CN103717542A - 光学玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种光学玻璃,其玻璃化温度(Tg)低,具有折射率(nd)为1.60~1.80以下、阿贝数为30~60的范围内的光学常数,并且稀土类含量低。光学玻璃的折射率(nd)在1.60~1.80的范围内,阿贝数(νd)在30~60的范围内,玻璃化温度(Tg)为600℃以下,并且,以基于氧化物的质量%计,Ln2O3(Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上)、Bi2O3、Ta2O5、GeO2及WO3的总量为20%以下,Nb2O5的含量为20%以下。优选地,除了上述以外,以基于氧化物的质量%计,含有如下物质:SiO2:10%~50%,B2O3:30%以下,TiO2:大于0%且在20%以下,RO(R为选自Mg、Ca、Zn、Sr、Ba中的一种以上):10%以上且在60%以下。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学玻璃,其玻璃化温度(Tg)低,具有折射率(nd)为1.60~1.80以下、阿贝数(νd)为30~60的范围内的光学常数,并且稀土类含量低。
背景技术
折射率(nd)超过1.70并且阿贝数超过40的高折射率低分散的光学玻璃中,一般情况下通过使La2O3等稀土类氧化物、Nb2O5等为高含有率来制作具有目标光学常数的光学玻璃,这已成为主流。
关于作为稀土类的La2O3和Gd2O3等,因为近年来存在供给国的单一集中及出口管制的问题,稳定供给存在悬念。同样地,Nb2O5等也于近年原料价格高涨,因此人们期望光学玻璃不含有这些原料或者其组成范围中这些原料的含量少、且具有高折射率及低分散的区域中的光学常数。
关于由玻璃形成的光学元件的通过压制成型的成型方法,主要已知使玻璃(预成型体(preform))再加热·软化而压制成规定形状的成型方式、和对模具进行加热后滴加熔融玻璃而压制成型的直接加压(direct press)方式。这些方式的压制成型均需要将压制模具(pressmold)加热至接近玻璃化温度(Tg)或其以上的温度。特别地,模压(mold press)的情况下,需要模具表面被精密地转印至玻璃,因此,因为玻璃化温度(Tg)高及促进了模具氧化等,导致模具寿命变短,所以对模压中使用的玻璃而言,具有较低的玻璃化温度(Tg)是重要的特性。
专利文献1中公开了由SiO2-B2O3-ZnO-RO-R1 2O类的组成构成的玻璃。但是,该公报中目标光学常数的范围为折射率(nd)1.60~1.70、阿贝数(νd)40~55,因此与本发明的目标光学常数不同。
专利文献2中虽然公开了折射率(nd)为1.69~1.74、阿贝数(νd)为40~55的范围、玻璃化温度(Tg)为500℃以下的玻璃,但其含有相当量的La2O3、Nb2O5,因此不能充分满足上述本发明的要求。
专利文献1:日本特开平11-029338号公报
专利文献2:日本特开2008-179500号公报
发明内容
本发明目的是消除这类光学玻璃中所见的诸项缺点,提供一种具有期望的光学常数、玻璃化温度(Tg)低、且适于模压的光学玻璃。
本发明的发明人为了解决上述问题进行了潜行研究,结果发现通过并用SiO2及B2O3与适量的RO成分、将其控制在规定的含量范围内,可以得到具有上述光学常数、且玻璃化温度(Tg)低的适于模压的光学玻璃。具体而言,本发明提供了下述内容。
(1)一种光学玻璃,所述光学玻璃的折射率(nd)在1.60~1.80的范围内,阿贝数(νd)在30~60的范围内,玻璃化温度(Tg)为600℃以下,并且,以基于氧化物的质量%计,Ln2O3(Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上)、Bi2O3、Ta2O5、GeO2及WO3的总量为20%以下,Nb2O5的含量为20%以下。
(2)如(1)所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%计,
SiO2的含量为10%~50%,
B2O3的含量为30%以下,
RO(R为选自Mg、Ca、Zn、Sr、Ba中的一种以上)的含量为10%以上、60%以下。
(3)如(1)或(2)所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%计,
BaO的含量为0%~60%,
CaO的含量为0%~60%,
ZnO的含量为0%~20%,
SrO的含量为0%~20%,
MgO的含量为0%~20%,
Li2O的含量为0%~20%,
Na2O的含量为0%~20%,
K2O的含量为0%~20%,
ZrO2的含量为0%~20%,
TiO2的含量为0%~20%,
Al2O3的含量为0%~20%,
P2O5的含量为0%~20%,
Nb2O5的含量为0%~20%,
Ta2O5的含量为0%~20%,
La2O3的含量为0%~20%,
Gd2O3的含量为0%~20%,
GeO2的含量为0%~20%,
Y2O3的含量为0%~20%,
Yb2O3的含量为0%~20%,
WO3的含量为0%~20%,
Bi2O3的含量为0%~20%,
Sb2O3的含量为0%~1%。
(4)如(1)~(3)中任一项所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%表示,SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5的总含量为0.1%~90%。
(5)如(1)~(4)中任一项所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%表示,
(MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)/(SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5)≥1.0。
(6)一种光学玻璃成型体,其是通过包括热加工的加工步骤将(1)~(5)中任一项所述的光学玻璃进行成型而得到的。
(7)如(6)所述的光学玻璃成型体,其中,所述热加工包括选自直接加压成型(Direct Press-molding)、再热压(reheat press)及再拉深(redraw)成型中的一种以上。
(8)一种光学玻璃成型体,其是通过包括冷加工的加工步骤将(1)~(5)中任一项所述的光学玻璃进行成型而得到的。
(9)如(8)所述的光学玻璃成型体,其中,所述冷加工包括选自切割、磨削、研磨中的一种以上。
(10)一种光学玻璃基板,其是由(6)~(9)中任一项所述的光学玻璃成型体形成的。
(11)一种光学元件用预成型体,其是由(6)~(9)中任一项所述的光学玻璃成型体形成的。
(12)一种光学元件用预成型体,其是对(10)所述的光学玻璃基板进行热加工和/或冷加工而成的。
(13)一种光学元件,其是通过包括模压成型的加工步骤将(11)或(12)所述的预成型体进行成型而得到的。
(14)一种光学元件,其是通过包括模压成型的加工步骤将(10)所述的基板进行成型而得到的。
通过本发明,可提供具有期望的光学常数、玻璃化温度(Tg)低、且适于模压的光学玻璃。
具体实施方式
以下对本发明进行具体说明,但本发明并不限于以下实施方式。
构成本发明的光学玻璃的各成分的组成范围如下所述。本说明书中,各成分的含量在没有特别限定时,全部以相对于基于氧化物的玻璃总质量的质量%表示。此处“基于氧化物”是指下述组成:假设作为本发明的玻璃构成成分的原料使用的氧化物、复合盐、金属氟化物等在熔融时全部被分解转化为氧化物的情况下,以该生成氧化物的总质量作为100质量%来表示玻璃中含有的各成分。
SiO2成分为对增加玻璃的粘度、提高耐失透性来说有效的必需成分。但是,其含量过少时上述效果不充分,其含量过多时,导致玻璃化温度(Tg)的上升、熔融性的恶化。因此,对于SiO2成分的含量,下限优选为10%、更优选为12%以上、最优选为14%。此外,对于SiO2成分的含量,上限优选为50%、更优选为29%、最优选为27%。
B2O3成分作为形成玻璃的氧化物成分,是对增加玻璃稳定性来说是有效的成分。但是,其含量过多时反而有耐失透性恶化、并且化学耐久性恶化的危险。因此,对于B2O3成分的含量,上限优选为30%、更优选为18%、最优选为16%。
需要说明的是,本发明的光学玻璃即使不含B2O3成分也能满足期望的特性,但为了稳定生产本发明的光学玻璃,B2O3成分也可优选以大于0%、更优选以4%以上、最优选以6%以上被含有。
RO成分(R为选自由Mg、Ca、Zn、Sr、Ba组成的组中的一种以上)具有提高玻璃的形成能力、使玻璃的折射率、稳定性提高的效果,因此为必需成分。但是,它们的总量过多时,玻璃的稳定性受损,耐失透性容易恶化。因此,RO成分的总量上限优选为60%、更优选为58%、最优选为56%。另一方面,为了容易获得本发明的效果,基于合计而言以优选大于10%、更优选36%以上、最优选38%以上含有RO成分。
BaO成分为对光学常数的调整有效的成分。但是,其含量过多时耐失透性容易恶化。因此,对于,BaO成分的含量,上限优选为60%、更优选为44%、最优选为42%。另一方面,BaO成分的含量过少时难以获得增加耐失透性的效果,因此,对于BaO成分的含量,下限优选为10%、更优选为14%、进一步更优选为23%、最优选为24%。
CaO成分为对光学常数的调整及耐失透性的改善有效的成分。但是,其含量过多时,有化学耐久性恶化的危险。因此,对于CaO成分的含量,上限优选为60%、更优选为42%、最优选为12%。另一方面,为了容易地实现本发明的玻璃所要求的光学特性,CaO成分也可以以优选大于0%、更优选2%以上、最优选3%以上被含有。
ZnO成分为具有降低玻璃化温度(Tg)的效果的成分。但是其含量过多时,有耐失透性恶化的危险。因此,对于ZnO的含量,上限优选为20%、更优选为11%、最优选为9%。另一方面,为了稳定地生产本发明的玻璃,ZnO成分也可以以优选大于0%、更优选0.3%以上、最优选0.5%以上被含有。
SrO成分与BaO成分、CaO成分相同为对光学常数的调整有效的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性恶化的危险。因此,对于SrO成分的含量,上限优选为20%、更优选为6%、最优选为4%。另一方面,为了容易地实现本发明的玻璃所要求的光学特性,SrO成分也可以以优选大于0%、更优选0.5%以上、最优选1.0%以上被含有。
MgO成分是为了在光学常数的调整中根据用途进行调整而添加的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性恶化的危险。因此,对于MgO的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为7%、最优选为3%。
Li2O成分是具有大幅降低玻璃化温度(Tg)、并且在溶解被混合的玻璃原料时促进溶解的效果的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性及化学耐久性恶化的危险。因此,对于Li2O成分的含量,上限优选为20%、更优选为11%、最优选为9%。另一方面,为了稳定地生产本发明的玻璃,Li2O成分也可以以优选大于0%、更优选1%以上、最优选2%以上被含有。
Na2O成分为对在使玻璃熔融性提高的同时降低玻璃化温度(Tg)有效的成分。但是,其含量过多时,有化学耐久性恶化的危险。因此,对于Na2O成分的含量,上限优选为20%、更优选为16%、最优选为12%。
K2O成分为具有使玻璃化温度(Tg)下降的效果的成分。但是,其含量过多时,有化学耐久性恶化的危险。因此,对于K2O成分的含量,上限优选为20%、更优选为15%、进一步更优选为10%、最优选为3%。
ZrO2成分为具有调整光学常数改善耐失透性的效果的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性恶化的危险。因此,对于ZrO2成分的含量,上限优选为20%、更优选为12%、最优选为10%。需要说明的是,虽然也可以不含有ZrO2成分,但从改善耐失透性的观点来看,ZrO2成分的含量的下限值优选大于0%,更优选以0.6%为下限值,进一步更优选以0.8%为下限值。
TiO2成分是为了向玻璃赋予高折射率及高分散的特性、调整光学常数而有效的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性或光线透过率恶化的危险。因此,对于TiO2成分的含量,上限优选为20%、更优选为16%、最优选为14%。另一方面,为了容易地实现本发明的玻璃所要求的光学特性,TiO2成分以优选大于0%、更优选3%以上、最优选5%以上被含有。
Al2O3成分是对提高化学耐久性有效的成分。但是,其含量过多时,有耐失透性恶化的危险。因此,对于Al2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为7%、最优选为5%。需要说明的是,虽然也可以不含有Al2O3成分,但从提高化学耐久性的观点来看,Al2O3成分的含量的下限值优选大于0%,更优选以0.3%为下限值,进一步更优选以0.5%为下限值。
P2O5成分为对耐失透性有效的成分。但是,其含量过多时,有化学耐久性恶化的危险。因此,对于P2O5成分的含量,上限优选为20%、更优选为6%、最优选为4%。
La2O3成分为对增加玻璃折射率、使得低分散化来说有效的成分。但是,La2O3成分为成本高的原料,因此其含量过多时,有光学玻璃的材料成本增大的危险。因此,对于La2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为3%、最优选为0.5%。
Gd2O3成分为对增加玻璃折射率、使得低分散化来说有效的成分。但是,Gd2O3成分含量过多时,因为其原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于Gd2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为3%、最优选为0.5%。
Yb2O3成分为具有增加玻璃折射率、使得低分散化的效果的成分。但是,其含量过多时,耐失透性容易恶化。另外,因为原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于Yb2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为7%、最优选为3%。
Nb2O5成分是具有向玻璃赋予高折射率、高分散特性并改善耐失透性的效果的成分。但是,其含量过多时,因为原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于Nb2O5成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为5%、最优选为0.5%。
Ta2O5成分为具有增加玻璃折射率、提高化学耐久性、改善耐失透性的效果的成分。但是,其含量过多时,耐失透性恶化。因此,对于Ta2O5成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、最优选为3%。
Bi2O3成分为具有增加玻璃折射率、降低玻璃化温度(Tg)的效果的成分。但是,其含量过多时,耐失透性容易恶化。因此,对于Bi2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、最优选为3%。
GeO2成分为具有增加折射率、使得耐失透性改善的效果的成分。但是,其含量过多时,因为原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于GeO2成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、最优选为3%。
Y2O3成分为具有增加玻璃折射率、使得低分散化的效果的成分。但是,其含量过多时,耐失透性容易恶化。另外,因为原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于Y2O3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、进一步更优选为7%,最优选为3%。
WO3成分虽然为增加玻璃折射率、提高玻璃的化学耐久性的任选成分,但其含量为20%以下时,能增加玻璃的耐失透性。因此,对于WO3成分的含量,上限优选为20%、更优选为10%、最优选为3%。
对于Sb2O3成分,为了玻璃熔融时的脱泡可任选地添加。但是,其含量过多时,有光线透过率恶化的危险。因此,对于Sb2O3成分的含量,上限优选为1%、更优选为0.8%、最优选为0.7%。需要说明的是,虽然也可以不含Sb2O3成分,但从促进玻璃熔融时的脱泡的观点来看,Sb2O3成分的含量的下限值优选大于0%,更优选以0.01%为下限值,进一步更优选以0.03%为下限值。
本发明的发明人发现,在本发明的玻璃组成体系中,通过适当地调节SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5的总含量,能够容易地满足上述要求的光学常数。但是,该总含量过少时,上述效果不充分,而总含量过多时,难于获得上述光学常数。因此,对于SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5的总含量,下限优选为0.1%、更优选为15%、最优选为20%。另外,对于该总含量,上限优选为90%、更优选为50%、最优选为45%。
对于本发明的光学玻璃,以质量%计,MgO成分、CaO成分、SrO成分、BaO成分及ZnO的总量相对于SiO2成分、B2O3成分、Al2O3成分及P2O5成分的总量之比,即,(MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)/(SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5)值优选为1.0以上。通过使该值为1.0以上,能容易获得期望的折射率。因此,该值优选为1.0以上、更优选为1.1以上、进一步更优选为1.2以上、最优选为1.5以上。需要说明的是,从维持高耐失透性的观点来看,该值的上限也可优选为5.00、更优选为4.00、进一步更优选为3.50、进一步更优选为3.00。
对于Ln2O3(Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上)成分,是增加玻璃的折射率、获得低分散化的效果大的、有效的成分。但是,这些成分的总量过多时,因为原料价格非常高,所以光学玻璃的材料成本变高。因此,对于该总量,上限优选为20%、更优选为16%、最优选为12%。
Bi2O3成分、Ta2O5成分、GeO2成分及WO3成分虽然是对光学常数的调整有用的成分,但因它们有使着色性恶化的悬念,并且近年来价格高涨,有玻璃整体成本大幅上升的危险。因此,对于Bi2O3、Ta2O5、GeO2及WO3的总量,上限优选为20%、更优选为16%、最优选为12%。
进而,从降低玻璃整体成本的观点来看,Ln2O3(Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上)成分、Bi2O3成分、Ta2O5成分、GeO2成分及WO3成分的总量为20%以下,更优选以16%为上限,最优选以12%为上限。
[预成型体和光学元件]
本发明的光学玻璃对于各种光学元件及光学设计有用,其中特别地,可使用精密压制成型等手段,由本发明的光学玻璃制造透镜、棱镜、镜子等光学元件。由此,用于照相机、投影仪等使可见光透过光学元件的光学设备时,能在高精细地实现高精度的成像特性的同时实现这些光学设备中光学系统的小型化。特别地,因为本发明的光学玻璃兼具高折射率低分散的特性和低温软化性,所以可通过模压成型制成非球面透镜,能对光学系统的小型化大为有用。
本文中,为了制造由本发明的光学玻璃形成的光学元件,也可以通过利用与现有的光学玻璃相同的方法进行热加工和/或冷加工,制成预成型体,并对它们进行模压成型。
与现有的预成型体制造方法不同,本发明的光学玻璃能以热成型,例如直接加压、模压及再拉深等手法、以薄基板的形式制成成型品,并通过后续步骤将该基板制成透镜等光学元件。
本文中,也可以通过对经热成型的板材进行切割、钻凿、磨削、研磨等冷加工,或进行冷加工与上述热加工的组合,来制造上述基板。
由基板制造光学元件的方法没有特别限定,可以通过对每块基板进行模压成型而将成型体的形状转移到基板上,或者也可以对通过预先切割基板得到的预成型体进行成型来制造光学元件。
进而,本发明的光学玻璃不仅用于照相机等的光学系统,还可用于LED用密封玻璃和高像素移动电话机用照相机透镜等中。
实施例
以下针对本发明的实施例进行说明,但本发明并不限于这些实施例。
本发明的玻璃的实施例(No.1~No.168)的组成与这些玻璃的折射率(nd)、阿贝数(νd)、玻璃化温度(Tg)及屈服点(At)(DeformationPoint)示于表1~表23中。表中各成分的组成以基于氧化物的质量%来表示。
表1
表2
表3
表4
表5
表6
表7
表8
表9
表10
表11
表12
表13
表14
表15
表16
表17
表18
表19
表20
表21
表22
表23
表24
表1~表23所示的本发明的实施例的光学玻璃(No.1~No.168)按下文所述制作得到:称量氧化物、氢氧化物、碳酸盐、硝酸盐等通常的光学玻璃用原料,使其为表1~表23所示的各实施例的组成的比例,将它们混合,投入铂坩埚中,根据基于组成的熔融性,在1000~1300℃进行3~5小时熔融、澄清、搅拌而均匀化后,浇铸进模具等中缓慢冷却。
折射率(nd)和阿贝数(νd)是针对缓慢降温速度为-25℃/小时而得的光学玻璃测定的。
玻璃化温度(Tg)是通过日本光学硝子工业会标准JOGISO8-2003(光学玻璃的热膨胀的测定方法)记载的方法测定的。但是,作为试验片,使用了长度为50mm、直径为4mm的试料。
屈服点(At)与玻璃化温度(Tg)同样是按照日本光学硝子工业会标准JOGISO8-2003(光学玻璃的热膨胀的测定方法)记载的方法来测定的,其为玻璃的拉伸停止、收缩开始时的温度。另外,作为试验片,使用了长度为50mm、直径为4mm的试料。
如表1~表23所示,本发明的实施例的光学玻璃(No.1~No.168)全部都具有所期望的范围内的光学常数(折射率(nd)和阿贝数(νd))、并且玻璃化温度(Tg)在470~600℃的范围内,因此适合于精密模压成型。
与之相对地,对于表24所示的组成的比较例A~C的各试料,在与上述实施例相同的条件下制造玻璃,通过相同的评价方法对所制造的玻璃进行评价。比较例(No.A、No.B)的折射率(nd)为1.73~小于1.75,阿贝数(νd)为40~小于50,因为含有La2O3、Nb2O5,所以无法满足本发明中要求的性能、低材料成本。另外,比较例C中,玻璃化温度(Tg)在600℃以下的范围之外。因此,比较例C也无法满足本发明中要求的性能。
以上,出于示例的目的详细地说明了本发明,但本实施例仅出于示例的目的,可以理解,在不脱离本发明的主旨及范围的情况下,本领域技术人员可以进行多种变更。
以上,如上文所述,本发明的光学玻璃为组成为SiO2-B2O3-TiO2-ZrO2-CaO-Li2O类、并且不含铅、砷、氟的玻璃,其具有折射率(nd)为1.60~小于1.80、阿贝数(νd)在30~60的范围内的光学常数,玻璃化温度(Tg)在600℃以下,适于精密模压成型,因此在产业上非常有用。
Claims (14)
1.一种光学玻璃,所述光学玻璃的折射率(nd)在1.60~1.80的范围内,阿贝数(νd)在30~60的范围内,玻璃化温度(Tg)为600℃以下,并且,以基于氧化物的质量%计,Ln2O3、Bi2O3、Ta2O5、GeO2及WO3的总量为20%以下,Nb2O5的含量为20%以下,式中,Ln为选自La、Y、Yb、Gd中的一种以上。
2.如权利要求1所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%计,
SiO2的含量为10%~50%,
B2O3的含量为30%以下,
RO的含量为10%以上、60%以下,式中,R为选自Mg、Ca、Zn、Sr、Ba中的一种以上。
3.如权利要求1或2所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%计,
BaO的含量为0%~60%,
CaO的含量为0%~60%,
ZnO的含量为0%~20%,
SrO的含量为0%~20%,
MgO的含量为0%~20%,
Li2O的含量为0%~20%,
Na2O的含量为0%~20%,
K2O的含量为0%~20%,
ZrO2的含量为0%~20%,
TiO2的含量为0%~20%,
Al2O3的含量为0%~20%,
P2O5的含量为0%~20%,
Nb2O5的含量为0%~20%,
Ta2O5的含量为0%~20%,
La2O3的含量为0%~20%,
Gd2O3的含量为0%~20%,
GeO2的含量为0%~20%,
Y2O3的含量为0%~20%,
Yb2O3的含量为0%~20%,
WO3的含量为0%~20%,
Bi2O3的含量为0%~20%,
Sb2O3的含量为0%~1%。
4.如权利要求1~3中任一项所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%表示,SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5的总含量为0.1%~90%。
5.如权利要求1~4中任一项所述的光学玻璃,其中,
以基于氧化物的质量%表示,
(MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)/(SiO2+B2O3+Al2O3+P2O5)≥1.0。
6.一种光学玻璃成型体,其是通过包括热加工的加工步骤将权利要求1~5中任一项所述的光学玻璃进行成型而得到的。
7.如权利要求6所述的光学玻璃成型体,其中,所述热加工包括选自直接加压成型、再热压及再拉深成型中的一种以上。
8.一种光学玻璃成型体,其是通过包括冷加工的加工步骤将权利要求1~5中任一项所述的光学玻璃进行成型而得到的。
9.如权利要求8所述的光学玻璃成型体,其中,所述冷加工包括选自切割、磨削、研磨中的一种以上。
10.一种光学玻璃基板,其是由权利要求6~9中任一项所述的光学玻璃成型体形成的。
11.一种光学元件用预成型体,其是由权利要求6~9中任一项所述的光学玻璃成型体形成的。
12.一种光学元件用预成型体,其是对权利要求10所述的光学玻璃基板进行热加工和/或冷加工而成的。
13.一种光学元件,其是通过包括模压成型的加工步骤将权利要求11或12所述的预成型体进行成型而形成的。
14.一种光学元件,其是通过包括模压成型的加工步骤将权利要求10所述的基板进行成型而形成的。
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C10 | Entry into substantive examination | ||
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Application publication date: 20140409 |