CN103824876A - 一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置，该三维显示面板包括：有机电致发光显示器件和位于有机电致发光显示器件出光侧的液晶光栅；由于有机电致发光显示器件与液晶光栅共用一个衬底基板，这样可以节约一张衬底基板，降低生产成本，还可以减薄三维显示面板的厚度；并且，还可以省去贴合有机电致发光显示器件与液晶光栅的过程，既简化了制作工艺，又避免了在贴合过程中损坏有机电致发光器件中的各膜层所导致的显示不良的问题。

Description

一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置。

背景技术

目前，三维（Three-Dimensional，3D）显示技术已经备受关注，它可以使画面变得立体逼真，其最基本的原理是利用左右人眼分别接收不同的画面，经过大脑对接收的图像信息进行叠加重生，构成立体方向效果的影像。

在现有的显示器件中，有机电致发光显示器件（Organic ElectroluminesecentDisplay，OLED）凭借其低功耗、高色饱和度、广视角等特点，已经逐渐成为显示领域的主流。

现有的基于OLED的3D显示器件是将OLED器件和液晶光栅直接贴合制成的，如图1所示，OLED器件01包括相对而置的衬底基板101和盖板玻璃102，在衬底基板101上依次层叠设置的栅极103、栅极绝缘层104、有源层105、刻蚀阻挡层106、源极107、漏极108、绝缘层109、彩膜层110、平坦层111、像素电极112、像素限定层113、发光层114和阴极115，以及涂覆于盖板玻璃102与阴极115之间的封装胶116；液晶光栅02包括相对而置的上基板201和下基板202、位于上基板201与下基板202之间的液晶层203、上基板201面向液晶层203一侧的第一透明电极204、下基板202面向液晶层203一侧的第二透明电极205以及涂覆于上基板201和下基板202之间的封框胶206。

上述结构的3D显示器件在制作时，先分别制作OLED器件01和液晶光栅02，再采用贴合技术将OLED器件01的衬底基板101与液晶光栅02的上基板201贴合在一起，该制作工艺较为复杂。并且，在贴合OLED器件01的衬底基板101与液晶光栅02的上基板201的过程中，需要按压OLED器件01中的盖板玻璃102，这样有可能会对OLED器件01中的各膜层造成损坏，从而影响显示品质。

因此，如何优化基于OLED的3D显示器件的制作工艺，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置，用以优化基于OLED的3D显示器件的制作工艺。

因此，本发明实施例提供了一种三维显示面板，包括：有机电致发光显示器件，以及位于所述有机电致发光显示器件出光侧的液晶光栅；

所述有机电致发光显示器件与所述液晶光栅共用位于所述有机电致发光显示器件与所述液晶光栅之间的第一衬底基板。

本发明实施例提供的上述三维显示面板，由于有机电致发光显示器件与液晶光栅共用一个衬底基板，这样可以节约一张衬底基板，降低生产成本，还可以减薄三维显示面板的厚度；并且，还可以省去贴合有机电致发光显示器件与液晶光栅的过程，既简化了制作工艺，又避免了在贴合过程中损坏有机电致发光器件中的各膜层所导致的显示不良的问题。

较佳地，为了避免在对盒形成液晶光栅时的按压动作对有机电致发光显示器件中的各膜层造成损坏，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，所述有机电致发光显示器件包括：设置在所述第一衬底基板上的多个像素单元和多个隔垫物；

每个所述像素单元均分为透光区域和遮光区域，各所述隔垫物在所述第一衬底基板的正投影均位于所述遮光区域内。

进一步地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，每个所述像素单元均包括：在所述第一衬底基板上依次设置的薄膜晶体管和有机电致发光结构；

为了避免在对盒形成液晶光栅时的按压动作损坏有机电致发光显示器件中的薄膜晶体管，所述隔垫物位于所述薄膜晶体管背离所述第一衬底基板的一侧。

较佳地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，所述有机电致发光结构包括：在所述薄膜晶体管上依次层叠设置的像素电极、发光层和阴极；所述有机电致发光结构中的像素电极与所述薄膜晶体管中的漏极电性相连；

为了限定像素单元的显示区域，所述像素单元还包括：位于所述像素电极所在膜层与所述发光层所在膜层之间的像素限定层；所述像素限定层在所述第一衬底基板的正投影为所述遮光区域；

为了避免在对隔垫物进行构图工艺时的显影、剥离等过程会对发光层产生影响，所述隔垫物位于所述像素电极所在膜层与像素限定层之间，或位于所述像素限定层与所述发光层所在膜层之间。

进一步地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，所述发光层发白光；

所述像素单元还包括：位于所述薄膜晶体管所在膜层与所述像素电极所在膜层之间的彩膜层。

具体地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，所述液晶光栅还包括：与所述第一衬底基板相对设置的第二衬底基板、位于所述第一衬底基板与所述第二衬底基板之间的液晶层、位于所述第一衬底基板面向所述液晶层一侧的第一透明电极以及位于所述第二衬底基板面向所述液晶层一侧的第二透明电极；所述液晶光栅为狭缝光栅或柱状透镜光栅。

针对本发明实施例提供的上述三维显示面板的实施方式，本发明实施例还提供了一种三维显示面板的制备方法，包括：

在第一衬底基板的两侧分别形成有机电致发光显示器件和液晶光栅。

具体地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，在所述第一衬底基板的一侧形成有机电致发光显示器件，具体包括：

在所述第一衬底基板的一侧形成多个像素单元的图形和多个隔垫物的图形；其中，每个所述像素单元均分为透光区域和遮光区域，各所述隔垫物在所述第一衬底基板的正投影均位于所述遮光区域内。

进一步地，在本发明实施例提供的上述制备方法中，在所述第一衬底基板的另一侧形成液晶光栅，具体包括：

在所述第一衬底基板的一侧形成隔垫物的图形之后，将所述第一衬底基板的另一侧与第二衬底基板进行对盒处理后形成所述液晶光栅。

本发明实施例还提供了一种三维显示装置，包括本发明实施例提供的上述三维显示面板。

附图说明

图1为现有技术中三维显示器件的结构示意图；

图2a和图2b分别为本发明实施例提供的三维显示面板的结构示意图；

图3a-图3q分别为本发明实施例提供的三维显示面板的制备方法中的各步骤的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图，对本发明实施例提供的三维显示面板、其制作方法及三维显示装置的具体实施方式进行详细地说明。

附图中各膜层的形状和厚度不反映其真实比例，目的只是示意说明本发明的内容。

本发明实施例提供的一种三维显示面板，如图2a和图2b所示，包括：有机电致发光显示器件1，以及位于有机电致发光显示器件1出光侧的液晶光栅2；

有机电致发光显示器件1与液晶光栅2共用位于有机电致发光显示器件1与液晶光栅2之间的第一衬底基板3。

本发明实施例提供的上述三维显示面板，由于有机电致发光显示器件1与液晶光栅2共用一个衬底基板，这样可以节约一张衬底基板，降低生产成本，还可以减薄三维显示面板的厚度；并且，还可以省去贴合有机电致发光显示器件1与液晶光栅2的过程，既简化了制作工艺，又避免了在贴合过程中损坏有机电致发光器件1中的各膜层所导致的显示不良的问题。

在制作本发明实施例提供的三维显示面板的过程中，对盒形成液晶光栅2一般是在有机电致发光显示器件1完成所有的构图工艺之后进行的，否则构图过程中的显影液、剥离液等液体就会进入液晶光栅2，影响液晶光栅2中液晶分子的取向。然而，在完成有机电致发光显示器件1中的所有构图工艺之后再对盒形成液晶光栅2时，对盒过程中的按压动作又会对有机电致发光显示器件1中的各膜层造成损坏，进而会影响三维显示面板的显示品质。

基于此，本发明实施例提供的上述三维显示面板在有机电致发光器件1中增加了隔垫物5，以避免在对盒形成液晶光栅2时的按压动作对有机电致发光器件1中的各膜层造成损坏，如图2a和图2b所示，有机电致发光显示器件1具体可以包括：设置在第一衬底基板3上的多个像素单元4和多个隔垫物5，图2a和图2b均是以两个像素单元4为例进行说明的；其中，每个像素单元4均分为透光区域6和遮光区域7，各隔垫物5在第一衬底基板3的正投影均位于遮光区域7内。

由于本发明实施例提供的上述三维显示面板中新增的隔垫物5在第一衬底基板3的正投影位于遮光区域7内，因此新增的隔垫物5不会降低三维显示面板的开口率。并且，在对盒形成液晶光栅2时，各隔垫物5还可以缓冲盖板玻璃8的压力作用，从而可以保护有机电致发光器件1中的各膜层不会被损坏。

具体地，本发明实施例提供的上述三维显示面板在具体实施时，可以在每个像素单元4的遮光区域7内均设置隔垫物5；或者，如图2a和图2b所示，也可以根据实际按压力度的需要在部分像素单元4的遮光区域7内设置隔垫物5，在此不做限定。

进一步地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，每个像素单元4均可以包括：在第一衬底基板3上依次设置的薄膜晶体管9和有机电致发光结构10，其中，薄膜晶体管9在第一衬底基板3的正投影位于像素单元4中的遮光区域7内。具体地，隔垫物5可以设置于薄膜晶体管9背离第一衬底基板3的一侧，这样，在对盒形成液晶光栅2时，隔垫物5可以保护有机电致发光显示器件1中的薄膜晶体管9不被损坏；当然，也可以将隔垫物5设置于薄膜晶体管9面向第一衬底基板3的一侧，在此不做限定。

具体地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，薄膜晶体管9具体可以包括：在第一衬底基板3上依次层叠设置的栅极11、有源层12、源极13和漏极14。在薄膜晶体管9为底栅型结构时，薄膜晶体管9还可以包括位于源极13和漏极14与有源层12之间刻蚀阻挡层15。并且，在薄膜晶体管9的栅极11和有源层12之间还可以包括栅绝缘层16。

本发明实施例提供的上述三维显示面板在具体实施时，如图2a和图2b所示，有机电致发光结构10具体可以包括：在薄膜晶体管9上依次层叠设置的像素电极17、发光层18和阴极19；其中，有机电致发光结构10中的像素电极17与薄膜晶体管9中的漏极14电性相连。具体地，有机电致发光结构10中的像素电极17可以通过绝缘层20中的过孔与薄膜晶体管9中的漏极14电性相连；或者，也可以省去绝缘层20的设置，使有机电致发光结构10中的像素电极17直接与薄膜晶体管9中的漏极14电性相连，在此不做限定。

较佳地，为了限定像素单元4的显示区域，如图2a和图2b所示，每个像素单元4还可以包括：位于像素电极17所在膜层与发光层18所在膜层之间的像素限定层21；像素限定层21在第一衬底基板3的正投影为遮光区域7。

进一步地，由于有机电致发光结构10中的发光层18的材料在周围环境较潮湿时容易受到影响，进而会影响三维显示面板的显示品质，因此，在形成发光层18之后尽量避免进行诸如显影、剥离等构图工艺。基于此，本发明实施例提供的上述三维显示面板在具体实施时，为了避免在对隔垫物5进行构图工艺时的显影、剥离等过程会对发光层18产生影响，需要设置隔垫物5在发光层18之前形成，如图2a所示，可以将隔垫物5设置在像素电极17所在膜层与像素限定层21之间；或者，如图2b所示，还可以将隔垫物5设置在像素限定层21与发光层18所在膜层之间，在此不做限定。

具体地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，有机电致发光结构10中的发光层18可以包含分别由不同有机材料形成的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层等膜层，发光层18的具体结构属于现有技术，在此不再赘述。

进一步地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，有机电致发光结构10中的发光层18可以发三原色（红色、蓝色和绿色）的光，或者更多颜色的光，这种情况下，三维显示面板中可以省去彩色滤光片的设置。当然，有机电致发光结构10中的发光层18也可以发白光，在此不做限定。

较佳地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，在有机电致发光结构10中的发光层18发白光时，每个像素单元4还可以包括：位于薄膜晶体管9所在膜层与像素电极17所在膜层之间的彩膜层22。具体地，如图2a和图2b所示，彩膜层22可以仅设置在与每个像素单元4中的透光区域6对应的区域；或者，彩膜层22也可以整面设置，在此不做限定。

进一步地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，为了增加有机电致发光结构10中的像素电极17的平坦性，可以在彩膜层22与像素电极17所在膜层之间设置一层平坦层23。

并且，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，为了可以有效地密封有机电致发光结构10，防止有机电致发光结构10中的发光层18受潮而影响三维显示面板的显示品质，在有机电致发光结构10中的阴极19与盖板玻璃之间还可以涂覆有封装胶24。

具体地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，液晶光栅2还可以包括：与第一衬底基板3相对设置的第二衬底基板25、位于第一衬底基板3与第二衬底基板25之间的液晶层26、位于第一衬底基板3面向液晶层26一侧的第一透明电极27以及位于第二衬底基板25面向液晶层26一侧的第二透明电极28。

并且，在本发明实施例提供的上述三维显示面板中，如图2a和图2b所示，为了可以有效地密封液晶分子，在第一衬底基板3和第二衬底基板25之间可以涂覆有边界闭合的封框胶29。

本发明实施例提供的上述三维显示面板在具体实施时，液晶光栅2具体可以为狭缝光栅或柱状透镜光栅，还可以为能够产生三维效果的其他结构，在此不做限定。

针对本发明实施例提供的上述三维显示面板的实施方式，本发明实施例还提供了一种三维显示面板的制备方法，具体可以包括：在第一衬底基板的两侧分别形成有机电致发光显示器件和液晶光栅。

具体地，本发明实施例提供的上述制备方法在具体实施时，形成有机电致发光显示器件和液晶光栅并没有先后顺序，可以先形成有机电致发光显示器件再形成液晶光栅；或者，也可以先形成液晶光栅再形成有机电致发光显示器件，在此不做限定。

本发明实施例提供的上述制备方法在具体实施时，在第一衬底基板的一侧形成有机电致发光显示器件，具体可以包括：在第一衬底基板的一侧形成多个像素单元的图形和多个隔垫物的图形；其中，每个像素单元均分为透光区域和遮光区域，各隔垫物在第一衬底基板的正投影均位于遮光区域内。这样在对盒形成液晶光栅时，隔垫物可以缓冲盖板玻璃的压力作用，从而有效地保护有机电致发光显示器件中的各膜层不会被损坏，并且，位于遮光区域的隔垫物也不会降低三维显示面板的开口率。

进一步地，本发明实施例提供的上述制备方法在具体实施时，在第一衬底基板的另一侧形成液晶光栅，具体可以通过以下方式实现：在第一衬底基板的一侧形成隔垫物的图形之后，将第一衬底基板的另一侧与第二衬底基板进行对盒处理后形成液晶光栅，即在有机电致发光显示器件完成所有的构图工艺之后，对盒形成液晶光栅，这样可以避免构图过程中的显影液、剥离液等液体进入液晶光栅，影响液晶光栅中液晶分子的取向。

具体地，本发明实施例提供的上述制备方法在具体实施时，发光层可以在对盒形成液晶光栅之后形成，也可以在形成隔垫物和像素限定层之后且在对盒形成液晶光栅之前形成，在此不做限定。

当发光层在形成隔垫物和像素限定层之后且在对盒形成液晶光栅之前形成时，由于隔垫物可以缓冲压力作用，因此对盒形成液晶光栅时的按压动作也不会损坏脆弱的发光层。

下面以制备图2a所示的三维显示面板为例，对上述三维显示面板的制备方法进行详细说明。

具体地，制备图2a所示的三维显示面板，具体的制作过程包括以下几个步骤：

1、在第一衬底基板3的一侧形成第一透明电极27的图形，如图3a所示；

2、在第一衬底基板3的另一侧形成栅极11的图形，如图3b所示；

3、在形成有栅极11的图形的第一衬底基板3上形成栅绝缘层16，如图3c所示；

4、在形成有栅绝缘层16的第一衬底基板3上形成有源层12的图形，如图3d所示；

5、在形成有有源层12的图形的第一衬底基板3上形成刻蚀阻挡层15的图形，如图3e所示；

6、在形成有刻蚀阻挡层15的图形的第一衬底基板3上形成源极13和漏极14的图形，如图3f所示；

7、在形成有源极13和漏极14的图形的第一衬底基板3上形成绝缘层20，如图3g所示；

8、在形成有绝缘层20的第一衬底基板3上形成彩膜层22的图形，如图3h所示；

9、在形成有彩膜层22的图形的第一衬底基板3上形成平坦层23，如图3i所示；

10、对漏极14上方的绝缘层20进行刻蚀形成过孔，如图3j所示；

11、在形成有平坦层23的第一衬底基板3上形成像素电极17的图形，如图3k所示，像素电极17通过绝缘层20中的过孔与漏极14电性相连；

12、在形成有像素电极17的图形的第一衬底基板3上形成隔垫物5的图形，如图3l所示；

13、在形成有隔垫物5的图形的第一衬底基板3上形成像素限定层21的图形，如图3m所示；

14、形成有第二透明电极28的第二衬底基板25的一侧与形成有第一透明电极27的第一衬底基板3的一侧对位、预压、热压成盒，如图3n所示；

15、在形成有像素限定层21的图形的第一衬底基板3上形成发光层18的图形，如图3o所示；

16、在形成有发光层18的图形的第一衬底基板3上形成阴极19，如图3p所示；

17、在第一衬底基板3和第二衬底基板25之间灌入液晶分子26，并封口，如图3q所示；

18、在阴极19的表面涂覆封装胶24，贴合盖板玻璃8，制得如图2a所示的三维显示面板。

具体地，本发明实施例提供的上述三维显示面板的制备方法在具体实施时，各步骤之间的顺序可以进行适当的调换，并非局限于此。

具体地，在本发明实施例提供的上述三维显示面板的制备方法中，形成上述各图形可以采用构图工艺，需要说明的是，构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。

基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种三维显示装置，包括本发明实施例提供的上述三维显示面板，该三维显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该三维显示装置的实施可以参见上述三维显示面板的实施例，重复之处不再赘述。

本发明实施例提供的一种三维显示面板、其制作方法及三维显示装置，该三维显示面板包括：有机电致发光显示器件和位于有机电致发光显示器件出光侧的液晶光栅；由于有机电致发光显示器件与液晶光栅共用一个衬底基板，这样可以节约一张衬底基板，降低生产成本，还可以减薄三维显示面板的厚度；并且，还可以省去贴合有机电致发光显示器件与液晶光栅的过程，既简化了制作工艺，又避免了在贴合过程中损坏有机电致发光器件中的各膜层所导致的显示不良的问题。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种三维显示面板，包括：有机电致发光显示器件，以及位于所述有机电致发光显示器件出光侧的液晶光栅，其特征在于：

所述有机电致发光显示器件与所述液晶光栅共用位于所述有机电致发光显示器件与所述液晶光栅之间的第一衬底基板。

2.如权利要求1所述的三维显示面板，其特征在于，所述有机电致发光显示器件包括：设置在所述第一衬底基板上的多个像素单元和多个隔垫物；

每个所述像素单元均分为透光区域和遮光区域，各所述隔垫物在所述第一衬底基板的正投影均位于所述遮光区域内。

3.如权利要求2所述的三维显示面板，其特征在于，每个所述像素单元均包括：在所述第一衬底基板上依次设置的薄膜晶体管和有机电致发光结构；

所述隔垫物位于所述薄膜晶体管背离所述第一衬底基板的一侧。

4.如权利要求3所述的三维显示面板，其特征在于，所述有机电致发光结构包括：在所述薄膜晶体管上依次层叠设置的像素电极、发光层和阴极；所述有机电致发光结构中的像素电极与所述薄膜晶体管中的漏极电性相连；

所述像素单元还包括：位于所述像素电极所在膜层与所述发光层所在膜层之间的像素限定层；所述像素限定层在所述第一衬底基板的正投影为所述遮光区域；

所述隔垫物位于所述像素电极所在膜层与像素限定层之间，或位于所述像素限定层与所述发光层所在膜层之间。

5.如权利要求4所述的三维显示面板，其特征在于，所述发光层发白光；

所述像素单元还包括：位于所述薄膜晶体管所在膜层与所述像素电极所在膜层之间的彩膜层。

6.如权利要求1所述的三维显示面板，其特征在于，所述液晶光栅还包括：与所述第一衬底基板相对设置的第二衬底基板、位于所述第一衬底基板与所述第二衬底基板之间的液晶层、位于所述第一衬底基板面向所述液晶层一侧的第一透明电极以及位于所述第二衬底基板面向所述液晶层一侧的第二透明电极；所述液晶光栅为狭缝光栅或柱状透镜光栅。

7.一种如权利要求1-6任一项所述的三维显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

在第一衬底基板的两侧分别形成有机电致发光显示器件和液晶光栅。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述第一衬底基板的一侧形成有机电致发光显示器件，具体包括：

在所述第一衬底基板的一侧形成多个像素单元的图形和多个隔垫物的图形；其中，每个所述像素单元均分为透光区域和遮光区域，各所述隔垫物在所述第一衬底基板的正投影均位于所述遮光区域内。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，在所述第一衬底基板的另一侧形成液晶光栅，具体包括：

在所述第一衬底基板的一侧形成隔垫物的图形之后，将所述第一衬底基板的另一侧与第二衬底基板进行对盒处理后形成所述液晶光栅。

10.一种三维显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一项所述的三维显示面板。

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