CN104051496B - 一种柔性显示器及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种柔性显示器及其制作方法，该方法包括：（1）在载体正面制作一层剥离层；（2）在该剥离层上制备粘结层；（3）在该粘结层上贴付软玻璃；（4）所述载体、剥离层、粘结层以及软玻璃形成了一个整体的柔性基板，在该柔性基板的软玻璃上制作显示组件，并进行封盖或者薄膜封装；（5）进行激光剥离，使激光从载体背面射入，并从载体一端向另一端扫描，使得载体脱离剥离层而被剥离。本发明采用硅的氮化物或者氧化物作为剥离层与软玻璃之间的粘结层，利用激光剥离技术使剥离层和载体直接分离，既可使软玻璃很好的阻挡来自于基体的水汽，又使剥离层作为软玻璃的增韧层。
Description
技术领域
本发明有关一种柔性显示器及其制作方法，特别是指一种软玻璃柔性基板显示器及其制作方法。
背景技术
有机发光显示器件（OLED，Organic Light Emitting Display）是主动发光器件，相比现在的主流平板显示技术薄膜晶体管液晶显示器（TFT –LCD，Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display) , OLED具有对比度高、视角广、功耗低、体积更薄等优点，有望成为继LCD之后的下一代平板显示技术，其中的柔性OLED更是以其可弯曲、抗冲击、更轻更薄等优点在平板显示技术中受到越来越多的关注。
目前柔性显示的基体材料有薄金属，软玻璃和塑料薄膜。其中软玻璃和塑料薄膜是业界研究的热点。
图1是现有技术的塑料薄膜基体的叠层结构图，如图所示，先在载体10上采用coating（涂布）的方式制备湿膜，然后进行烘烤获得塑料薄膜20（即PI基体（聚酰亚胺，Polyimide））或者采用粘贴塑料薄膜的方式进行制备。然后通过气相沉积的方法制备氮化硅30、氧化硅31、氧化铝等薄膜两种或者两种以上交替沉积，此为一组。反复做多组此种堆叠膜作为阻挡层。塑料薄膜20基体具有优异的抗冲击能力，但其自身阻挡水汽的能力较差，剥离工艺影响大等缺点限制着塑料薄膜基体的广泛应用。
图2是另外一种现有技术，软玻璃的堆叠结构示意图。如图所示，在载体10上先沉积一层金属或者金属氧化物层21作为隔离层，再在该隔离层上制作软玻璃40。软玻璃基体具有同硬质玻璃基板相同的电学特性，基体阻挡水氧能力强，剥离工艺对TFT特性影响小等优点。但软玻璃基体同载体材料之间难以剥离和应力过大，且高温后的脆性制约着软玻璃的应用，同时软玻璃基体容易产生裂纹，并且裂纹扩展影响切割。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种能阻挡水汽、且柔性基板同载体之间容易粘贴与剥离的柔性显示器及其制作方法。
为达到上述目的，本发明提供一种柔性显示器制作方法，该方法包括：
（1）在载体正面制作一层剥离层；
（2）在该剥离层上制备粘结层；
（3）在该粘结层上贴付软玻璃；
（4）所述载体、剥离层、粘结层以及软玻璃形成了一个整体的柔性基板，在该柔性基板的软玻璃上制作显示组件，并进行封盖或者薄膜封装；
（5）进行激光剥离，使激光从载体背面射入，并从载体一端向另一端扫描，使得载体脱离剥离层而被剥离。
所述步骤（5）中，激光同时直接将剥离层碳化去掉。
所述步骤（1）中，通过在载体上采用涂布的方式制备湿膜，然后进行烘烤获得剥离层；或者采用粘贴塑料薄膜的方式在载体上制备剥离层。
在所述步骤（2）中，采用物理或气相沉积方法或原子层沉积的方法在所述剥离层上制备粘结层，所述粘结层为无机膜层、非晶硅层或氧化铟锡层，该无机膜层为氮化硅或氧化硅或者两者之间的间隔堆叠或两者的混合物薄层。
所述剥离层的材质为聚酰亚胺、聚乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯或玻璃纸。
本发明还提供一种柔性显示器，所述柔性显示器包括封装层与下柔性基板及设于该封装层与下柔性基板之间的显示组件，所述下柔性基板包括软玻璃及设于该软玻璃一侧的粘结层，所述显示组件设于该封装层与该下柔性基板的软玻璃之间。
所述封装层包括上柔性基板及设于该上柔性基板与所述下柔性基板之间边缘的封装柱，该上柔性基板包括软玻璃及设于该软玻璃远离所述显示组件一侧的粘结层，所述上柔性基板的软玻璃与下柔性基板的软玻璃相对设置。
所述显示组件设于所述下柔性基板的软玻璃上，所述下柔性基板的粘结层远离该下柔性基板的软玻璃的一侧设有剥离层。
所述显示组件设于所述上柔性基板的软玻璃上，所述上柔性基板的粘结层远离该上柔性基板的软玻璃的一侧设有剥离层。
所述封装层为设于所述显示组件之上的薄膜层，该薄膜层为至少一层无机氧化物膜层或至少一层有机物膜层，或一层无机氧化物膜层与一层有机物膜层间隔堆叠设置。
本发明采用硅的氮化物或者氧化物或非晶硅层或氧化铟锡层作为剥离层与软玻璃之间的粘结层，利用激光剥离技术使剥离层和载体直接分离，既可使软玻璃很好的阻挡来自于基体的水汽，又使剥离层作为软玻璃的增韧层。
附图说明
图1为现有技术的塑料基体柔性显示器的叠层结构图；
图2为另一种现有技术的软玻璃基体柔性显示器的叠层结构图；
图3为本发明柔性显示器制作方法的步骤流程图；
图4为采用本发明的方法制作的载体剥离前的柔性基板的结构示意图；
图5为采用本发明的方法将载体剥离时的柔性基板的结构示意图；
图6A为本发明中将载体剥离后的柔性基板的示意图一；
图6B为本发明中将载体剥离后的柔性基板的示意图二；
图7为采用本发明的方法制作的柔性显示器。
具体实施方式
为便于对本发明的结构及方法及达到的效果有进一步的理解，现结合附图并举较佳实施例详细说明如下。
如图3与图4所示，首先在载体1上采用coating的方式制备湿膜，然后进行烘烤获得剥离层2；或者采用粘贴塑料薄膜的方式进行制备。制备的剥离层2的厚度可以从小于一微米到几十微米均可。此剥离层2具有较高的耐受温度。然后采用物理或者气相沉积方法以及原子层沉积的方法在剥离层2上制备无机膜层3，该无机膜层3可为氮化硅或氧化硅或者两者之间的间隔堆叠或两者的混合物薄层，作为剥离层2和之后软玻璃4之间的粘结层。然后在连接层上贴付软玻璃4，并采用真空脱泡，之后进行高温处理。至此为止，载体1、剥离层2、无机膜层3以及软玻璃4形成了一个整体（可称之为柔性基板），之后可以进行后续的工艺，如在软玻璃4上制作TFT或OLED等。软玻璃4和载体1之间的剥离层2能够作为应力的缓冲层，避免软玻璃4和载体1在高温的情况下，两者之间因为热应力导致的破裂。
如图5所示，将制作有TFT或OLED的柔性基板进行封盖封装或薄膜封装，之后，可以采用激光剥离的方法进行。激光从载体1背面射入，并从载体1一端向另一端扫描，使得剥离层2脱离载体1而被剥离。因为TFT或OLED二极管有软玻璃4作为保护层，在激光剥离时不会破坏TFT或OLED，可以降低对激光剥离工艺的要求。
图6A和图6B是载体剥离后的柔性基板的结构示意图，激光可以直接将剥离层2碳化去掉（如图6A所示），此时柔性基板包括无机膜层3与软玻璃4。如果制备的剥离层2较厚，在激光剥离完成之后，可以继续留在无机膜层3上，增加软玻璃4的韧性（如图6B所示），此时柔性基板包括剥离层2、无机膜层3及软玻璃4。
如图7所示，利用封盖封装，采用本发明的方法将制作有TFT或OLED的柔性基板与未制作TFT或OLED的柔性基板制作成柔性显示器，该柔性显示器包括上柔性基板5与下柔性基板6及设于该上柔性基板5与下柔性基板6之间的显示组件（TFT或OLED）7，该上柔性基板5与下柔性基板6之间边缘设有封装柱8，将显示组件7封装于上柔性基板5与下柔性基板6之间。封装的时候根据显示组件7的出光方向选择去除柔性基板上的剥离层2或保留剥离层2。如图7中所示，本发明中显示组件7设于下柔性基板6的软玻璃4上，出光方向为向上，因此，上柔性基板5包括与显示组件7相对的软玻璃4及设于软玻璃4远离显示组件7的一侧的粘结层3，该下柔性基板6包括贴附有显示组件7的软玻璃4及设于软玻璃4远离显示组件7的一侧的无机膜层3，该无机膜层3远离软玻璃4的另一侧还可以设有剥离层2。本发明中的柔性显示器，其显示组件7还可以设于上柔性基板5的软玻璃4上，该上柔性基板5可以保留剥离层2，下柔性基板6需剥离剥离层2。
采用本发明方法制作的带有TFT或OLED的柔性基板还可以进行薄膜封装，封装后的柔性显示器与图7不同之处在于，用薄膜层替换图7中的上柔性基板5与封装柱8，即在下柔性基板6的显示组件7之上封装有薄膜层，该薄膜层可为至少一层无机氧化物膜层或至少一层有机物膜层，或一层无机氧化物膜层与一层有机物膜层间隔堆叠设置。
本发明中的剥离层2可为塑料膜层，其中可以选择的塑料薄膜有聚酰亚胺（Polyimide，PI）、聚乙烯（polyethylene， PE）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）、聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、玻璃纸（PT）等耐高温材料。
本发明中剥离层2和软玻璃4之间的粘结层除为无机膜层外，该粘结层还可以为非晶硅或ITO（氧化铟锡）。
本发明采用塑料膜层作为剥离层，采用硅的氮化物或者氧化物或非晶硅或ITO作为塑料膜层与软玻璃之间的粘结层，制备完成后采用激光剥离技术使软玻璃和载体直接分离，从而实现柔性显示的制备。
本发明的方法具有如下特点及有益效果：
1.氧化硅能够很好的与有机膜材料（塑料膜层）及软玻璃粘附，使两种基体可以形成一个整体，本发明中的氧化硅可为二氧化硅（SiO2）；
2.软玻璃可以很好的阻挡来自于基体的水汽；
3.有机膜容易剥离，可以作为软玻璃的剥离层，也可以作为软玻璃的增韧层；
4.容易实验大尺寸的柔性化，不需要减薄工艺，同时可以采用干燥剂和UV（紫外光线）胶或者frit（玻璃粉）封装；
5.有机膜可以作为应力缓冲层。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。
Claims (8)
1.一种柔性显示器制作方法，其特征在于，该方法包括：
（1）在载体正面制作一层剥离层；
（2）在该剥离层上制备粘结层；
（3）在该粘结层上贴付软玻璃；
（4）所述载体、剥离层、粘结层以及软玻璃形成了一个整体的柔性基板，在该柔性基板的软玻璃上制作显示组件，并进行封盖或者薄膜封装；
（5）进行激光剥离，使激光从载体背面射入，并从载体一端向另一端扫描，使得载体脱离剥离层而被剥离。
2.如权利要求1所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，所述步骤（5）中，激光同时直接将剥离层碳化去掉。
3.如权利要求1或2所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，所述步骤（1）中，通过在载体上采用涂布的方式制备湿膜，然后进行烘烤获得剥离层；或者采用粘贴塑料薄膜的方式在载体上制备剥离层。
4.如权利要求1或2所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，在所述步骤（2）中，采用气相沉积方法或原子层沉积的方法在所述剥离层上制备粘结层，所述粘结层为无机膜层、非晶硅层或氧化铟锡层，该无机膜层为氮化硅或氧化硅或者两者之间的间隔堆叠或两者的混合物薄层。
5.如权利要求1或2所述的柔性显示器制作方法，其特征在于，所述剥离层的材质为聚酰亚胺、聚乙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯或玻璃纸。
6.一种柔性显示器，其特征在于，所述柔性显示器包括封装层与下柔性基板及设于该封装层与下柔性基板之间的显示组件，所述下柔性基板包括软玻璃及设于该软玻璃一侧的粘结层，所述显示组件设于该封装层与该下柔性基板的软玻璃之间，
其中，所述封装层包括上柔性基板及设于该上柔性基板与所述下柔性基板之间边缘的封装柱，该上柔性基板包括软玻璃及设于该软玻璃远离所述显示组件一侧的粘结层，所述上柔性基板的软玻璃与下柔性基板的软玻璃相对设置，所述显示组件设于所述下柔性基板的软玻璃上，所述下柔性基板的粘结层远离该下柔性基板的软玻璃的一侧设有剥离层。
7.如权利要求6所述的柔性显示器，其特征在于，所述显示组件设于所述上柔性基板的软玻璃上，所述上柔性基板的粘结层远离该上柔性基板的软玻璃的一侧设有剥离层。
8.如权利要求6所述的柔性显示器，其特征在于，所述封装层为设于所述显示组件之上的薄膜层，该薄膜层为至少一层无机氧化物膜层或至少一层有机物膜层，或一层无机氧化物膜层与一层有机物膜层间隔堆叠设置。
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