CN103943659A - 显示基板及其制造方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示基板及其制造方法和显示装置。该显示基板包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。

Description

显示基板及其制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示基板及其制造方法和显示装置。
背景技术
有源矩阵有机发光二极管（Active Matrix/Organic Light EmittingDiode，简称：AMOLED）面板被称为下一代显示技术，白光有机发光二极管（White Organic Light-Emitting Diode，简称：WOLED）和彩膜（ColorFilter，简称：CF）技术作为AMOLED的一种重要的开发方向而备受关注，利用WOLED和CF技术制成的AMOLED显示基板具有有机电致发光（electroluminescence，简称：EL）材料利用率高、对蒸镀EL的掩膜板要求低以及采用顶发射的EL能提高开口率等优点。AMOLED显示基板的结构中，需要形成高度较高的隔垫物（Photo Spacer，简称：PS），并且需要在该隔垫物上形成辅助电极。
采用AMOLED显示基板的显示装置需要具有较大的盒厚（Cell Gap），为保证显示装置的盒厚，需要制成厚度较大的隔垫物。但是，厚度较大的隔垫物存在坡度角（Profile）较差的问题。
综上所述，由于厚度较大的隔垫物存在上述问题，因此通过提高隔垫物的厚度而提高盒厚的技术方案受到较大限制，从而导致显示装置的盒厚难以提高。
发明内容
本发明提供一种显示基板及其制造方法和显示装置，用于提高显示装置的盒厚。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
可选地，还包括：遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。
可选地，所述遮光层位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位之上，所述隔垫物位于所述遮光层之上。
可选地，相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于所述遮光层的纵截面的宽度。
可选地，所述隔垫物的厚度包括3μm至6μm。
可选地，所述隔垫物纵截面的靠近所述遮光层一侧的宽度大于远离所述遮光层一侧的宽度。
可选地，所述遮光层的材料包括有机树脂或者金属。
可选地，还包括：辅助电极，所述辅助电极形成于所述彩色矩阵图形上且覆盖所述隔垫物。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示装置，包括：上述显示基板。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示基板的制造方法，包括：
在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
可选地，还包括：形成遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。
可选地，所述形成遮光层包括：在相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上形成所述遮光层；
所述在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物包括：
在所述衬底基板上形成所述彩色矩阵图形；
在所述遮光层上形成隔垫物。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物
而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图；
图2a为实施例一中彩色矩阵图形和遮光层的结构示意图；
图2b为实施例一中隔垫物的一种具体结构示意图；
图3为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图；
图4a为实施例三中形成彩色矩阵图形的示意图；
图4b为实施例三中形成遮光层的示意图；
图4c为实施例三中形成隔垫物的示意图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的显示基板及其制造方法和显示装置进行详细描述。
图1为本发明实施例一提供的一种显示基板的结构示意图，如图1所示，该显示基板包括：衬底基板11和位于衬底基板11上方的彩色矩阵图形和隔垫物13，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物13位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
本实施例中，彩色矩阵图形可包括红色矩阵图形、绿色矩阵图形或者蓝色矩阵图形，红色矩阵图形、绿色矩阵图形和蓝色矩阵图形依次排列于衬底基板11上。图1中以依次排列的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15为例进行描述。需要说明的是：在实际应用中，彩色矩阵图形还可以为其它颜色的矩阵图形，此处不再一一列举。如图1所示，相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的边缘交叠设置，隔垫物13位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位的上方。具体地，相邻的红色矩阵图形14的边缘和绿色矩阵图形15的边缘交叠设置，因此交叠部位位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的边缘。
该显示基板还包括：遮光层12。遮光层12与相邻的彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。优选地，遮光层12位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上，隔垫物13位于遮光层12之上。如图1所示，遮光层12位于相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位之上，也就是说，红色矩阵图形14、绿色矩阵图形15、遮光层12和隔垫物13从下至上依次层叠设置。
优选地，相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于遮光层12的纵截面的宽度。图2a为实施例一中彩色矩阵图形和遮光层的结构示意图，如图2a所示，相邻的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15的交叠部位的纵截面的宽度a1大于遮光层12的纵截面的宽度b1。其中，需要说明的是：b1为遮光层12的纵截面的靠近彩色矩阵图形一侧的宽度，a1为交叠部位的纵截面中相邻彩色矩阵图形之间的交界线处的宽度。
可选地，遮光层可以位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之下，此时，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上，此种情况不再具体画出。
本实施例中，优选地，隔垫物13的厚度包括3μm至6μm；遮光层12的厚度包括0.5μm至3μm；彩色矩阵图形的厚度包括1.5μm至3μm。
优选地，隔垫物13纵截面的靠近遮光层12一侧的宽度大于远离遮光层12一侧的宽度。图2b为实施例一中隔垫物的一种具体结构示意图，如图2b所示，该隔垫物13纵截面的靠近遮光层12一侧的宽度a2大于远离遮光层12一侧的宽度b2，该隔垫物13的纵截面的形状为正梯形。在实际应用中，该隔垫物13还可以采用其它形状，此处不再一一列举。
本实施例中，遮光层12的材料可以包括有机树脂或者金属。若遮光层12的材料为有机树脂时，优选地，该有机树脂可以为黑色树脂，此时遮光层12为黑矩阵图形。或者，若遮光层12的材料为金属时，优选地，该金属为反射率较低的金属，该金属的反射率可大于0%且小于5%，例如：该金属可以为Cr。本实施例中的各附图中遮光层12以黑矩阵图形为例。
本实施例中，隔垫物13的材料可以为有机树脂，例如：该有机树脂可以包括：聚氨基甲酸酯、聚乙烯或者聚碳酸酯。
可选地，该显示基板还可以包括：辅助电极16。该辅助电极16形成于所述彩色矩阵图形上且覆盖隔垫物13。优选地，辅助电极16的材料为透明导电材料，例如：ITO或者TZO。优选地，辅助电极16的厚度为20nm至150nm。
本实施例提供的显示基板的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，从而进一步提高了显示装置的盒厚。遮光层位于彩色矩阵图形之上，降低了遮光层的宽度，从而提高了显示装置的开口率和视角。遮光层位于彩色矩阵图形之上，还有效改善了显示装置的侧向漏光以及串色现象。本实施例降低了隔垫物的厚度，改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题，从而改善了位于隔垫物之上的辅助电极的形貌，提高了辅助电极的附着性和抗变形能力，进而降低了在压盒过程中辅助电极脱落的危险。隔垫物纵截面的靠近遮光层一侧的宽度大于远离遮光层一侧的宽度，从而进一步改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题。本实施例提高了显示装置的盒厚，从而改善了EL的微腔效应。
本发明实施例二提供了一种显示装置，该显示装置包括：显示基板。该显示基板可采用上述实施例一提供的显示基板，此处不再赘述。
显示装置可以为AMOLED显示装置，则该显示装置还包括相对位置的对盒基板，该显示基板为AMOLED基板，该对盒基板为玻璃基板。具体地，该AMOLED基板还可以包括：薄膜晶体管（Thin-film transistor，简称：TFT），优选地，该TFT为铟镓锌氧化物（indium gallium zinc oxide，简称：IGZO）TFT。
或者，显示装置可以为液晶显示装置，则该显示装置还包括相对位置的对盒基板。若显示基板为彩膜基板时，该对盒基板为阵列基板；若显示基板为彩膜阵列（Color filter On Array，简称：COA）基板时，该对盒基板为玻璃基板。
本实施例提供的显示装置的技术方案中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，从而进一步提高了显示装置的盒厚。遮光层位于彩色矩阵图形之上，降低了遮光层的宽度，从而提高了显示装置的开口率和视角。遮光层位于彩色矩阵图形之上，还有效改善了显示装置的侧向漏光以及串色现象。本实施例降低了隔垫物的厚度，改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题，从而改善了位于隔垫物之上的辅助电极的形貌，提高了辅助电极的附着性和抗变形能力，进而降低了在压盒过程中辅助电极脱落的危险。隔垫物纵截面的靠近遮光层一侧的宽度大于远离遮光层一侧的宽度，从而进一步改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题。本实施例提高了显示装置的盒厚，从而改善了EL的微腔效应。
本发明实施例三提供了一种显示基板的制造方法，该方法包括：在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
可选地，该方法还可以包括：形成遮光层，遮光层与相邻的彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。
下面以图3为例对本实施例提供的显示基板的制造方法进行详细描述。图3为本发明实施例三提供的一种显示基板的制造方法的流程图，如图3所示，该方法可包括：
步骤101、在衬底基板上形成彩色矩阵图形，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置。
图4a为实施例三中形成彩色矩阵图形的示意图，如图4a所示，在衬底基板11上形成彩色矩阵图形。具体可包括：对衬底基板11进行清洗，在衬底基板11上涂覆彩色矩阵图形材料层，并对彩色矩阵图形材料层进行构图工艺形成彩色矩阵图形。优选地，可通过旋涂（spin coating）工艺在衬底基板上涂覆彩色图形材料层。图4a中彩色矩阵图形以依次排列的红色矩阵图形14和绿色矩阵图形15为例进行描述。
步骤102、在相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上形成遮光层。
图4b为实施例三中形成遮光层的示意图，如图4b所示，在相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上形成遮光层12。具体可包括：在彩色矩阵图形上涂覆遮光材料层，对遮光材料层进行构图工艺形成遮光层12。优选地，可通过旋涂工艺在彩色矩阵图形上涂覆遮光材料层。本实施例中，遮光层12为黑矩阵图形。
步骤103、在遮光层上形成隔垫物。
图4c为实施例三中形成隔垫物的示意图，如图4c所示，在遮光层12上形成隔垫物13。具体可包括：在遮光层12上涂覆隔垫物材料层，对隔垫物材料层进行构图工艺形成隔垫物13。优选地，可通过旋涂工艺在遮光层12上涂覆隔垫物材料层。
进一步地，该方法还可以包括：
步骤104、在彩色矩阵图形上形成辅助电极，且该辅助电极覆盖隔垫物。
如图1所示，在彩色矩阵图形上形成辅助电极16，该辅助电极16覆盖隔垫物13。具体可包括：在彩色矩阵图形上通过镀膜（Sputter）工艺沉积辅助电极16。
本实施例中，构图工艺可包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀以及光刻胶剥离等工艺。
本实施例中，若各结构之间的位置关系进行变更时，形成各结构的步骤顺序可进行相应变更。例如：若遮光层位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之下时，可先执行形成遮光层的步骤，而后再执行形成彩色矩阵图形的步骤。
本实施例提供的显示基板的制造方法可用于制造上述实施例一提供的显示基板，对显示基板的具体描述可参见上述实施例一，此处不再赘述。
本实施例提供的显示基板的制造方法制造出的显示基板中，相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，隔垫物位于相邻的彩色矩阵图形的交叠部位的上方，降低了隔垫物的厚度，实现了通过设置厚度较小的隔垫物而达到提高显示装置盒厚的目的，从而提高了显示装置的盒厚。相邻的彩色矩阵图形的边缘交叠设置，从而进一步提高了显示装置的盒厚。遮光层位于彩色矩阵图形之上，降低了遮光层的宽度，从而提高了显示装置的开口率和视角。遮光层位于彩色矩阵图形之上，还有效改善了显示装置的侧向漏光以及串色现象。本实施例降低了隔垫物的厚度，改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题，从而改善了位于隔垫物之上的辅助电极的形貌，提高了辅助电极的附着性和抗变形能力，进而降低了在压盒过程中辅助电极脱落的危险。隔垫物纵截面的靠近遮光层一侧的宽度大于远离遮光层一侧的宽度，从而进一步改善了隔垫物存在的坡度角较差的问题。本实施例提高了显示装置的盒厚，从而改善了EL的微腔效应。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (12)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：衬底基板和位于所述衬底基板上方的彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位之上，所述隔垫物位于所述遮光层之上。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的纵截面的宽度大于所述遮光层的纵截面的宽度。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物的厚度包括3μm至6μm。
6.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述隔垫物纵截面的靠近所述遮光层一侧的宽度大于远离所述遮光层一侧的宽度。
7.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述遮光层的材料包括有机树脂或者金属。
8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括：辅助电极，所述辅助电极形成于所述彩色矩阵图形上且覆盖所述隔垫物。
9.一种显示装置，其特征在于，包括：上述权利要求1至8任一所述的显示基板。
10.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物，相邻的所述彩色矩阵图形的边缘交叠设置，所述隔垫物位于相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位的上方。
11.根据权利要求10所述的显示基板的制造方法，其特征在于，还包括：
形成遮光层，所述遮光层与相邻的所述彩色矩阵图形的交叠部位层叠设置。
12.根据权利要求11所述的显示基板的制造方法，其特征在于，所述形成遮光层包括：在相邻的彩色矩阵图形的交叠部位之上形成所述遮光层；
所述在衬底基板上方形成彩色矩阵图形和隔垫物包括：
在所述衬底基板上形成所述彩色矩阵图形；
在所述遮光层上形成隔垫物。
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