沿铅垂方向及水平方向驱动。

另外，如图8那样在机器人164的下部固定有引导块168，该引导块168与在膜框14的搬运通路的两侧设置的导轨170、170嵌合。而且，引导块168与沿着导轨170设置的进给丝杠装置的进给丝杠172螺合。由此，粘贴有玻璃板G的膜框14由搬运装置150(152、154)的保持部162、162…保持而从台16向台18搬运。而且，利用保持部162、162…的下降移动动作而能够将搬运到台18上的膜框14向台18的研磨垫58上载置，然后，利用保持部162、162…的水平方向的转动动作而能够使保持部162、162…从膜框14退避移动。而且，从膜框14进行了退避移动后的保持部162、162…在玻璃板G的研磨期间朝向台16送回。在此，载置于台16的下一粘贴有玻璃板G的膜框14由保持部162、162…保持，待机至下一搬运时。保持部162的在台之间的移动、相对于膜框14的铅垂方向及水平方向的动作由图1所示的控制部200控制。

在实施方式中，导轨170设置在膜框14的搬运通路的两侧，但导轨170的根数并未限定为一对(2根)。也可以仅设置在膜框14的搬运通路的一侧。但是，在将导轨170设置在搬运通路的两侧的情况下，能够从与导轨170相对的两侧保持玻璃板G，因此能够稳定地保持玻璃板G。

图10是表示以公转中心P为中心进行公转的膜框14及主轴56的移动轨迹的俯视图。如图10那样，膜框14与保护导轨170等的筒状壳体174不发生碰撞地公转。

图11是容易理解地示意性地表示研磨垫58(60)的研磨面176的结构的研磨面176的俯视图。而且，图12是将研磨面176的主要部分放大表示的立体图。

另外，图11的箭头A表示研磨垫58(60)的摆动方向(参照图4)，箭头B表示研磨垫58(60)的回旋方向。此外，所述摆动方向设定为与下述的槽178正交的方向。

此外，实施方式的研磨垫58(60)的研磨面176是长径D₁、短径D₂的椭圆形状。

需要说明的是，研磨垫58(60)的形状并未限定为图11那样的椭圆形状，例如也可以是正圆，还可以是矩形形状。

如图11那样，在研磨垫58的研磨面176上具备在图中上下方向上具有规定的间隔且沿图中左右方向平行设置的多个槽(第一槽：所谓“纹路”)178、178…。而且，在研磨面176上在图11中上下方向上设置与槽178、178…交叉的多个槽(第二槽：所谓“纹路”)184、184…。此外，在槽178、178…及槽184、184…的底面设有多个孔，该多个孔由多个料浆供给孔(研磨液供给孔)180、180…及多个料浆吸引孔(研磨液吸引孔)182、182构成。需要说明的是，在图11中，料浆供给孔180由“○”标记表示，料浆吸引孔182由“●”标记表示。

在图12中，槽178及槽184的尺寸、以及料浆供给孔180及料浆吸引孔182的尺寸由玻璃板的大小、玻璃板的制品所要求的研磨面的平坦度、研磨垫58的材料等来规定。因此，上述的尺寸不受限定，例如，槽178的槽间距P优选为4.5～9mm，槽宽度W₁优选为1.5～3mm，槽深度T₁优选为1～5mm，更优选为1～3mm。而且，槽184的槽宽度W₂优选为1.5～5mm，更优选为3～5mm，槽深度T₂优选为1～5mm，更优选为1～3mm。

根据实施方式的研磨垫58，在研磨面176上除了具备通常的纹路用的槽178之外，还具备与槽178交叉的槽184，因此从料浆供给孔180向研磨面176供给的料浆通过槽178及槽184而在研磨面176上高效率地扩散。由此，在玻璃板G与研磨垫58之间产生的背压下降，因此玻璃板G的研磨品质提高，能够增加料浆的供给量，因此能够缩短研磨时间并提高生产性。

另外，槽184将所述孔与所述孔连通。即，所述孔为料浆供给孔180及料浆吸引孔182，因此槽184可以将料浆供给孔180、180彼此连通，而且，也可以将料浆供给孔180与料浆吸引孔182连通，还可以将料浆吸引孔182、182彼此连通。

从料浆供给孔180供给的研磨液通过槽178及槽184，由此向研磨垫58的研磨面176的整个区域扩散。而且，槽184相对于仅具备槽178的以往的研磨垫，只要设置在该研磨面176中的背压较高地产生的部位即可。而且，槽184相对于槽178的交叉方式可以是图11所示的正交方向，也可以是该方向以外的方向。而且，槽184从槽184的一端到另一端可以为图11所示的直线状，也可以为曲线状。

槽178贯通到与研磨面176相接的外周面177。另一方面，除了槽184A(在图11中图示2个槽184A、184A)之外的全部的槽184、184…相对于研磨面176的外周面177为非贯通。即，槽184的一方的端及另一方的端位于研磨面176上。而且，槽184、184…中的一部分的槽184A贯通到外周面177。即，槽184、184…中的一部分的槽184A的一方的端位于研磨面176上，另一方的端贯通到外周面177。上述的结构换言之，优选包含槽184A的全部的槽184的一方的端及另一方的端中的至少任一端相对于研磨面176的外周面177为非贯通。而且，从减少背压的观点优选槽184A配置在研磨面176的中央部的情况。研磨面176的中央部是图11的左右方向的中央部。左右方向的中央部是在与研磨面176的槽178平行的平行方向上距中心点O为研磨面176的直径的25％以内的范围。

槽184、184A在至少一方的端具备所述孔(料浆供给孔180或料浆吸引孔182)。通过在这样的位置具备所述孔，在槽178、184、184A内流动的料浆的循环性提高。

在研磨垫58的研磨面176具备多个槽178、184的情况在料浆的扩散、排出的观点上优选，但是随着槽178、184的个数的增加而在玻璃板G的被研磨面上产生槽的边缘引起的“条纹”，有时会使玻璃板G的研磨品质恶化。

由此，新具备的槽184并不是随便地具备多个，而是只要在用于减少背压的必要部位上具备必要长度即可。即，将多个槽184、184…相对于研磨面176的外周面177形成为非贯通，由此能够使槽184的长度比槽178缩短，能够抑制“条纹”的产生。而且，即使缩短槽184的长度，向槽184流入的料浆也经由与槽178交叉的交叉部而向槽178流入，并从研磨面176的外周面177排出，因此料浆不会滞留在玻璃板G与研磨垫58之间，不会产生背压。需要说明的是，优选将全部的槽184相对于外周面177形成为非贯通。

如此能够抑制背压的实施方式的研磨垫58在整形修整时也通过整形修整砂轮平坦地研磨，因此玻璃板G的研磨品质提高，而且，研磨时间也能够大幅缩短，因此玻璃板G的生产性提高。而且，具有研磨垫58的寿命也延长的优点。

实施方式的研磨垫58的料浆供给孔180分散配置在研磨面176的整个区域，并且以研磨面176的中央部的配置密度高于所述中央部以外的配置密度的方式配置。而且，槽184配置在研磨面176的整个区域，并且以研磨面176的中央部的配置密度高于除了所述中央部之外的部分的配置密度的方式设置。

为了使料浆遍及研磨垫58的研磨面176整个区域，优选在研磨面176的中央部具备多个料浆供给孔180，并且，为了抑制在中央部产生的背压，优选在研磨面176的中央部具备多个第二槽184。由此，料浆容易遍及研磨面176的整个区域，而且，也能够可靠地抑制在中央部产生的背压。

另一方面，槽184优选以研磨面176的中心点O为中心而成为点对称地设置。由此，玻璃板G的被研磨面的平坦度进一步提高。

另外，实施方式的研磨垫58的料浆吸引孔182配置在研磨面176的中央部。由此，能够从研磨垫58的中央部吸引料浆，因此不会减少来自料浆供给孔180的料浆供给量，能够确保玻璃板G的中央附近的研磨余量并进行正常的研磨。研磨面176的中央部优选为距研磨面176的中心点O为研磨面176的直径的25％以内的范围。

需要说明的是，研磨面176的直径在研磨面176为椭圆形状的情况下，是指短径侧的直径。而且，所述25％在研磨面176为矩形形状的情况下，是指短边侧的边的长度的25％。这种情况下，研磨面176的中央部的范围成为一边具有所述25％以内的长度的矩形形状，该范围的中心点成为研磨面的中心点O。

利用实施方式的研磨垫58研磨的玻璃板G的一边的长度如前述那样优选超过2000mm，但是在一边的长度超过2500mm的情况，尤其是一边的长度超过2800mm的玻璃板G的研磨中，实施方式的研磨垫58特别有效。

另外，研磨垫58为了高效率地研磨上述尺寸的玻璃板G，优选研磨面176的表面积大于玻璃板G的被研磨面的表面积。

接下来，说明如前述那样构成的研磨装置10的作用。

〔实施例〕

台18、20的规格如下述所示。

研磨压力：2kPa～25kPa

料浆：从研磨垫58、60的料浆供给孔供给使氧化铈分散在水中而成的料浆

研磨垫58：发泡聚氨脂制且在表面具有使料浆流动的槽178(槽间距4.5mm、槽宽度1.5mm、槽深度1～5mm)、尺寸：长径5040mm且短径4800mm的圆形

研磨垫60：软质氨基甲酸乙酯制绒面状且在表面具有使料浆流动的槽178(槽间距4.5mm、槽宽度1.5mm、槽深度1～5mm)、尺寸：长径5040mm且短径4800mm的圆形

玻璃板G的厚度：0.2mm～0.7mm

玻璃板G的形状：长边3130mm、短边2880mm的矩形

玻璃板G的非研磨面：利用构成膜体38的聚氨脂制的吸附垫进行密接保持

如图11那样，在研磨垫58(60)的表面具备与槽178交叉的多个槽184、184…。如图12那样，槽184的槽宽度W₂为4mm，槽深度T₂为3mm。

〔基于台18的第一研磨工序〕

研磨时间：根据要求平坦度及余量来决定(例如2分钟)

托架52的公转直径：150mm

托架52的公转转速：110rpm

研磨工作台64的摆动速度：180mm/min

研磨工作台64的摆动行程：±100mm

研磨平台62的回旋范围：±80°

研磨平台62的回旋速度：7.4°/sec

〔基于台20的第二研磨工序〕

研磨时间：最后的30sec

托架52的公转直径：150mm

托架52的公转转速：110rpm

研磨工作台64的摆动速度：180mm/min

研磨工作台64的摆动行程：±100mm

研磨平台62的回旋范围：±80°

研磨平台62的回旋速度：0.1°/sec

以上是各台18、20的规格，利用这些台18、20对玻璃板G进行研磨，由此能够将玻璃板G的表面的微小的凹凸、弯曲除去。而且，与仅具有槽178的以往的研磨垫相比，研磨时间大幅缩短，因此生产性提高。

另外，独立地控制托架52的公转动作及研磨平台62的回旋动作，在玻璃板G的研磨时间中，将研磨平台62的回旋速度(角速度)变更为低速，由此能够抑制研磨垫58、60的槽178、184引起的局部的研磨不均。在此，所述公转动作产生的力成为将玻璃板G的表面的微小的凹凸除去的力，所述回旋动作产生的力成为对被研磨面的品质进行控制的力。

需要说明的是，在实施方式中例示了玻璃板作为板状体，但并未限定为玻璃板，也可以是其他的板状体。

详细地且参照特定的实施方式说明了本发明，但是在不脱离本发明的范围和宗旨的范围内能够施加各种修正、变更的情况对于本领域技术人员来说不言自明。

本申请基于2012年2月10日提出申请的日本专利申请2012-027648，并将其内容作为参照而援引于此。

标号说明

G…玻璃板，10…研磨装置，12…玻璃板搬入用输送设备，14…膜框，16…玻璃板粘贴台，18…第一研磨台，20…第二研磨台，22…玻璃板拆卸台，24…玻璃板搬出用输送设备，26…膜框清洗台，28…膜框干燥台，30…膜框送回输送设备，32…机器人，33…臂，34…吸附垫，36…输送设备，38…膜体，40…上框，42…下框，43…突起部，50…研磨头，51…主体壳体，52…托架，54…空气室，56…主轴，58…研磨垫，60…研磨垫，62…研磨平台，64…研磨工作台，65…轴承，66…齿轮部，67…齿轮，68…马达，69…导轨，70…直动引导件，72…导轨，74…维修台，76…维修台，78…悬吊框架，80…贯通孔，82…滑动框架，84…滑动框架吊具，86…悬吊用蝶形弹簧，88…悬吊弹簧，90…贯通孔，92…螺旋千斤顶，98…喷射口，100…空气室，102…空气供给通路，104…阀，106…空气泵，108…销，110…头部，112…钩，138…输送设备，140…机器人，142…臂，144…吸附头，146、148…输送设备，150、152、154…搬运装置，160…导轨，162…保持部，164…机器人，166…轴，168…引导块，170…导轨，172…进给丝杠，176…研磨面，177…外周面，178…槽，180…料浆供给孔，182…料浆吸引孔，184…槽，184A…槽，200…控制部，204…工作台，206…压缩空气喷射喷嘴，208…千斤顶

Claims (7)

1.一种研磨垫，具有：

在研磨面上以规定的间隔平行地设置的多个第一槽；

设置在所述研磨面上且与所述第一槽交叉的多个第二槽；及

设置在所述第一槽及所述第二槽的底面上的由研磨液供给孔及研磨液吸引孔构成的多个孔。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中，

所述多个第一槽贯通到与所述研磨面相接的外周面，

所述多个第二槽中，该多个第二槽中的一部分的槽相对于所述外周面贯通，或者该多个第二槽的全部的槽相对于所述外周面非贯通。

3.根据权利要求1或2所述的研磨垫，其中，

所述研磨液供给孔配置在所述研磨面的整个区域，并且设定为所述研磨面的中央部的配置密度高于所述中央部以外的配置密度，

所述第二槽配置在所述研磨面的整个区域，并且设定为所述研磨面的中央部的配置密度高于除了所述中央部以外的部分的配置密度。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，

所述研磨液吸引孔配置在所述研磨面的中央部。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的研磨垫，其中，

所述第二槽设置成以所述研磨面的中心点为中心而成为点对称。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨垫，其中，

为了对一边的长度超过2000mm的矩形形状的板状体的被研磨面进行研磨，使所述研磨面的表面积大于所述被研磨面的表面积。

7.一种研磨装置，利用权利要求1～6中任一项所述的研磨垫对板状体的被研磨面进行研磨。