CN102407491A - 研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法，所述修整部件能够高效率有效地对贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫进行修整。修整部件的底板为矩形，电沉积金刚石磨粒而形成的磨粒固定部以在底板的对角线上朝向底板的中心变细的方式形成。使修整部件和研磨垫相对旋转的同时进行公转，将修整部件按压在研磨垫上，从而研磨垫与磨粒固定部的接触时间在研磨垫的整个面上是相等的，因此能够均匀地对研磨垫的整个面进行研磨。

Description

研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法

技术领域

本发明涉及一种研磨垫用修整部件，涉及用于对研磨玻璃板、特别是研磨显示器用玻璃基板的研磨装置的研磨垫(研磨部件)的形状进行修整(最佳化)的修整部件及研磨垫的修整方法。

背景技术

作为液晶显示器等平板显示器用的薄板玻璃基板的制造方法的一种，使用称为浮法的成形法的制造方法广为人知。该制造方法是如下方法：通过所述浮法将熔融玻璃成形为板状，其后，由研磨装置研磨并去除玻璃板表面的微小的凹凸及起伏，从而形成厚度为0.5～1.1mm的薄板状。

近年来，平板显示器用薄板玻璃基板随着显示器的大屏幕化，也正在制造一边超过2000mm那样的大型的玻璃基板。

但是，本发明申请人在专利文献1中提出一种以大型的平板显示器用薄板玻璃基板为对象的研磨装置。该研磨装置为，向安装有用于吸附保持基板的吸附片的膜体与安装该膜体的托架之间供给加压流体，利用加压流体的压力将吸附保持在吸附片上的基板按压在研磨平台的研磨垫上进行研磨。

一般来说，在这种研磨装置中，对于使用前的研磨垫及将规定片数的玻璃基板研磨后的研磨垫，为了去除其表面存在的微小起伏等凹凸，实施使用砂轮(修整部件)的修整处理(形状修整处理)。

另外，研磨一边超过2000mm的大型玻璃基板的研磨垫，不能一体构成(一个垫)。因此，通过将多个小尺寸的研磨垫贴合在研磨平台上而形成大面积的研磨垫。但是，通过贴合多个研磨垫而产生的各研磨垫间的边界的台阶差部对玻璃基板的品质有恶劣影响，因此上述研磨垫的台阶差部也必须通过修整部件来研磨去除。

上述的修整部件通过在与玻璃基板的形状相对应的矩形的底板(金属片)的整个面固定(电沉积)金刚石磨粒而构成。将该修整部件安装在研磨装置的托架上，并且使上述托架旋转及公转，一边使研磨平台旋转或摆动，一边将修整部件按压在圆形的研磨垫上，由此，对研磨垫进行修整。

专利文献1：日本特开2004-122351号公报

但是，在底板的整个面电沉积了金刚石磨粒的现有方式的上述修整部件中，存在将研磨垫的台阶差部全部研磨去除时的研磨垫的总研磨量多于需要以上的问题。如此一来，研磨垫的总研磨量较多时，修整处理就需要较长时间，并且发泡聚氨基甲酸乙酯制的高价的研磨垫的使用寿命变短。

修整部件对研磨垫的研磨量与研磨垫和修整部件的接触时间成比例。例如，在整个面电沉积了金刚石磨粒的现有修整部件的情况下，修整部件的中央部总是与研磨垫接触。因此，研磨垫的中央部分因相对性的旋转(自转)及公转运动而总是被研磨。另一方面，研磨垫的周部在相对性公转运动时，由于与修整部件的接触是间歇性的，因此不能总是被研磨。其结果，通过修整处理，研磨垫中央部比周部研磨得较多。

其次，贴合小尺寸的研磨垫而构成的大面积的研磨垫的情况下，研磨垫中央部存在的台阶差部即使已被研磨去除，研磨垫周部的台阶差部也难以如前所述那样被去除，因此，要继续进行修整处理。其结果，为了研磨研磨垫周部的台阶差部，就要对研磨垫的中央部过度研磨。因此，就产生了在研磨去除研磨垫的全部台阶差部时的研磨垫的总研磨量增多，研磨垫的寿命变短之类的问题。

另外，对于现有修整部件，由于金刚石磨粒电沉积在底板的整个面上，因此价钱非常高。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而做出的，其目的在于提供一种能够高效率有效地对贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫(研磨部件)进行修整的修整部件及使用该修整部件的研磨垫的修整方法。

为了达成上述目的，本发明提供一种研磨垫用修整部件，在底板上具有固定磨粒而形成的磨粒固定部，其特征在于，上述磨粒固定部位于经过上述底板的中心的直线上，且呈朝向上述底板的中心变细的楔形形状，以上述磨粒固定部的轮廓线上的一部分位于上述底板的中心点上的方式设置有多个所述磨粒固定部。

另外，上述修整部件优选上述底板为矩形，上述磨粒固定部位于上述底板的对角线上，且呈朝向上述底板的中心变细的楔形形状，夹着所述底板的中心点至少配置有一对所述磨粒固定部。

根据这样构成的修整部件，通过使该修整部件旋转及公转并将其按压在研磨垫上，减小在研磨垫的整个面上的研磨垫与磨粒的接触时间的差。因此，能够均匀地对研磨垫的整个面进行研磨，能够防止研磨垫中央部的过度研磨。因此，本发明即使是贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫，即贴合多个且在贴合部分具有台阶差的研磨垫，也能够高效率有效地进行修整。

另外，本发明的修整部件优选，上述底板通过接合多个小尺寸的平板而构成。

此外，本发明提供一种研磨垫的修整方法，在使上述修整部件以规定的旋转轴为中心旋转并以规定的公转轴为中心公转的同时将该修整部件按压在研磨垫上，对该研磨垫的形状进行修整。另外，本发明的修整部件也可进行研磨垫的修整。

根据本发明的研磨垫用修整部件及研磨垫的修整方法，在底板上具有固定磨粒而形成的磨粒固定部的研磨垫用修整部件中，上述磨粒固定部位于经过上述底板的中心的直线上，且呈朝向上述底板的中心变细的楔形形状，以上述磨粒固定部的轮廓线上的一部分位于上述底板的中心点上的方式设置有多个所述磨粒固定部，所以能够高效率有效地对贴合多个小型研磨垫而构成的研磨垫进行修整。

附图说明

图1是表示第1实施方式的研磨装置的整体结构的平面图；

图2是表示研磨头与研磨台的实施方式的侧面图；

图3是研磨头的装配立体图；

图4是表示膜框的膜体的三层结构的说明图；

图5是膜框相对于滑动环的装卸结构的主要部分的放大剖面图；

图6是本实施方式的修整部件的平面图；

图7是表示图6所示的修整部件的移动轨迹的说明图；

图8是表示图案1～4的修整部件的平面图的说明图；

图9是表示图案1～4的修整部件的评价的曲线图。

具体实施方式

下面，根据附图对本发明的修整部件及修整方法的优选实施方式进行详细说明。

图1所示的研磨装置10是将大型的液晶显示器用玻璃基板G(下面只称为玻璃基板G)的单面研磨成期望的平面度的研磨装置。另外，作为上述玻璃基板G，可以适用例如一边超过2000mm且厚度为0.5～1.1mm的玻璃基板。

该研磨装置10主要由输送未研磨的玻璃基板G的传送带12、将玻璃基板G贴固在膜框14上的工作台16、第一研磨台18、第二研磨台20、将研磨结束后的玻璃基板G从膜框14卸下的工作台22、玻璃基板运出传送带24、膜框清洗台26、膜框干燥台28及膜框运回传送带30构成。

另外，在研磨装置10中，设置有从工作台16向第一研磨台18输送膜框14的输送装置150、从第一研磨台18向第二研磨台20输送膜框14的输送装置152、及从第二研磨台20向工作台22输送膜框14的输送装置154。

由传送带12输送来的未研磨的玻璃基板G被设置于机械手32的机械臂33的吸附片34吸附保持。而且，通过机械臂33的旋转动作，从传送带12移载至传送带36，通过传送带36向工作台16输送。

在工作台16上，首先，玻璃基板G被保持在膜框14上。若对该保持方法进行说明，则为膜框14在工作台16上被玻璃基板贴固单元即升降装置(未图示)保持，在玻璃基板G位于膜框14的下方时，膜框14通过升降装置下降，将铺设在膜框14上的图2的膜体38按压在玻璃基板G上。

在膜体38的下表面粘接有自我吸附玻璃基板G的多孔质的发泡聚氨基甲酸乙酯制吸附片200，并且聚碳酸酯制的中间片210介于该吸附片200与膜体38之间且粘接于吸附片200与膜体38两者上。

玻璃基板G通过上述升降装置产生的按压力被相对地按压在吸附片200上，并通过吸附片200被吸附保持。之后，膜框14保持在图1的输送装置150上，被输送到图3的第一研磨台18，在这里安装于托架52上。

如图2所示，膜框14构成为在将膜体38铺设在上框40与下框42之间后，利用螺栓(未图示)将上框40与下框42连结。另外，膜框14和膜体38不限定于圆形，矩形也可以。

该膜体38如图4构成为由气密保持层44和强度保持层46组成的双层结构。气密保持层44如图2及图5所示，为其外周部粘贴于托架52的下部外周环部53并在与托架52的空气室54之间保持气密的片材。作为片材的材料，举例为橡胶类、硅酮类、氟类树脂、聚氯乙烯(PVC)等乙烯类原材料、聚酰胺类原材料及聚氨基甲酸乙酯类原材料等。另外，图4的强度保持层46为保持气密保持层44并且具有能够耐受铺设膜体38整体的张力的规定的拉伸强度的片材。另外，在其下表面粘接有中间片210。

作为强度保持层46的材料，可举出：芳香族聚酰胺纤维、不锈钢制丝网、钢制金属丝网、碳纤维、玻璃纤维、尼龙纤维、金属片、树脂片等。特别是芳香族聚酰胺纤维由于相对于拉伸力的伸长极少而优选。。

接下来，对图3所示的研磨头50进行说明，由于第一研磨台18的研磨头50及第二研磨台20的研磨头50是相同的结构，所以附加同样的标号进行说明。

研磨头50的构成为，在主体箱51内置有电动机，该电动机的输出轴连结在沿垂直方向垂下的主轴56上。在该主轴56上连结有托架52。因此，托架52自转。另外，主体箱51经由升降机构156连结在滑块158上。利用该升降机构156使主体箱51相对于滑块158升降，由此托架52能够相对于第一研磨台18的研磨垫58及第二研磨台20的研磨垫60进退移动，并且能够以规定的研磨压力将贴固在膜框14上的玻璃基板G按压在研磨垫58、60上。

研磨垫58为发泡聚氨基甲酸乙酯制，由于不能构成为一体(一个垫片)，因此通过将多个(例如8个)小尺寸的研磨垫贴在研磨平台62的上表面上而形成大面积的研磨垫。

利用电动机(未图示)而旋转的旋转轴64连结在研磨平台62的下部。另外，研磨垫60贴在研磨平台66的上表面上，利用电动机(未图示)而旋转的旋转轴68连结在研磨平台66的下部。

此外，主体箱51与公转驱动机构(未图示)连结，还具有按照以规定的公转轴为中心的公转半径进行公转的功能。因此，托架52以上述公转轴为中心进行公转。另外，该公转驱动机构也可以如下构成：将行星齿轮机构内置在主体箱51内，将行星齿轮机钩的输出轴连结在主轴56上。以上为各研磨台18、20的构成，通过这些研磨台18、20研磨玻璃基板G并去除玻璃基板G表面的微小凹凸和起伏。另外，研磨垫间的边界的台阶差部利用下述修整部件预先研磨去除。

另一方面，在第一研磨台18的滑块158上安装有直动导向件70、70。直动导向件70、70嵌合在导轨72、72。该导轨72、72如图1所示朝向对第一研磨台18的主轴56、托架52进行维修保养的维修台74而设置。

另外，如图2所示，在第二研磨台20的滑块158上也同样安装有直动导向件70、70，直动导向件70、70嵌合在导轨160、160中。该导轨160、160如图1所示朝向对第二研磨台20的主轴56、托架52进行维修保养的维修台76而设置。

托架52如图2所示通过螺栓(未图示)将起吊环78固定在托架52的上部外周部。在起吊环78的从托架52的外周部突出的凸缘部，在同心圆上等间隔地形成多个贯通孔80、80…，在滑动环82的上表面突出设置的滑动环吊具84如图5所示从下方贯通这些贯通孔80、80…。另外，滑动环吊具84贯通配置在起吊环78与起吊用碟形弹簧86之间的起吊弹簧88，并且贯通起吊用碟形弹簧86的贯通孔90，并连结于螺旋千斤顶92。

因此，使螺旋千斤顶92动作，并使滑动环吊具84抵抗起吊弹簧88的作用力而向上方提升时，滑动环82相对于托架52提升。由此，装卸自由地安装在滑动环82的膜框14得以提升，并向膜体38施加规定的张力。

当施加张力自动化时，准备并运用多个膜框14和膜体38。但是，考虑到膜体38相对于膜框14的初始张力存在个体差异，另外，由于使用时间不同，多个存在的膜体38、38…的初始张力也不同，因此难以对任何具有张力个体差异的膜体38给予同等的使用张力。另外，若给予膜体38过度的张力，还有与膜体38及周边设备的破损相关联的危险。为了解决该问题，对起吊弹簧88的收缩量(起吊环78与起吊用碟形弹簧86之间的间隔)进行监视。即，不只是监视螺旋千斤顶92的提升量，而且要通过监视起吊弹簧88的收缩量对实际给予膜体38的张力进行测定。由于具有该起吊弹簧88，因此能够同时解决在膜体38上施加一定张力和防止在膜体38上施加过大张力的问题。

另外，为了设定为一定的张力，需要测定起吊弹簧88的收缩量，作为其中的一种方法，根据经由动力轴96与螺旋千斤顶92连结的电动机(未图示)的电流值计算出转矩，间接地取得螺旋千斤顶92的起吊力，通过对这些进行管理，就可以监视给予膜体38的张力。动力轴96是将上述电动机的驱动力传递至螺旋千斤顶92的轴。另外，标号94为用于承受起吊环78与起吊用碟形弹簧86之间产生的起吊弹簧88的反作用力的止动销。

在托架52上形成有多个向图5的空气室54喷出加压流体即压缩空气的喷射口98、98…。这些喷射口98、98…经由在托架52的上面形成的空气室100，与在图3上用虚线表示的空气供给通路102连通。空气供给通路102经由安装在研磨头50上的回转接头(未图示)向研磨头50的外部延伸设置，经由阀104与空气泵106连接。因此，当打开阀104时，来自空气泵106的压缩空气经由空气供给通路102、空气室100及喷射口98供给至空气室54。由此，压缩空气的压力经由膜体38传递至玻璃基板G，通过该压力，玻璃基板G的整个面被以均匀的压力按压在研磨垫58、60上而进行研磨。

另一方面，如图2所示，在膜框14的上框40上，多个销108、108…在同心圆上以等间隔突出设置，在这些销108的上端部形成的、如图5所示的大径的头部110与固定于滑动环82的下部的钩112扣合，由此，膜框14被安装在滑动环82上。头部110与钩112的扣合力由于利用螺旋千斤顶92擎起膜体38时的膜体38的反作用力而变得牢固，研磨时从膜体38承受的研磨阻力使头部110不会从钩112脱落。

在图1所示的第二研磨台20上，玻璃基板G的研磨结束后，在此从托架52卸下膜框14，通过输送装置154输送至工作台22。从托架52卸下膜框14的方法为：首先，使图5所示的螺旋千斤顶92向松开方向动作，解除膜体38的张力。接下来，使膜框14相对于托架52转动规定角度，将头部110从钩112卸下。由此，从托架52卸下膜框14。

在图1所示的工作台22上，从由输送装置154输送来的膜框14卸下研磨结束后的玻璃基板G。被卸下的玻璃基板G由传送带138输送，而且被安装在机械手140的机械臂142上的吸附片144吸附，通过机械手140的动作移载至玻璃基板运出用传送带24，运出至研磨装置10的外部。

卸下了玻璃基板G的膜框14由传送带146输送至膜框清洗台26，在此用水进行清洗。清洗结束后的膜框14由传送带148输送至膜框干燥台28，在这里被加热干燥。然后，干燥结束后的膜框14由膜框运回传送带30输送至工作台16，再用于玻璃基板G的贴固。以上是研磨装置10的整体构成。

另一方面，对于研磨垫58、60来说，为了去除上述台阶差部的研磨/去除及规定片数处理后的表层的微小起伏，要在使用前实施修整(形状修整)。另外，所谓修整，是指对于使用前及研磨规定片数后的研磨垫，研磨/去除其表层产生的微小起伏、凹凸、台阶差等的处理。因此，在研磨装置10中安装修整部件。为了研磨垫达到研磨面的基准，修整部件要求高精度。

图6中表示本实施方式的修整部件。在本实施方式中，通过将具有电沉积了金刚石磨粒220的磨粒固定部的矩形修整部件224安装在作为底板的不锈钢片222上，来实施修整。即，与研磨玻璃基板G时相同，对安装在膜框14的吸附片200上的修整部件224通过加压流体即压缩空气均匀地加压，一边将所述修整部件224按压在圆形的研磨垫58、60上，一边使修整部件224在进行旋转(自转)的同时进行公转，并且使研磨垫58、60旋转，从而进行研磨垫58、60的修整。另外，该修整部件优选具有与玻璃基板G大致相同的形状。

如上所述，修整部件对研磨垫的研磨量与研磨垫和磨粒之间的接触时间成比例。因此，在底板的整个面上电沉积了金刚石磨粒的现有修整部件的情况下，研磨垫的周部由相对性的公转运动而与磨粒的接触是间歇性的，因此不是总是被研磨。但是，由于研磨垫的中央部总是接触修整部件，因此由相对性的旋转及公转运动，研磨垫的中央部分总是被研磨。其结果，研磨垫的中央部与周部相比被较多地研磨。

另一方面，贴合小尺寸的研磨垫而构成的实施方式的大面积的研磨垫58、60的情况下，如上所述，虽然存在于研磨垫58、60的中央部的台阶差部已经被研磨去除，但是由于研磨垫58、60的周部的台阶差部没有被去除，因此必须继续进行修整处理。其结果，就产生了为了研磨研磨垫58、60的周部的台阶差部，必须过度磨削研磨垫58、60的中央部的问题。因此，将研磨垫58、60的台阶差部全部研磨/去除时的研磨垫58、60的总研磨量增多，无意义地缩短了研磨垫58、60的使用寿命。

与此相对，如图6所示，本实施方式的修整部件224的构成为：作为底板的不锈钢片222形成为矩形形状，电沉积金刚石磨粒220而形成的一对的磨粒固定部226、226形成为在不锈钢片222的对角线上朝向不锈钢片222的中心O变细的楔形形状。另外，不锈钢片222由于尺寸的制约不能形成为一体(一个零件)，因此在本实施方式中，通过将9片小尺寸的不锈钢片(底板)A～I接合而构成，并在不锈钢片A、E及I上固定(电沉积)金刚石磨粒220而设置有磨粒固定部。另外，本实施方式的修整部件224夹着不锈钢片222的中心O在对角线上形成有一对磨粒固定部226、226，也可以沿着另一个对角线再配置一对。

根据这样构成的修整部件224，如图7所示，一边使修整部件224与研磨垫58、60相对性地旋转及公转，一边将修整部件224按压在研磨垫58、60上，由此，在修整部件224接触的研磨垫58、60的整个面(标号228所示的圆内)上，研磨垫58、60与磨粒固定部226之间的接触时间相等。因此，能够对研磨垫58、60的整个面均匀地进行研磨，可防止研磨垫58、60的中央部的过度磨削。

因此，通过使用本实施方式的修整部件224，能够高效率有效地对贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫58、60进行修整。

接下来，参照图8、图9说明对本实施方式的修整部件产生的研磨量与其他修整部件产生的研磨量进行比较后的结果。

首先，对图8所示的图案1～4的修整部件进行说明。图案1为在矩形的底板(金属片)的整个面上电沉积金刚石磨粒而形成的现有修整部件。图案2为在矩形的底板(金属片)的对角线上，以磨粒固定部呈带状的方式电沉积金刚石磨粒的修整部件。图案3是如下所述修整部件：在矩形的底板(金属片)的对角线上，呈朝向上述底板的中心变细的形状，但在上述底板的中心以磨粒固定部具有规定宽度的方式电沉积金刚石磨粒。另外，图案3的修整部件由于磨粒固定部的轮廓线上的一部分不位于底板(金属片)的中心点上，因此不符合本发明的修整部件。图案4是在矩形状底板(金属片)的对角线上，以成为朝向上述底板(金属片)的中心变细的楔形形状(尖锐状)的方式电沉积金刚石磨粒的本实施方式的修整部件224。

另外，本发明的修整部件只要磨粒固定部的实质性的有效面积与例示的图案4相同即可，所以，例如在图案3的修整部件中，在磨粒固定部设置切口部，通过改变该切口部的形状及分布密度，就能够使除该切口部以外而得到的磨粒固定部与图案4相同。本发明中也包含这样的修整部件。

图9是表示用图案1～4的修整部件研磨研磨垫时的研磨量比的曲线图，横轴表示距研磨垫中央的位置(mm)、纵轴表示研磨量比。

另外，图9的曲线图是以如下情况为前提条件而作成的：

(1)设给予修整部件整体的压力是均等的，研磨量与研磨垫和修整部件之间的相对速度成正比，及

(2)无视相对性的摆动动作。

另外，计算方法的顺序大致为：

(A)以修整部件的中心为原点取X-Y轴，同样地，以研磨垫的中心为原点取X’-Y’轴。

(B)计算在修整部件以角速度ω进行公转的同时以角速度W进行自转运动时的时刻t的研磨垫的任意点(x’，y’)与修整部件的哪个位置一致。

(C)判断修整部件的上述位置是否存在磨粒固定部，如果不存在磨粒固定部，则将研磨垫的研磨量设为零。

(D)如果在修整部件的上述位置存在磨粒固定部，则计算该时刻t的研磨垫与修整部件之间的相对速度。

(E)在修整时间T期间，积算在研磨垫的任意点(x’，y’)上存在砂轮时的相对速度，作为在该位置的研磨量比。

图9表示根据上述(A)～(E)的条件计算出的研磨量比。

根据图9可明白：在图案1的修整部件中，与研磨垫周部的研磨量相比较，研磨垫的中央部的研磨量压倒性地多，因此为了研磨/去除全部的台阶差部，就要增加总研磨量。另外，图案2、3的修整部件中，与图案1的修整部件相比较，虽然总研磨量减少，但是研磨垫的中央部的研磨量与其他部分的研磨量相比较明显增多，因此不能谋求研磨垫的长寿命。

与此相对，可明白：图案4的修整部件224，可在研磨垫的整个面大致均匀地进行研磨，因此能够以最低限度的研磨量研磨/去除研磨垫的台阶差部。

根据以上所述，根据本实施方式的修整部件224，能够高效率有效地对贴合多个小尺寸研磨垫而构成的研磨垫58、60进行修整。

本发明的研磨垫用修整部件适用于对研磨玻璃板、特别是研磨显示器用玻璃基板的研磨装置的研磨垫(研磨部件)的形状进行修整(最佳化)。

另外，在这里引用2005年10月14日申请的日本专利申请2005-300287号的说明书、权利要求的范围、附图及说明书摘要的全部内容，作为本发明的说明书的开示被引入。

Claims (5)

1.一种研磨垫用修整部件，在底板上具有固定磨粒而形成的磨粒固定部，其特征在于，

所述磨粒固定部位于经过所述底板的中心的直线上，且呈朝向所述底板的中心变细的楔形形状，

以所述磨粒固定部的轮廓线上的一部分位于所述底板的中心点上的方式设置有多个所述磨粒固定部。

2.如权利要求1所述的研磨垫用修整部件，其特征在于，

所述底板为矩形，

所述磨粒固定部位于所述底板的对角线上，且呈朝向所述底板的中心变细的楔形形状，夹着所述底板的中心点至少配置有一对所述磨粒固定部。

3.如权利要求1或2所述的研磨垫用修整部件，其特征在于，所述底板通过接合多个平板而构成。

4.一种研磨垫的修整方法，其特征在于，使用权利要求1～3中任一项所述的研磨垫用修整部件，在使该修整部件旋转及公转的同时将该修整部件按压在研磨垫上，对该研磨垫的形状进行修整。

5.如权利要求4所述的研磨垫的修整方法，其特征在于，将所述修整部件在吸附保持于玻璃基板用的吸附片上的状态下按压在研磨垫上。

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