CN103664898B - 有机金属化合物和包含它的有机发光装置 - Google Patents

Abstract

一种有机金属化合物可由化学式1表示：还提供了一种包含该有机金属化合物的有机发光装置。

Description

有机金属化合物和包含它的有机发光装置

相关专利申请的交叉引用

本申请要求于2012年9月7日向韩国知识产权局递交的标题为“有机金属化合物和包含它的有机发光装置”的韩国专利申请申请第10-2012-0099543号的优先权，其全部内容通过引用合并于此。

技术领域

本发明的实施方式涉及用于有机发光装置的化合物和包含该化合物的有机发光装置。

背景技术

有机发光装置（OLED）可为发光装置（例如自发光装置），并可具有例如宽视角、优异的对比、快响应、高亮度、优异的驱动电压特性和能提供多色图像等优点。

发明内容

本发明的实施方式涉及由化学式1表示的有机金属化合物：

其中，化学式1中：M可为过渡金属；X₁可为N或C(R₅)；R₁至R₅可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)、-C(=O)(Q₆)和通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组；可选择地，R₁至R₅的两个取代基可连接到一起，以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；Q₁至Q₆可各自独立地选自氢原子、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；n可为1至3的整数；L为单齿、二齿、三齿或四齿有机配体；并且m可为0至4的整数。

M可选自由钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)和铂(Pt)组成的组。

X₁可为C(R₅)。

X₁可为N。

X₁可为C(R₅)；R₁至R₅可各自独立地为选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，戊基，己基，庚基，辛基，壬基，癸基，甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基，戊氧基，及被选自氘原子、氟原子、羟基、氰基、硝基、和氨基的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的一种；并且所述取代的基团可选自取代的甲基、取代的乙基、取代的正丙基、取代的异丙基、取代的正丁基、取代的异丁基、取代的叔丁基、取代的戊基、取代的己基、取代的庚基、取代的辛基、取代的壬基、取代的癸基、取代的甲氧基、取代的乙氧基、取代的丙氧基、取代的丁氧基和取代的戊氧基的组。

X₁可为N；R₁至R₄可各自独立地为选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，戊基，己基，庚基，辛基，壬基，癸基，甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基和戊氧基，及被选自氘原子、氟原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的一种；并且所述取代的基团可选自取代的甲基、取代的乙基、取代的正丙基、取代的异丙基、取代的正丁基、取代的异丁基、取代的叔丁基、取代的戊基、取代的己基、取代的庚基、取代的辛基、取代的壬基、取代的癸基、取代的甲氧基、取代的乙氧基、取代的丙氧基、取代的丁氧基和取代的戊氧基的组。

i)R₂和R₃可连接到一起，以使所述有机金属化合物由化学式1A表示；ii)X₁可为C(R₅)，并且R₄和R₅可连接到一起，以使所述有机金属化合物由化学式1B表示；或者iii)R₂和R₃可连接到一起，X₁可为C(R₅)，并且R₄和R₅可连接到一起，以使所述有机金属化合物由化学式1C表示：

其中，化学式1A、1B和1C中：M、X₁、R₁至R₅、n、L和m可如在化学式1中定义；并且A环和B环可各自独立地选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组。

所述有机金属化合物可由化学式1A或化学式1C表示；所述A环可为选自苯，并环戊二烯，茚，萘，甘菊环，庚搭烯，引达省，苊，芴，螺芴，非那烯，菲，蒽，荧蒽，苯并菲，芘，及被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的至少一种；Q₁₁至Q₁₅可各自独立地选自氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基和C₂至C₂₀杂芳基的组；并且所述取代的基团可选自取代的苯、取代的并环戊二烯、取代的茚、取代的萘、取代的甘菊环、取代的庚搭烯、取代的引达省、取代的苊、取代的芴、取代的螺芴、取代的非那烯、取代的菲、取代的蒽、取代的荧蒽、取代的苯并菲、取代的芘和取代的的组。

所述有机金属化合物可由化学式1B或化学式1C表示；所述B环可为选自环丙烷，环丁烷，环戊烷，环己烷，环庚烷，环辛烷，环戊烯，环戊二烯，环己二烯，环庚二烯，二环庚烷，二环辛烷，苯，并环戊二烯，茚，萘，甘菊环，庚搭烯，引达省，苊，芴，螺芴，非那烯，菲，蒽，荧蒽，苯并菲，芘，及被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的至少一种；Q₁₁至Q₁₅可各自独立地选自氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基和C₂至C₂₀杂芳基的组；所述取代的基团可选自取代的环丙烷、取代的环丁烷、取代的环戊烷、取代的环己烷、取代的环庚烷、取代的环辛烷、取代的环戊烯、取代的环戊二烯、取代的环己二烯、取代的环庚二烯、取代的二环庚烷、取代的二环辛烷、取代的苯、取代的并环戊二烯、取代的茚、取代的萘、取代的甘菊环、取代的庚搭烯、取代的引达省、取代的苊、取代的芴、取代的螺芴、取代的非那烯、取代的菲、取代的蒽、取代的荧蒽、取代的苯并菲、取代的芘和取代的的组。

所述有机金属化合物可由选自化学式1A-(1)、1B-(1)、1B-(2)、1B-(3)、1C-(1)、1C-(2)、1C-(3)和1D-(1)的组中的至少一种表示：

其中，化学式1A-(1)、1B-(1)、1B-(2)、1B-(3)、1C-(1)、1C-(2)、1C-(3)和1D-(1)中：R₁至R₅、R₁₁至R₁₄以及R₂₁至R₂₈可各自独立地选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基，C₁至C₂₀烷氧基，取代的C₁至C₂₀烷基，取代的C₁至C₂₀烷氧基，苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基；及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的组中的至少一种所取代的取代的环状基团的组；所述取代的C₁至C₂₀烷基和所述取代的C₁至C₂₀烷氧基可各自被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一个取代；所述取代的环状基团可选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的芴基、取代的咔唑基、取代的吡啶基、取代的嘧啶基和取代的三嗪基的组；n可为1至3的整数；L可为有机配体；并且m为0至4的整数。

m可为1、2、3或4；L_m的至少一个可由选自化学式2A至2F的组中的一个表示：

其中，化学式2A至2F中：M₁可为P或As；X_11a、X_11b、X₁₂、X₁₃、X₁₄、X₁₅、X_16a、X_16b、X_16c、X_16d、X_16e、X_16f、X_16g、X_17a、X_17b、X_17c和X_17d可各自独立地选自C(R₄₀)_x、N、O、N(R₃₅)、P(R₃₆)(R₃₇)和As(R₃₈)(R₃₉)的组；R_33”和R_34”可各自独立地选自单键、取代或未取代的C₁至C₅亚烷基和取代或未取代的C₂至C₅亚烯基的组；R₃₁、R_32a、R_32b、R_32c、R_33a、R_33b、R₃₄、R₃₅、R₃₆、R₃₇、R₃₈、R₃₉和R₄₀可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；C环、D环、E环、F环、G环和H环可各自独立地选自5元至20元饱和环及5元至20元不饱和环的组；x可为0至2的整数；并且*可为与化学式1中M结合的位点。

R₃₁、R_32a、R_32b、R_32c、R_33a、R_33b、R₃₄、R₃₅、R₃₆、R₃₇、R₃₈和R₃₉可各自独立地选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基，C₁至C₂₀烷氧基，取代的C₁至C₂₀烷基，取代的C₁至C₂₀烷氧基，苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基，及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的组中的至少一种所取代的取代的环状基团的组；所述取代的C₁至C₂₀烷基和所述取代的C₁至C₂₀烷氧基可各自被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一种取代；并且所述取代的环状基团可选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的芴基、取代的咔唑基、取代的吡啶基、取代的嘧啶基和取代的三嗪基的组。

所述L_m的至少一个可由化学式2C表示；并且化学式2C中的X_11a和X_11b可各自独立地选自O、P(R₃₆)(R₃₇)和As(R₃₈)(R₃₉)的组。

所述L_m的至少一个可由选自化学式2D、2E和2F的组中的一个表示；并且化学式2D、2E和2F中的所述C环、所述D环、所述E环、所述F环、所述G环和所述H环可各自独立地为取代或未取代的苯、取代或未取代的并环戊二烯、取代或未取代的茚、取代或未取代的萘、取代或未取代的甘菊环、取代或未取代的庚搭烯、取代或未取代的引达省、取代或未取代的苊、取代或未取代的芴、取代或未取代的螺芴、取代或未取代的非那烯、取代或未取代的菲、取代或未取代的蒽、取代或未取代的荧蒽、取代或未取代的苯并菲、取代或未取代的芘、取代或未取代的取代或未取代的吡咯、取代或未取代的咪唑、取代或未取代的吡唑、取代或未取代的异噻唑、取代或未取代的异噁唑、取代或未取代的吡啶、取代或未取代的吡嗪、取代或未取代的嘧啶、取代或未取代的哒嗪、取代或未取代的异吲哚、取代或未取代的吲哚、取代或未取代的吲唑、取代或未取代的嘌呤、取代或未取代的异喹啉、取代或未取代的喹啉、取代或未取代的酞嗪、取代或未取代的喹喔啉、取代或未取代的喹唑啉或者取代或未取代的噌啉；当所述C环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；当所述D环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；当所述E环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；当所述F环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；当所述G环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；并且当所述H环被至少两个取代基所取代时，所述至少两个取代基的相邻的两个可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种。

所述有机金属化合物可由选自化学式3和4的组中的一个表示：

其中，化学式3和4中：M可为过渡金属；X_1a可为N或C(R_5a)；X_1b可为N或C(R_5b)；R_1a至R_5a以及R_1b至R_5b可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)、-C(=O)(Q₆)和通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点；R_1a至R_5a的两个取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；R_1b至R_5b的两个取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；Q₁至Q₆可各自独立地为氢原子、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基；L可为有机配体；并且m可为0、1或2。

所述有机金属化合物可由化学式3表示，并且R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，X_1a=X_1b，M=Pt，并且m1=0。

所述有机金属化合物可由化学式4表示，并且R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，X_1a=X_1b，M=Pt，并且m1=0。

所述有机金属化合物可由选自化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)、3A-(6)、3A-(7)、3A-(8)和3A-(9)的组中的一个表示。

其中，化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)、3A-(6)、3A-(7)、3A-(8)和3A-(9)中：M可为铂(Pt)；并且R_1a至R_5a、R_1b至R_5b、R_11a至R_14a、R_11b至R_14b、R_21a至R_28a以及R_21b至R_28b可各自独立地选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基，取代的C₁至C₂₀烷基，取代的C₁至C₂₀烷氧基，苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基，及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的组中的至少一种所取代的取代的环状基团的组；所述取代的C₁至C₂₀烷基和所述取代的C₁至C₂₀烷氧基可各自独立地被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组种的至少一种取代；所述取代的环状基团可选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的芴基、取代的咔唑基、取代的吡啶基、取代的嘧啶基和取代的三嗪基的组。

所述有机金属化合物可由选自化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(4)、3A-(6)、3A-(8)和3A-(9)的组中的一种表示；并且R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，R_5a=R_5b，R_11a=R_11b，R_12a=R_12b,R_13a=R_13b，R_14a=R_14b，R_21a=R_21b，R_22a=R_22b，R_23a=R_23b，R_24a=R_24b，R_25a=R_25b，R_26a=R_26b，R_27a=R_27b，并且R_28a=R_28b。

所述有机金属化合物可由化学式4-(a)表示：

其中，化学式4-(a)中：M可为过渡金属；X_1a可为N或C(R_5a)；X_1b可为N或C(R_5b)；R_2a至R_5a以及R_2b至R_5b可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)、-C(=O)(Q₆)和通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组；R_2a至R_5a的两个取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的至少一种；R_2b至R_5b的两个取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的至少一种；Q₁至Q₆可各自独立地选自氢原子、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；L可为有机配体；m1可为0、1或2；Y₁可为单键或包括选自-O-、-S-、-N(Z₁)-、-[C(Z₂)(Z₃)]_a-和-[Si(Z₄)(Z₅)]_b-的组中的至少一种的二价连接基团；Z₁至Z₅可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基或C₂至C₆₀杂芳基，并且a和b可各自独立地为1至4的整数。

Y₁可为-N(Z₁)-；Z₁可为选自苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基，及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的组中的至少一种所取代的取代的环状基团的组中的至少一种；并且所述取代的环状基团可选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的芴基、取代的咔唑基、取代的吡啶基、取代的嘧啶基和取代的三嗪基的组。

n可为3，并且m可为0。

n可为1，并且m可为1至4的整数。

所述有机金属化合物可由选自化学式5至8的组中的一个表示：

其中，化学式5至8中：M、X₁、R₁至R₅以及L可如上面化学式1中定义；m2可为0、1或2；X₁₂和X_16d可各自独立地为N或C；X₂₁可为N或C(R₅₁)，X₂₂可为N或C(R₅₂)，X₂₃可为N或C(R₅₃)，X₂₄可为N或C(R₅₄)，X₂₅可为N或C(R₅₅)，X₂₆可为N或C(R₅₆)，X₂₇可为N或C(R₅₇)，X₂₈可为N或C(R₅₈)，并且X₂₉可为N或C(R₅₉)；R₄₁、R₄₂以及R₅₁至R₅₉可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)、-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)和通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组；R₄₁、R₄₂以及R₅₁至R₅₉的两个相邻取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；并且Q₁₁至Q₁₅可各自独立地选自氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基和C₂至C₂₀杂芳基的组。

所述有机金属化合物可由选自5-(1)、5-(2)、5-(3)和5-(4)的组中的一个表示：

其中，化学式5-(1)至5-(4)中：M、X₁、R₁至R₅以及L可如化学式1中定义；m2可为0、1或2；X₂₁可为N或C(R₅₁)，X₂₂可为N或C(R₅₂)，X₂₃可为N或C(R₅₃)，X₂₄可为N或C(R₅₄)，X₂₅可为N或C(R₅₅)，并且X₂₆可为N或C(R₅₆)；并且R₄₁、R₅₁至R₅₆、R₆₁至R₆₈以及R₇₁至R₇₄可各自独立地选自氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基，C₁至C₂₀烷氧基，取代的C₁至C₂₀烷基，取代的C₁至C₂₀烷氧基，苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基，及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的组中的至少一种所取代的取代的环状基团的组；所述取代的C₁至C₂₀烷基和所述取代的C₁至C₂₀烷氧基可各自被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一种取代；并且所述取代的环状基团可选自取代的苯基、取代的萘基、取代的蒽基、取代的芴基、取代的咔唑基、取代的吡啶基、取代的嘧啶基和取代的三嗪基的组。

所述有机金属化合物可由选自化学式5-(a)、6-(a)和7-(a)的组中的一个表示：

其中，化学式5-(a)、6-(a)和7-(a)中：M、X₁、R₂至R₅以及L可如化学式1中定义；m2可为0、1或2；X₁₂可为C或N；X₂₁可为N或C(R₅₁)，X₂₂可为N或C(R₅₂)，X₂₃可为N或C(R₅₃)，X₂₄可为N或C(R₅₄)，X₂₅可为N或C(R₅₅)，X₂₆可为N或C(R₅₆)，并且X₂₇可为N或C(R₅₇)；R₄₁以及R₅₁至R₅₇可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₂₀烷基、被至少一个氟原子取代的C₁至C₂₀烷基、C₁-C₂₀烷氧基、苯基、萘基和蒽基的组；Y₂可为单键或包括选自-O-、-S-、-N(Z₁₁)-、-[C(Z₁₂)(Z₁₃)]_c-和-[Si(Z₁₄)(Z₁₅)]_d-的组中的至少一种的二价连接基团；Z₁₁至Z₁₅可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基或C₂至C₆₀杂芳基的组；并且c和d可各自独立地为1至4的整数。

所述有机金属化合物可为选自化合物1至68的组中的一种：

其中，化合物60至62中，Ph可为苯基，并且Me可为甲基。

本发明的实施方式还涉及有机发光装置，包括：基板；第一电极；在所述第一电极对面的第二电极；和在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层，所述有机层包含所述有机金属化合物。

所述有机层可包含选自空穴注入层、空穴传输层、同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层、缓冲层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层及同时具有电子注入和电子传输能力的功能层的组中的至少一层。

所述有机层可包含发光层；所述有机金属化合物可在所述发光层中；并且基于磷光机制，光可从所述发光层中发出。

所述发光层中的所述有机金属化合物可作用掺杂剂；并且所述发光层可包含作为主体的咔唑类化合物。

所述咔唑类化合物可由化学式10表示：

其中，化学式10中：Ar₁可选自取代或未取代的C₁至C₆₀亚烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀亚烯基、-C(=O)-、-N(R₁₀₀)-、取代或未取代的C₆至C₆₀亚芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀亚杂芳基的组；R₁₀₀可选自取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；p可为0至10的整数；R₉₁至R₉₆可各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；R₉₁至R₉₆的两个相邻取代基可任选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环基、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环基、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；并且q、r、s、t、u和v可各自独立地为1至4的整数。

所述咔唑类化合物可为选自化合物H1至H30的组中的一个：

所述有机层可包含选自空穴注入层、空穴传输层及同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层的组中的至少一层；并且所述空穴注入层、所述空穴传输层及所述同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层的至少一层可包含电荷生成材料。

所述有机层可包含电子传输层，并且所述电子传输层可包含含有金属的材料。

附图说明

通过参照附图详细说明示例性实施方式，对于本领域普通技术人员来说各种特征将变得清楚，其中，图1示意性说明了根据一个实施方式的有机发光装置的结构。

具体实施方式

现将参照附图在下文中更全面地说明示例性实施方式；然而，它们可体现为不同的形式，并不应解释为限于文中说明的实施方式。更确切地说，提供这些实施方式以使本公开全面和完整，并将向本领域技术人员充分传达各种示例性实施方式。

在附图中，为了图示清晰，可放大层和区域的尺寸。还应理解，当层被称为在两层“之间”时，它可为两层之间的唯一的层，或者还可存在一个或更多个中间层。同样的附图标记始终表示同样的元件。

如文中使用，术语“和/或”包括一个或多个相关的列出的项目的任意和全部组合。当例如“.....的至少一种”和“选自......的组”的表达位于一列项目的适当位置时，其修饰整列项目，而非项目列表的单个项目。

根据一个实施方式，提供了由化学式1表示的有机金属化合物：

上面化学式1中：M可为过渡金属。

例如，M可为VI族金属、VII族金属、VIII族金属、IX族金属，或X族金属、XI族金属等。在一个实施方式中，化学式1中的M可为钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)等。

化学式1中，X₁可为N或C(R₅)。

化学式1中，R₁至R₅可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)、-C(=O)(Q₆)（其中，Q₁至Q₆可各自独立地为氢原子、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基或者取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基）或者通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组。

化学式1中，R₁至R₅可各自独立地为选自：

氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐；

C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基和C₂至C₆₀杂芳基；

可被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂-C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)（其中，Q₁₁至Q₁₅各自独立地为氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基或C₂至C₂₀杂芳基)的至少一种取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基和C₂至C₆₀杂芳基；

-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)和-C(=O)(Q₆)（其中，Q₁至Q₆可各自独立地为氢原子、C₁至C₆₀烷基、C₆至C₆₀芳基或C₂至C₆₀杂芳基）；和

通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组中的一种。

在一个实施方式中，化学式1中，R₁至R₅可各自独立地为，例如，选自：

氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐；

C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环戊烯基、环己基、环戊二烯基、环己二烯基、苯基、萘基、蒽基、芴基、基、芘基、菲基、吡咯基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基、咔唑基、吲哚基、苯并咪唑基、喹啉基、异喹啉基；

可被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、二甲基芴基和苯基-咔唑基的至少一种取代的C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环戊烯基、环己基、环戊二烯基、环己二烯基、苯基、萘基、蒽基、芴基、基、芘基、菲基、吡咯基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基、三嗪基、咔唑基、吲哚基、苯并咪唑基、喹啉基和异喹啉基；

-N(Q₁)(Q₂)、-Si(Q₃)(Q₄)(Q₅)、-C(=O)(Q₆)（其中，Q₁至Q₆各自独立地为氢原子、C₁至C₆₀烷基、苯基、萘基或蒽基）；和

通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点的组中的一种。

在一个实施方式中，化学式1中的X₁可为C(R₅)；并且R₁至R₅可各自独立地为例如，氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐；甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基和戊氧基；及可被氘原子、-F、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基和戊氧基中的一种。

在一个实施方式中，化学式1中的X₁可为N；并且R₁至R₄可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐；甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基和戊氧基；及可被氘原子、-F、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基和戊氧基中的一种。

在一个实施方式中，化学式1中，X₁可为C(R₅)；并且R₁至R₅可各自独立地为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基或-CF₃。在其它一些实施方式中，化学式1中，X₁可为N；并且R₁至R₄可各自独立地为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基或-CF₃。

化学式1中，R₁至R₅的两个取代基可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂肪族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环。

在一个实施方式中，i)R₂和R₃可连接到一起，以使上述有机金属化合物可由下面的化学式1A表示；ii)X₁可为C(R₅)，并且R₅和R₄可连接到一起，以使上述有机金属化合物由下面的化学式1B表示；或者iii)R₂和R₃可连接到一起，X₁可为C(R₅)，并且R₄和R₅可连接到一起，以使上述有机金属化合物可由下面的化学式1C表示：

化学式1A、1B和1C中，M、X₁及R₁至R₅可与上面的说明相同，并且n、L和m可如下面的说明。

上面的化学式1A、1B和1C中，A环和B环可各自独立地为取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂肪族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环。

例如，化学式1A和1C中，A环可为苯，并环戊二烯，茚，萘，甘菊环，庚搭烯，引达省，苊，芴，螺芴，非那烯，菲，蒽，荧蒽，苯并菲，芘和及可被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)（其中，Q₁₁至Q₁₅各自独立地为氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基或C₂至C₂₀杂芳基）中的至少一种取代的苯、并环戊二烯、茚、萘、甘菊环、庚搭烯，引达省、苊、芴、螺芴、非那烯、菲、蒽、荧蒽、苯并菲、芘和中的至少一种。

例如，化学式1B和1C中，B环可为，例如环丙烷、环丁烷、环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷、环戊烯、环戊二烯、环己二烯、环庚二烯、二环庚烷、二环辛烷、苯、并环戊二烯、茚、萘、甘菊环、庚搭烯、引达省、苊、芴、螺芴、非那烯、菲、蒽、荧蒽、苯并菲、芘和及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)（其中，Q₁₁至Q₁₅可各自独立地为氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基或C₂至C₂₀杂芳基）的至少一种取代的环丙烷、环丁烷、环戊烷、环己烷、环庚烷、环辛烷、环戊烯、环戊二烯、环己二烯、环庚二烯、二环庚烷、二环辛烷、苯、并环戊二烯、茚、萘、甘菊环、庚搭烯、引达省、苊、芴、螺芴、非那烯、菲、蒽、荧蒽、苯并菲、芘和的中至少一种。

在一个实施方式中，上述有机金属化合物可由下面的化学式1A-(1)、1B-(1)、1B-(2)、1B-(3)、1C-(1)、1C-(2)、1C-(3)或1D-(1)表示：

化学式1A-(1)、1B-(1)、1B-(2)、1B-(3)、1C-(1)、1C-(2)、1C-(3)和1D-(1)中，M及R₁至R₅可与上面的说明相同；n、L和m可与下面说明的相同；并且R₁₁至R₁₄，及R₂₁至R₂₈可与上述的R₁至R₅相同。

例如，上面化学式1A-(1)、1B-(1)、1B-(2)、1B-(3)、1C-(1)、1C-(2)、1C-(3)和1D-(1)中，M可为过渡金属（例如，锇(Os)、铱(Ir)或铂(Pt)）；R₁至R₅、R₁₁至R₁₄以及R₂₁至R₂₈可各自独立地为氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基，C₁至C₂₀烷氧基；被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基和三嗪基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基；n可为1至3的整数；L可为有机配体；并且m为0至4的整数。

上面化学式1中，n可为1至3的整数。即，上面的化学式1可包含一个、两个或三个由化学式1’表示的配体：

化学式1’中，*表示与化学式1中M结合的位点。

因此，上述有机金属化合物可包含由化学式1’表示的配体。

如果n为2或更大，由化学式1’表示的至少两个配体可相同或不同。

化学式1中，L可为有机配体，并且m可表示L的数目，并可为0至4的整数。L可为单齿配体、二齿配体、三齿配体或四齿配体。当m为0时，有机金属化合物可仅包含由化学式1’表示的配体。如果m为2或更大，至少两个L可相同或不同。

L可为合适的有机配体，例如，不会不需要地改变有机金属化合物的化学和物理特性的配体。

例如，化学式1中的L可包含由下面化学式2A至2F表示的配体的至少一种。

化学式2B中，M₁可为P或As。

化学式2A至2F中，X_11a、X_11b、X₁₂、X₁₃、X₁₄、X₁₅、X_16a、X_16b、X_16c、X_16d、X_16e、X_16f、X_16g、X_17a、X_17b、X_17c和X_17d可各自独立地为C、C(R₄₀)_x、N、O、N(R₃₅)、P(R₃₆)(R₃₇)或As(R₃₈)(R₃₉)；R_33”和R_34”可各自独立地为单键、双键、取代或未取代的C₁至C₅亚烷基（例如亚甲基、亚乙基等）或者取代或未取代的C₂至C₅亚烯基（例如，亚乙烯基等）；R₃₁、R_32a、R_32b、R_32c、R_33a、R_33b、R₃₄、R₃₅、R₃₆、R₃₇、R₃₈和R₃₉可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基或者取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基；C环、D环、E环、F环、G环和H环可各自独立地为5元至20元饱和环或5元至20元不饱和环；并且*可表示与化学式1中M结合的位点。

化学式2A至2F中，R₃₁、R_32a、R_32b、R_32c、R_33a、R_33b、R₃₄、R₃₅、R₃₆、R₃₇、R₃₈R₃₉和R₄₀可各自独立地为氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基，C₁至C₂₀烷氧基；被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基中的一种。

例如，上面化学式1中，如果m为1或更大，L可包含由上面化学式2C表示的配体，其中化学式2C中，X_11a和X_11b可各自独立地为，例如O、P(R₃₆)(R₃₇)或As(R₃₈)(R₃₉)。

在其它一些实施方式中，上面化学式1中，如果m为1或更大，L可包含由化学式2D、2E和2F表示的至少一个配体，其中，化学式2D、2E和2F中C环、D环、E环、F环、G环和H环可各自独立地为取代或未取代的苯、取代或未取代的并环戊二烯、取代或未取代的茚、取代或未取代的萘、取代或未取代的甘菊环、取代或未取代的庚搭烯、取代或未取代的引达省、取代或未取代的苊、取代或未取代的芴、取代或未取代的螺芴、取代或未取代的非那烯、取代或未取代的菲、取代或未取代的蒽、取代或未取代的荧蒽、取代或未取代的苯并菲、取代或未取代的芘、取代或未取代的取代或未取代的吡咯、取代或未取代的咪唑、取代或未取代的吡唑、取代或未取代的异噻唑、取代或未取代的异噁唑、取代或未取代的吡啶、取代或未取代的吡嗪、取代或未取代的嘧啶、取代或未取代的哒嗪、取代或未取代的异吲哚、取代或未取代的吲哚、取代或未取代的吲唑、取代或未取代的嘌呤、取代或未取代的异喹啉、取代或未取代的喹啉、取代或未取代的酞嗪、取代或未取代的喹喔啉、取代或未取代的喹唑啉或者取代或未取代的噌啉。

在这方面，i)当C环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂肪族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；ii)当D环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；iii)当E环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；iv)当F环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；v)当G环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；vi)当H环包含至少两个取代基时（即被至少两个取代基所取代），至少两个取代基中相邻的两个可任选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；

B环（化学式1B和1C中）的上述说明可用于说明上面陈述的“取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环”。

在一个实施方式中，上面化学式1中，如果m为1或更大，L可包含，由例如化学式2A(1)、2B(1)、2C(1)和2C(2)表示的配体的至少一种：

化学式2A(1)、2B(1)、2C(1)和2C(2)中，R_32a、R_32b、R_32c、R_33a、R_33b、R₃₆和R₃₇可各自独立地如上面的说明。

化学式1中，n可为2。因此，上述有机金属化合物可由下面的化学式3或4表示。

化学式3和4中，M和L可如上面的说明，并且m1可为0、1或2。

化学式3和4中，X_1a可为N或C(R_5a)；X_1b可为N或C(R_5b)；并且R₁的上面说明可用于说明R_1a至R_5a及R_1b至R_5b。

在一个实施方式中，上述有机金属化合物可由化学式3表示，其中，R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，X_1a=X_1b，M=Pt，并且m1=0，并且可具有反式结构。

在一个实施方式中，上述有机金属化合物可由化学式4表示，其中，R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，X_1a=X_1b，M=Pt，并且m1=0，并且可具有反式结构。

在一个实施方式中，上述有机金属化合物可由下面的化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)、3A-(6)、3A-(7)、3A-(8)或3A-(9)表示。

化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)、3A-(6)、3A-(7)、3A-(8)和3A-(9)中，M可为铂(Pt)；并且R_1a至R_5a、R_1b至R_5b、R_11a至R_14a、R_11b至R_14b、R_21a至R_28a和R_21b至R_28b可各自独立地为氢原子，氘原子，卤素原子，羟基，氰基，硝基，氨基，脒基，肼，腙，羧基或其盐，磺酸基或其盐，磷酸基或其盐，C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的的C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基中的一种。

在一个实施方式中，化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)、3A-(6)、3A-(7)、3A-(8)和3A-(9)中，R_1a至R_5a、R_1b至R_5b、R_11a至R_14a、R_11b至R_14b、R_21a至R_28a和R_21b至R_28b可各自独立地为例如氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₂₀烷基（例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等）、被至少一个氟原子取代的C₁至C₂₀烷基（例如-CF₃）、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基或蒽基。

例如，有机金属化合物可由化学式3A-(1)、3A-(2)、3A-(4)、3A-(6)、3A-(8)或3A-(9)表示，其中，R_1a=R_1b，R_2a=R_2b，R_3a=R_3b，R_4a=R_4b，R_5a=R_5b，R_11a=R_11b，R_12a=R_12b，R_13a=R_13b，R_14a=R_14b，R_21a=R_21b，R_22a=R_22b，R_23a=R_23b，R_24a=R_24b，R_25a=R_25b，R_26a=R_26b，R_27a=R_27b和R_28a=R_28b。

有机金属化合物可由下面的化学式4-(a)表示。

化学式4-(a)中，M和L可如上说明，并且m1可为0、1或2。

化学式4-(a)中，X_1a可为N或C(R_5a)；X_1b可为N或C(R_5b)；并且R₁的上述说明可用于说明R_2a至R_5a及R_1b至R_5b。

化学式4-(a)中，Y₁可为i)包含-O-、-S-、-N(Z₁)-、-[C(Z₂)(Z₃)]_a-和-[Si(Z₄)(Z₅)]_b-的至少一种的二价连接基团，或者ii)单键。

-N(Z₁)-、-[C(Z₂)(Z₃)]_a-和-[Si(Z₄)(Z₅)]_b-中，Z₁至Z₅可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基或C₂至C₆₀杂芳基，并且a和b可各自独立地为1至4的整数。

在一个实施方式中，-N(Z₁)-、-[C(Z₂)(Z₃)]_a-和-[Si(Z₄)(Z₅)]_b-中，Z₁至Z₅可各自独立地为例如C₁至C₂₀烷基（例如，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基等）、至少被-F（例如-CF₃）取代的C₁至C₂₀烷基、苯基、萘基或蒽基，并且a和b可各自独立地为1或2。

例如，化学式4-(a)中，Y₁可为-N(Z₁)-，其中，Z₁可为，例如苯基，萘基，蒽基，芴基，咔唑基，吡啶基，嘧啶基，三嗪基；和被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基中的至少一种。

在其它一些实施方式中，有机金属化合物可为n=3且m=0的化学式1表示的有机金属化合物。即，有机金属化合物可仅包含化学式1’表示的三个配体。在一个实施方式中，在n=3且m=0的化学式1表示的有机金属化合物中，M可为Ir，并且X₁及R₁至R₄可如上述说明。

在其它一些实施方式中，有机金属化合物可为化学式1表示的有机金属化合物，其中n=1，并且m为1至4的整数。

在一个实施方式中，其中n=1且m为1至4的整数的化学式1表示的有机金属化合物可为例如下面化学式5至8的一个表示的有机金属化合物：

化学式5至8中，M、X₁、R₁至R₅和L可如上述，并且m2可为0、1或2。

化学式5至8中，X₁₂和X_16d可各自独立地为N或C；并且X₂₁可为N或C(R₅₁)；X₂₂可为N或C(R₅₂)；X₂₃可为N或C(R₅₃)；X₂₄可为N或C(R₅₄)；X₂₅可为N或C(R₅₅)；X₂₆可为N或C(R₅₆)；X₂₇可为N或C(R₅₇)；X₂₈可为N或C(R₅₈)；并且X₂₉可为N或C(R₅₉)；R₄₁、R₄₂和R₅₁至R₅₉可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)、-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)（其中Q₁₁至Q₁₅各自独立地为氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基或C₂至C₂₀杂芳基）或通过单键或二价连接基团与相邻的配体结合的位点，其中，可选择地，R₄₁、R₄₂和R₅₁至R₅₉的两个相邻取代基可连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环、或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环。

化学式5至8中，R₁的上述说明可用于说明R₄₁、R₄₂和R₅₁至R₅₉，并且B环的上述说明可用于说明“取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂肪族环、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环、或者取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环。”

在一个实施方式中，有机金属化合物可由下面的化学式5-(1)、5-(2)、5-(3)或5-(4)表示：

化学式5-(1)至5-(4)中：M、X₁、R₁至R₅、L、m2、X₂₁至X₂₆、R₄₁、及R₅₁至R₅₉可如上述，并且R₁₁的上述说明可用于说明R₆₁至R₆₈及R₇₁至R₇₄。

在一个实施方式中，化学式5-(1)至5-(4)中，X₂₁可为N或C(R₅₁)；X₂₂可为N或C(R₅₂)；X₂₃可为N或C(R₅₃)；X₂₄可为N或C(R₅₄)；X₂₅可为N或C(R₅₅)；并且X₂₆可为N或C(R₅₆)；R₄₁至R₅₆、R₆₁至R₆₈、及R₇₁至R₇₄可各自独立地可为，例如氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基。

在其它一些实施方式中，有机金属化合物可由下面的化学式5-(a)、6-(a)或7-(a)表示：

化学式5-(a)、6-(a)和7-(a)中，M、X₁、R₂至R₅、L、m2、X₂₁至X₂₇、R₄₁及R₅₁至R₅₉可如上述。X₁₂可为C或N。

化学式5-(a)、6-(a)和7-(a)中，Y₂可为单键或包含-O-、-S-、-N(Z₁₁)-、-[C(Z₁₂)(Z₁₃)]c-、和-[Si(Z₁₄)(Z₁₅)]d-的至少一种的二价连接基团，其中，Z₁₁至Z₁₅可各自独立地为，例如氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁-C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基或C₂至C₆₀杂芳基，并且c和d可各自独立为1至4的整数。

有机金属化合物可为，例如，下面化合物1至68的一种：

化学式1的有机金属化合物中，R₁可位于第一个氮和第二个氮之间，因此R₁可具有可给予提高的热稳定性的酸特性（如下面的化学式1”中说明）。

例如，在化学式3表示的有机金属化合物中，R_1a可位于第一个氮和第二个氮之间，因而有机金属化合物可具有酸特性，从而允许与相邻的配体的第三个氮形成分子间氢键（如下面化学式3”中说明）。

因此，根据一个或多个上面实施方式的有机金属化合物可具有提高的热稳定性。因此，根据一个或多个上面实施方式的包含有机金属化合物的有机发光装置可具有改善的性质（例如低的驱动电压、高亮度、高效率、长寿命等）。

可用合适的有机合成方法合成化学式1的有机金属化合物。根据下面将要说明的实施例，本领域的技术人员将理解化学式1的有机金属化合物的合成方法。

化学式1的有机金属化合物可用在有机发光装置的一对电极之间，例如，在有机发光装置的发光层中。

根据一个实施方式，有机发光装置可包含第一电极、在第一电极对面设置的第二电极及在第一电极和第二电极之间设置的有机层，其中，有机层可包含上面描述的化学式1有机金属化合物的至少一种。

如文中使用，例如“有机层包含至少一种有机金属化合物”的语句意味着“有机层包含上面化学式1的有机金属化合物的一种，或者上面化学式1的至少两种不同的有机金属化合物”。

有机层可包含选自空穴注入层、空穴传输层、同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层（下文称“H-功能层”）、缓冲层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层和同时具有电子注入和电子传输能力的功能层（下文称“E-功能层”）中的至少一层。

如文中使用，术语“有机层”可指置于有机发光装置的第一和第二电极之间的单层和/或多层。

有机层可包含发光层，并且发光层可包含上述的化学式1的有机金属化合物。包含该有机金属化合物的发光层可基于磷光机制产生发光。

在一个实施方式中，有机发光装置的发光层中的有机金属化合物可起到掺杂剂的作用，并且发光层可进一步包含作为主体的咔唑类化合物。

可以作为主体的咔唑类化合物的实例为下面的化学式10表示的化合物：

化学式10中，Ar₁可为取代或未取代的C₁至C₆₀亚烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀亚烯基、-C(=O)-、-N(R₁₀₀)-（其中，R₁₀₀可为取代或未取代的C₆至C₆₀芳基，或取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基）、取代或未取代的C₆至C₆₀亚芳基、或取代或未取代的C₂至C₆₀亚杂芳基；p可为0至10的整数；R₉₁至R₉₆可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆-C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基、或取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基，其中，R₉₁至R₉₆的两个相邻取代基可选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环基、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环基、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环、或取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环；并且q、r、s、t、u和v可各自独立地为1至4的整数。

化学式10中，Ar₁可为C₁至C₅亚烷基、C₂至C₅亚烯基、-C(=O)-或-N(R₁₀₀)-，其中，R₁₀₀可为苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、C₁至C₂₀烷基、C₁至C₂₀烷氧基、苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基、咔唑基、吡啶基、嘧啶基和三嗪基的至少一种。

化学式10中，R₉₁至R₉₆可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₂₀烷基和C₁至C₂₀烷氧基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的至少一种取代的C₁至C₂₀烷基和C₁-C₂₀烷氧基的一种。

咔唑类化合物可为，例如下面化合物H1至H30的一种：

图1说明了根据一个实施方式的有机发光装置10的示意性剖面图。下文，将参照图1说明根据一个实施方式的有机发光装置的结构及其制造方法。

基板11可为用于有机发光装置中的合适的基板。在一个实施方式中，基板11可为具有高机械强度、热稳定性、透明度、表明光滑度、易于处理性和耐水性的玻璃基板或透明塑料基板。

可通过在基板11的表面上沉积或溅射第一电极形成材料而形成第一电极13。当第一电极13为阳极时，具有高功函的材料可用作第一电极形成材料，以促进空穴注入。第一电极13可以是反射电极或透射电极。合适的第一电极形成材料可为透明且导电的材料，例如ITO、IZO、SnO₂和ZnO。可用镁(Mg)、铝(Al)、铝-锂(Al-Li)、钙(Ca)、镁-铟(Mg-In)、镁-银(Mg-Ag)等形成作为反射电极的第一电极13。

第一电极13可具有单层结构或包含至少两层的多层结构。例如，第一电极13可具有ITO/Ag/ITO的三层结构。

有机层15可设置在第一电极13上。

有机层15可包含空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、缓冲层、发光层(EML)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)。

HIL可通过真空沉积、旋涂、铸造、Langmuir-Blodgett(LB)沉积等形成在第一电极13上。

当用真空沉积形成HIL时，真空沉积的条件可根据用于形成HIL的化合物和将形成的HIL的期望的结构和热性质而变化。例如，可在100℃至约500℃的温度、约10^-8托至约10^-3托的压力和约/秒至约/秒的沉积速率下进行真空沉积。

当用旋涂形成HIL时，涂布条件可根据用于形成HIL的化合物和将形成的HIL的期望的结构和热性质而变化。例如，涂布速度可在约2000rpm至约5000rpm的范围内，以及涂布后进行热处理以去除溶剂的温度可在约80℃至约200℃的范围内。

HIL可由用于HIL的合适的材料形成。例如，可用于形成HIL的材料为N,N′-二苯基-N,N′-双-[4-(苯基-间甲苯基-氨)-苯基]-联苯基-4,4′-二胺(DNTPD)、酞菁化合物例如酞菁铜、4,4′,4″-三(3-甲基苯基苯氨)三苯胺(m-MTDATA)、N,N’-二(1-萘基)-N,N’-二苯基联苯胺(NPB)、TDATA、2T-NATA、聚苯胺/十二烷基苯磺酸(Pani/DBSA)、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)/聚(4-苯乙烯磺酸酯)(PEDOT/PSS)、聚苯胺/樟脑磺酸(Pani/CSA)，及聚苯胺)/聚(4-苯乙烯磺酸酯(PANI/PSS)。

HIL的厚度可为约至约并且在一个实施方式中，可为约至约当HIL的厚度在这些范围内时，HIL可具有良好的空穴注入能力而不会产生驱动电压的大幅增加。

然后，可使用真空沉积、旋涂、铸造、Langmuir-Blodgett(LB)沉积等在HIL上形成HTL。当用真空沉积或旋涂形成HTL时，虽然用于沉积和涂布的条件可根据用于形成HTL的材料而变化，但沉积和涂布条件可与用于形成HIL的条件相似。

合适的HTL形成材料的实例为咔唑衍生物，例如N-苯基咔唑或聚乙烯基咔唑、N,N′-双(3-甲基苯基)-N,N′-联苯基-[1,1-联苯基]-4,4′-二胺(TPD)、4,4’,4”-三(N-咔唑基)三苯胺(TCTA)和N,N’-二(1-萘基)-N,N’-二苯基联苯胺)(NPB)。

HTL的厚度可为约至约并且例如约至约当HTL的厚度在这些范围内时，HTL可具有良好的空穴传输能力，而不会产生驱动电压的大幅增加。

H-功能层（同时具有空穴注入和空穴传输能力）可包含空穴注入层材料和空穴传输层材料的每个组的至少一种材料。H-功能层的厚度可为约至约并且在一个实施方式中，可为约至约当H-功能层的厚度在这些范围内时，H-功能层可具有良好的空穴注入和传输能力，而不引起驱动电压的大幅增加。

在一个实施方式中，HIL、HTL和H-功能层的至少一层可包含下面化学式300的化合物和下面化学式301的化合物的至少一种：

化学式300中，Ar₁₀₁和Ar₁₀₂可各自独立地为取代或未取代的C₆至C₆₀亚芳基。在一个实施方式中，Ar₁₀₁和Ar₁₀₂可各自独立地为亚苯基、亚并环戊二烯基、亚茚基、亚萘基、亚薁基、亚庚搭烯、亚苊基、亚芴基、亚非那烯基、亚菲基、亚蒽基、亚荧蒽基、亚苯并菲基、亚芘基、亚基、亚并四苯基、亚苉基、亚苝基和亚并五苯基；被氘原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基和C₂至C₆₀杂芳基的至少一种取代的亚苯基、亚并环戊二烯基、亚茚基、亚萘基、亚薁基、亚庚搭烯、亚苊基、亚芴基、亚非那烯基、亚菲、亚蒽基、亚荧蒽基、亚苯并菲基、亚芘基、亚基、亚并四苯基、亚苉基、亚苝基和亚并五苯基中的一种。

化学式300中，x_a和x_b可各自独立地为0至5的整数，例如，可为0、1或2。例如，x_a可为1，并且x_b可为0。

化学式300和301中，R₁₀₁至R₁₀₈、R₁₁₁至R₁₁₉及R₁₂₁至R₁₂₄可各自独立地为氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₆₀环烷基、取代或未取代的C₅至C₆₀芳基、取代或未取代的C₅至C₆₀芳氧基、或C₅至C₆₀芳硫基。

在一个实施方式中，R₁₀₁至R₁₀₈、R₁₁₁至R₁₁₉及R₁₂₁至R₁₂₄可各自独立地为氢原子；氘原子；卤素原子；羟基；氰基；硝基；氨基；脒基；肼；腙；羧基或其盐；磺酸基或其盐；磷酸基或其盐；C₁至C₁₀烷基（例如甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等）；C₁至C₁₀烷氧基（例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、戊氧基等）；被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐和磷酸基或其盐的至少一种取代的C₁至C₁₀烷基和C₁至C₁₀烷氧基；苯基；萘基；蒽基；芴基；芘基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₁₀烷基、和C₁至C₁₀烷氧基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、芴基和芘基的一种。

化学式300中，R₁₀₉可为苯基、萘基、蒽基、联苯基和吡啶基；及被氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₂₀烷基和取代或未取代的C₁至C₂₀烷氧基的至少一种取代的苯基、萘基、蒽基、联苯基和吡啶基的一种。

在一个实施方式中，化学式300的化合物可为下面化学式300A表示的化合物：

化学式300A中，R₁₀₁、R₁₁₀、R₁₂₁和R₁₀₉可如上述。

在一个实施方式中，HIL、HTL和H-功能层的至少一个可包含，例如，下面化学式301至320表示的化合物的至少一种：

除了上述合适的空穴注入材料、空穴传输材料和/或同时具有空穴注入和空穴传输能力的材料之外，HIL、HTL和H-功能层的至少一种可进一步包含用于提高层导电性的电荷生成材料。

电荷生成材料可为，例如，p型掺杂剂。p型掺杂剂可为，例如，奎宁衍生物，金属氧化物和具有氰基的化合物的一种。p型掺杂剂的实例为醌衍生物，例如四氰基醌二甲烷(TCNQ)、2,3,5,6-四氟代-四氰基-1,4-苯醌二甲烷(F4-TCNQ)等；金属氧化物，例如，氧化钨、氧化钼等；含氰化合物，例如下面的化合物200。

当空穴注入层、空穴传输层或H-功能层进一步包含电荷生成材料时，电荷生成材料可在层中均匀地分散或不均匀地分散。

缓冲层可设置在HIL、HTL和H-功能层的至少一层与EML之间。缓冲层可根据从EML发出的光的波长而补偿光的光学共振距离，从而可提高效率。缓冲层可包含合适的空穴注入材料或空穴传输材料。在其它一些实施方式中，缓冲层可包含与缓冲层下面的HIL、HTL和H-功能层中包含的材料中的一种相同的材料。

然后，可通过真空沉积、旋涂、铸造、Langmuir-Blodget(LB)沉积等在HTL、H-功能层或缓冲层上形成EML。当用真空沉积或旋涂形成EML时，虽然用于沉积和涂布的条件可根据用于形成EML的材料而变化，沉积和涂布条件可与用于形成HIL的条件相似。

EML可包含上面化学式1表示的有机金属化合物（作为掺杂剂）和主体。

基于100重量份的主体，EML中掺杂剂（即化学式1的有机金属化合物）的量可选自例如，约0.01重量份至约15重量份的范围。

EML的厚度可为约至约并且在一个实施方式中，可为约至约当EML的厚度在这些范围内时，EML可具有良好的发光能力，而不会引起驱动电压的大幅增加。

空穴阻挡层(HBL)可形成在EML上以防止三重态激子或空穴扩散入ETL。当用真空沉积或旋涂形成HBL时，虽然用于沉积和涂布的条件可根据用于形成HBL的材料而变化，沉积和涂布条件可与用于形成HIL的条件相似。可使用合适的空穴阻挡材料。空穴阻挡材料的实例为噁二唑衍生物、三唑衍生物和邻二氮杂菲衍生物。例如，下面化学式表示的浴铜灵(bathocuproine)(BCP)可用作形成HBL的材料。

HBL的厚度可为约至约并在一个实施方式中，可为约至约当HBL的厚度在这些范围内时，HBL可具有提高的空穴阻挡能力，而不会引起驱动电压的大幅提高。

然后，可通过合适的方法，例如真空沉积、旋涂或铸造在HBL上形成ETL。当用真空沉积或旋涂形成ETL时，虽然沉积和涂布的条件可根据用于形成ETL的化合物而变化，沉积和涂布条件可与用于形成HIL的条件相似。用于形成ETL的材料可为可稳定地传输从电子注入电极（阴极）注入的电子的合适的材料。用于形成ETL的材料的实例为喹啉衍生物，例如三(8-羟基喹啉)铝(Alq3)、TAZ、BAlq、双(10-羟基苯并喹啉)铍(Bebq2)、9,10-二(萘-2-基)蒽(ADN)、化合物201和化合物202。

ETL的厚度可为约至约并且在一个实施方式中，可为约至约当ETL的厚度在这些范围内时，ETL可具有令人满意的电子传输能力，而不会产生驱动电压的大幅提高。

在一个实施方式中，除了合适的电子传输有机化合物，ETL可进一步包含含金属的材料。

含金属的材料可包括锂(Li)化合物。锂化合物的实例为羟基喹啉锂(LiQ)和下面的化合物203：

然后，可促进电子从阴极注入的EIL可形成在ETL上。合适的电子注入材料可用于形成EIL。

用于形成EIL的材料的实例为LiF、NaCl、CsF、Li₂O和BaO。虽然沉积和涂布的条件可根据用于形成ETL的材料而变化，用于形成EIL的沉积和涂布条件可与用于形成HIL的条件相似。

EIL的厚度可为约至约并且在一个实施方式中，可为约至约当EIL的厚度在这些范围内时，EIL可具有令人满意的电子注入能力，而不会产生驱动电压的大幅增加。

第二电极17可设置在有机层15上。第二电极17可以是作为电子注入电极的阴极。用于形成第二电极17的材料可为金属、合金、可具有低功函的导电化合物或它们的混合物。在一个实施方式中，第二电极17可为透射（例如透明的）电极，并可用Li、Mg、Al、Al-Li、Ca、Mg-In、Mg-Ag等的薄膜形成。在一个实施方式中，为制造顶发光装置，透射电极可由氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)形成。

图1中说明的有机发光装置的上述说明通过实施例的方式给出。

提供下面的实施例和对比例用以强调一个或多个实施方式的突出的特征，但应理解实施例和对比例不解释为限制实施方式的范围，并且对比例不被解释为在实施方式的范围之外。此外，应理解实施方式不限于实施例和对比例中说明的具体的细节。

文中使用的未取代的C₁至C₆₀烷基的实例为直链或支链C₁至C₆₀烷基，例如甲基、乙基、丙基、异丁基、仲丁基、戊基、异戊基、己基等。在取代的C₁至C₆₀烷基中，上述未取代的C₁至C₆₀烷基的至少一个氢原子可被氘原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₆至C₆₀芳基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)或-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)取代，其中，Q₁至Q₁₅可各自独立地选自氢原子、C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₅至C₆₀芳基和C₂至C₆₀杂芳基的组。未取代的C₁至C₆₀烷氧基可为–OA表示的基团，其中，A为上述的未取代的C₁至C₆₀烷基。

未取代的C₁至C₆₀烷氧基的实例为甲氧基、乙氧基和异丙氧基。烷氧基的至少一个氢原子可被上面结合取代的C₁至C₆₀烷基说明的取代基所取代。

如文中使用，未取代的C₂至C₆₀烯基可为在未取代的C₂至C₆₀烷基的中心或末端具有碳碳双键的烃链。未取代的C₂至C₆₀烯基的实例为乙烯基、丙烯基和丁烯基等。未取代的C₂至C₆₀烯基的至少一个氢原子可被结合取代的C₁至C₆₀烷基说明的取代基所取代。

未取代的C₂至C₆₀炔基可为在它的中心或末端具有至少一个碳碳三键的烃链。未取代的C₂至C₆₀炔基的实例为乙炔基、丙炔基和丁炔基等。炔基中至少一个氢原子可被上面结合C₁至C₆₀烷基说明的取代基所取代。

未取代的C₆至C₆₀芳基可为具有包含至少一个芳香环的6至60个碳原子的碳环芳香系统的单价基团。未取代的C₆至C₆₀亚芳基可为具有包含至少一个芳香环的6至60个碳原子的碳环芳香系统的二价基团。当芳基和亚芳基具有至少两个环时，它们可通过单键彼此稠合。芳基和亚芳基的至少一个氢原子可被上面结合C₁至C₆₀烷基说明的取代基所取代。

取代或未取代的C₆至C₆₀芳基的实例为苯基，C₁至C₁₀烷基苯基（例如乙苯基），C₁至C₁₀烷基联苯基（例如乙基联苯基），卤代苯基（例如邻位、间位或对位氟代苯基及二氯苯基），二氰基苯基，三氟代甲氧基苯基，邻位、间位或对位甲苯基，邻位、间位或对位异丙苯基，均三甲苯基，苯氧基苯基，(α,α-二甲基苯)苯基，(N,N-二甲基)氨基苯基，(N,N-二苯基)氨基苯基，并环戊二烯基，茚基，萘基，卤代萘基（如氟代萘基），C₁至C₁₀烷基萘基（例如甲基萘基)，C₁至C₁₀烷氧基萘基（如甲氧基萘基），蒽基，薁基，庚搭烯基，苊基，非那烯基，芴基，蒽醌基，甲基蒽基，菲基，苯并菲基，芘基，基，乙基基，苉基，苝基，氯代苝基，五苯基（pentaphenyl），并五苯基（pentacenyl），四亚苯基（tetraphenylenyl），六苯基，并六苯基，玉红省基（rubicenyl），蔻基（coronenyl），三亚萘基（trinaphthylenyl），七苯基，并七苯基，吡蒽基（pyranthrenyl），和卵苯基（ovalenyl）等。取代的C₅至C₆₀芳基的实例可基于上述未取代的C₅至C₆₀芳基和取代的C₁至C₆₀烷基的那些实例推断。取代或未取代的C₅至C₆₀亚芳基的实例可基于上述取代或未取代的C₅至C₆₀芳基的那些实例推断。

未取代的C₂至C₆₀杂芳基可为具有至少一个具有选自N、O、P和S的组的杂原子的至少一种的芳香环的单价基团。未取代的C₂至C₆₀亚杂芳基可为具有至少一个具有选自N、O、P和S的组的杂原子的至少一种的芳香环的二价基团。在这方面，当杂芳基和亚杂芳基具有至少两个环时，它们可通过单键彼此稠合。杂芳基和亚杂芳基的至少一个氢原子可被上面结合C₁至C₆₀烷基说明的取代基所取代。

未取代的C₂至C₆₀杂芳基的实例为吡唑基、咪唑基、呃唑基、噻唑基、三唑基、四唑基、呃二唑基、吡啶基、哒嗪基、嘧啶基、三嗪基、咔唑基、吲哚基、喹啉基、异喹啉基、苯并咪唑基、咪唑并吡啶基和咪唑并嘧啶基。取代的C₂至C₆₀亚杂芳基的实例可基于上述取代或未取代C₂至C₆₀亚芳基的实例推断。

取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基可为–OA₂（其中，A₂可为上述取代或未取代的C₆至C₆₀芳基)。所述取代或未取代的C₅至C₆₀芳硫基可为–SA₃（其中，A₃可为上述取代或未取代的C₆至C₆₀芳基）。

[合成例]

配体1(L1)至配体43(L43)

配体合成1：配体1 L1)的合成

根据下面的反应示意图1合成配体1(L1)：

中间体1(3)的合成

加1.9g(80.8mmol)的NaH到80ml的二氯甲烷后，在0℃向其中加入5.0g(73.5mmol)的吡唑，然后搅拌约30分钟。然后，将溶解于30ml的二氯甲烷的11.5ml(80.8mmol)的氯甲酸苄酯在0℃逐滴地加入，并搅拌约1小时，然后在室温进一步搅拌约3小时。在反应完成后，加入100ml的饱和的碳酸氢钠，然后用50ml的二氯甲烷萃取三次，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，接着在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得12.6g（62.4mmol，收率：85%）的中间体1(3)。用液相色谱-质谱(LC-MS)鉴别这个化合物。

LC-MS m/z=203(M+H)+

中间体1(2)的合成

在80ml的无水四氢呋喃中溶解10.0g(49.5mmol)的中间体1(3)后，将25ml（在THF中2.2M，54.5mmol）的n-BuLi在0℃缓慢加入，然后在室温搅拌约1小时。在1小时后，降低温度到约-78℃，将12.0ml(59.4mmol)的异丙基频哪醇硼酸酯缓慢加到反应混合物中，并在-78℃搅拌约15分钟。然后，温度缓慢增加到0℃，并进一步搅拌反应混合物约1小时。在反应完成后，加入100ml的饱和的氯化铵溶液，并用100ml的二氯甲烷萃取以获得有机层，然后用100mL的蒸馏水洗两次，并用硫酸镁干燥，接着在减压下蒸馏，以获得9.7g（29.7mmol，收率：60%）的中间体1(2)。

LC-MS m/z=329(M+H)+

中间体1(1)的合成

在密封管中溶解1.9g(12.2mmol)的4-溴代嘧啶于120ml的二氧戊环和水(5:1)的混合溶剂中，加入5.0g(36.6mmol)的碳酸钾、1.4g(1.2mmol)的四苯基膦Pd(0)和8.0g(24.4mmol)的中间体1(2)。产生的反应混合物在90℃搅拌一天。反应完成后，将100ml的蒸馏水加到反应产物中，然后用100ml的二氯甲烷萃取以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，然后在减压下蒸馏，以获得2.0g（7.3mmol，收率：60%）的中间体1(1)。

LC-MS m/z=280(M+H)+

配体1(L1)的合成

在室温溶解2.0g(7.3mmol)的中间体1(1)于60ml的甲醇中后，加入0.2g的Pd/C(10%w/w)，然后在室温用氢气清洗搅拌约12小时。反应完成后，用CELITE去除Pd/C以获得有机层，然后在减压下浓缩。用柱色谱法分离并纯化生成的产物，以获得1.0g（6.9mmol，收率：95%）的配体1(L1)。用LC-MS鉴别这个化合物。

LC-MS m/z=203(M+H)+

配体合成2：配体2(L2)的合成

根据下面的反应示意图2合成配体2(L2)：

配体2(L2)的合成

在室温溶解2.0g(12.6mmol)的4-溴代嘧啶于80ml的1,2-二甲氧基乙烷后，加入1.4g(1.2mmol)的四苯基膦Pd(0)和4.6g(18.9mmol)的1H-吲唑-3-基硼酸频哪醇酯。在回流下于约90℃加热合成的反应混合物约18小时。反应完成后，加100ml的蒸馏水到反应产物中，然后用100ml的二氯甲烷萃取以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，在减压下蒸馏，然后用柱色谱法分离并纯化，以获得1.1g（5.7mmol，收率：45%）的配体2(L2)。

LC-MS m/z=197(M+H)+

配体合成3：配体3(L3)的合成

根据下面的反应示意图3合成配体3(L3)：

<反应示意图3>

除了在配体(L3)合成中用4-溴代喹唑啉代替4-溴代嘧啶以外，以与配体2(L2)（配体合成2）的合成相同的方式合成0.8g(3.2mmol，收率：25%)的配体3(L3)。

LC-MS m/z=197(M+H)+

配体合成4：配体4(L4)的合成

根据下面的反应示意图4合成配体4(L4):

中间体4(1)的合成

加入1.0g(43.4mmol)的NaH到80ml的无水四氢呋喃后，在0℃向其中缓慢加入2.6ml(34.8mmol)的丙酮。1小时后，缓慢加入4.0g(29.0mmol)的嘧啶-4-羧酸甲酯，并在回流下于约80℃加热约16小时。反应完成后，加入30ml的蒸馏水，然后缓慢加入2.5ml的乙酸，并在室温搅拌约30分钟。30分钟后，用100ml的二氯甲烷萃取合成的产物5次以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化产生的产物以获得1.8g(11.0mmol，收率38%)的中间体4(1)。

LC-MS m/z=165(M+H)+

配体4(L4)的合成

在室温溶解1.8g(11.0mmol)的中间体4(1)于30ml的乙醇后，加入1.6ml(55.0mmol)的水合肼，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下浓缩反应产物，并用80ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，在减压下蒸馏，然后用柱色谱法分离并纯化，以获得1.5g(9.3mmol，收率：88%)的配体4(L4)。

LC-MS m/z=161(M+H)+

配体合成5：配体5(L5)的合成

根据下面的反应示意图5合成配体5(L5):

除了在中间体4(1)合成中，使用3,3-甲基丁烷-2-酮代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体5(L5)（收率：25%）。

LC-MS m/z=189(M+H)+

配体合成6：配体6(L6)的合成

根据下面的反应示意图6合成配体6(L6)：

除了在中间体4(1)合成中，使用3,3-二甲基丁烷-2-酮代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体6(L6)（收率：21%）。

LC-MS m/z=203(M+H)+

配体合成7：配体7(L7)的合成

根据下面的反应示意图7合成配体7(L7)：

除了在中间体4(1)合成中，使用1,1,1-三氟代丙-2-酮代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体7(L7)（收率:63%）。

LC-MS m/z=215(M+H)+

配体合成8：配体8(L8)的合成

根据下面的反应示意图8合成配体8(L8)：

除了中间体4(1)合成中，使用环己酮代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体8(L8)（收率：35%）。

LC-MS m/z=201(M+H)+

配体合成9：配体9(L9)的合成

根据下面的反应示意图9合成配体9(L9)：

除了中间体4(1)合成中，使用2,2-二甲基环己酮代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体9(L9)（收率：43%）。

LC-MS m/z=229(M+H)+

配体合成10：配体10(L10)的合成

根据下面的反应示意图10合成配体10(L10)：

除了中间体4(1)合成中，使用樟脑代替丙酮以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体10(L10)（收率：65%）。

LC-MS m/z=254(M+H)+

配体合成11：配体11(L11)的合成

根据下面的反应示意图11合成配体11(L11)：

除了中间体4(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体11(L11)（收率：17%）。

LC-MS m/z=175(M+H)+

配体合成12：配体12(L12)的合成

根据下面的反应示意图12合成配体12(L12)：

除了中间体6(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体6(L6)的合成(配体合成6)相同的方式合成配体12(L12)（收率：12%）。

LC-MS m/z=217(M+H)+

配体合成13：配体13(L13)的合成

根据下面的反应示意图13合成配体13(L13)：

除了中间体7(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体7(L7)的合成(配体合成7)相同的方式合成配体13(L13)（收率：35%）。

LC-MS m/z=229(M+H)+

配体合成14：配体14(L14)的合成

根据下面的反应示意图14合成配体14(L14)：

除了中间体9(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体9(L9)的合成(配体合成9)相同的方式合成配体14(L14)（收率：26%）。

LC-MS m/z=243(M+H)+

配体合成15：配体15(L15)的合成

根据下面的反应示意图15合成配体15(L15)：

除了中间体10(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体10(L10)的合成(配体合成10)相同的方式合成配体15(L15)（收率：35%）。

LC-MS m/z=269(M+H)+

配体合成16：配体16(L16)的合成

根据下面的反应示意图16合成配体16(L16)：

除了中间体4(1)合成中，使用6-甲氧基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体4(L4)的合成(配体合成4)相同的方式合成配体16(L16)（收率：14%）。

LC-MS m/z=191(M+H)+

配体合成17：配体17(L17)的合成

根据下面的反应示意图17合成配体17(L17)：

除了中间体6(1)合成中，使用6-甲氧基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体6(L6)的合成（配体合成6）相同的方式合成配体17(L17)（收率：12%）。

LC-MS m/z=233(M+H)+

配体合成18：配体18(L18)的合成

根据下面的反应示意图18合成配体18(L18)：

除了中间体7(1)合成中，使用6-甲氧基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体7(L7)的合成（配体合成7）相同的方式合成配体18(L18)（收率：25%）。

LC-MS m/z=245(M+H)+

配体合成19：配体19(L19)的合成

根据下面的反应示意图19合成配体19(L19)：

除了中间体9(1)合成中，使用6-甲氧基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体9(L9)的合成（配体合成9）相同的方式合成配体19(L19)（收率：22%）。

LC-MS m/z=259(M+H)+

配体合成20：配体20(L20)的合成

根据下面的反应示意图20合成配体20(L20)：

除了中间体10(1)合成中，使用6-甲氧基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体10(L10)的合成（配体合成10）相同的方式合成配体20(L20)（收率：30%）。

LC-MS m/z=285(M+H)+

配体合成21：配体21(L21)的合成

根据下面的反应示意图21合成配体21(L21)：

除了中间体4(1)合成中，使用6-(三氟代甲基)嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体4(L4)的合成（配体合成4）相同的方式合成配体21(L21)（收率：26%）。

LC-MS m/z=229(M+H)+

配体合成22：配体22(L22)的合成

根据下面的反应示意图22合成配体22(L22)：

除了中间体6(1)合成中，使用6-(三氟代甲基)嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体6(L6)的合成（配体合成6）相同的方式合成配体22(L22)（收率：24%）。

LC-MS m/z=271(M+H)+

配体合成23：配体23(L23)的合成

根据下面的反应示意图23合成配体23(L23)：

除了中间体7(1)合成中，使用6-(三氟代甲基)嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体7(L7)的合成(配体合成7)相同的方式合成配体23(L23)（收率：37%）。

LC-MS m/z=283(M+H)+

配体合成24：配体24(L24)的合成

根据下面的反应示意图24合成配体24(L24)：

除了中间体10(1)合成中，使用6-(三氟代甲基)嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体10(L10)的合成（配体合成10）相同的方式合成配体24(L24)（收率：42%）。

LC-MS m/z=323(M+H)+

配体合成25：配体25(L25)的合成

根据下面的反应示意图25合成配体25(L25)：

<反应示意图25>

除了中间体6(1)合成中，使用2-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体6(L6)的合成（配体合成6）相同的方式合成配体25(L25)（收率：17%）。

LC-MS m/z=217(M+H)+

配体合成26：配体26(L26)的合成

根据下面的反应示意图26合成配体26(L26)：

除了中间体7(1)合成中，使用2-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体7(L7)的合成（配体合成7）相同的方式合成配体26(L26)（收率：22%）。

LC-MS m/z=229(M+H)+

配体合成27：配体27(L27)的合成

根据下面的反应示意图27合成配体27(L27)：

中间体27(1)的合成

在加1.9g(19.3mmol)的NatOBu（叔丁醇钠）到50ml的无水四氢呋喃后，在0℃缓慢加入2.2g(17.5mmol)的2,2-二甲基-3-戊酮到其中。在约60℃加热混合物约2小时后，缓慢加入2.2g(15.7mmol)的嘧啶-4-羧酸甲酯，并在回流下于约80℃加热约12小时。反应完成后，加入50ml的蒸馏水，并加入4N的稀释的盐酸用于中和，然后用100ml的二氯甲烷萃取约三次，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，在减压下蒸馏，然后用柱色谱法分离并纯化，以获得0.6g(2.5mmol，收率：16%)的中间体27(1)。

LC-MS m/z=223(M+H)+

配体27(L27)的合成

在室温溶解0.5g(2.5mmol)的中间体27(1)于10ml的乙醇后，加入0.7ml(55.0mmol)的水合肼，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下浓缩反应产物，并用30ml的蒸馏水和50ml的二氯甲烷萃取，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得0.4g(2.1mmol，收率：85%)的配体27(L27)。

LC-MS m/z=217(M+H)+

配体合成28：配体28(L28)的合成

根据下面的反应示意图28合成配体28(L28)：

除了中间体27(1)合成中，使用2,2,5,5-四甲基己-3-酮代替2,2-二甲基-3-戊酮以外，以与配体27(L27)的合成（配体合成27）相同的方式合成配体28(L28)（收率：12%）。

LC-MS m/z=259(M+H)+

配体合成29：配体29(L29)的合成

根据下面的反应示意图29合成配体29(L29)：

除了中间体27(1)合成中，使用2,2-二甲基-4-(三氟代甲基)-丁酮代替2,2-二甲基-3-戊酮以外，以与配体27(L27)的合成（配体合成27）相同的方式合成配体29(L29)（收率：9%）。

LC-MS m/z=271(M+H)+

配体合成30：配体30(L30)的合成

根据下面的反应示意图30合成配体30(L30)：

除了中间体27(1)合成中，使用1,4,-二(三氟代甲基)-2-丁酮代替2,2-二甲基-3-戊酮以外，以与配体27(L27)的合成(配体合成27)相同的方式合成配体30(L30)（收率：10%）。

LC-MS m/z=283(M+H)+

配体合成31：配体31(L31)的合成

根据下面的反应示意图31合成配体31(L31)：

中间体31(2)的合成

在溶解25.0g(143.6mmol)的4-喹唑啉-羧酸于100ml的甲醇后，加入5ml的磺酸（浓缩），然后在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下，浓缩反应的混合物，然后溶解于100ml的二氯甲烷。在0℃缓慢地加入饱和的碳酸氢钠溶液以碱化，然后萃取以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏，以获得26.0g(137.8mmol，收率：96%)的中间体31(2)。

LC-MS m/z=189(M+H)+

合成中间体31(1)

在加1.0g(43.4mmol)的NaH到80ml的无水四氢呋喃后，在0℃缓慢地加入2.6ml(34.8mmol)的丙酮。1小时后，缓慢地加入5.5g(29.0mmol)的中间体31(2)，并在回流下于约80℃加热约16小时。反应完成后，加入30ml的蒸馏水，并缓慢加入4N稀释的盐酸溶液用于中和。用100ml的二氯甲烷萃取得到的中和后的反应混合物约5次以获得有机层，用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得3.3g(15.1mmol，收率52%)的中间体31(1)。

LC-MS m/z=215(M+H)+

配体31(L31)的合成

在室温溶解3.0g(13.9mmol)的中间体31(1)于50ml的乙醇后，加入4.0ml(140.0mmol)的水合肼，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下浓缩反应产物，并用80ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，在减压下蒸馏，然后用柱色谱法分离并纯化，以获得2.2g(10.4mmol，收率：75%)的配体31(L31)。

LC-MS m/z=211(M+H)+

配体合成32：配体32(L32)的合成

根据下面的反应示意图32合成配体32(L32)：

除了中间体31(1)合成中，使用3,3-二甲基丁-2-酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成(配体合成31)相同的方式合成配体32(L32)（收率：25%）。

LC-MS m/z=253(M+H)+

配体合成33：配体33(L33)的合成

根据下面的反应示意图33合成配体33(L33)：

除了中间体31(1)合成中，使用1,1,1-三氟代丙-2-酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体33(L33)（收率：22%）。

LC-MS m/z=265(M+H)+

配体合成34：配体34(L31)的合成

根据下面的反应示意图34合成配体34(L34)：

除了中间体31(1)合成中，使用环己酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体34(L34)（收率：20%）。

LC-MS m/z=251(M+H)+

配体合成35：配体35(L35)的合成

根据下面的反应示意图35合成配体35(L35)：

除了中间体31(1)合成中，使用2,2-二甲基丁-2-酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体35(L35)（收率：22%）。

LC-MS m/z=279(M+H)+

配体合成36：配体36(L36)的合成

根据下面的反应示意图36合成配体36(L36)：

除了中间体31(1)合成中，使用樟脑代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体36(L36)（收率：22%）。

LC-MS m/z=305(M+H)+

配体合成37：配体37(L37)的合成

根据下面的反应示意图37合成配体37(L37)：

除了中间体31(1)合成中，使用2,2-二甲基丁-3-酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体37(L37)（收率：18%）。

LC-MS m/z=267(M+H)+

配体合成38：配体38(L38)的合成

根据下面的反应示意图38合成配体38(L38)：

除了中间体31(1)合成中，使用2,2-二甲基-4-(三氟代甲基)丁-3-酮代替丙酮以外，以与配体31(L31)的合成（配体合成31）相同的方式合成配体38(L38)（收率：20%）。

LC-MS m/z=321(M+H)+

配体合成39：配体39(L39)的合成

根据下面的反应示意图39合成配体39(L39)：

中间体39(4)的合成

在加入2.1g(86.8mmol)的NaH到120ml的无水四氢呋喃后，在0℃缓慢加入8.7ml(69.6mmol)的1,1,1-三氟代丙-2-酮。1小时后，缓慢加入12.6g(58.0mmol)的2-溴代嘧啶-4-羧酸甲酯，并在回流下于80℃加热约16小时。反应完成后，加入100ml的蒸馏水，缓慢加入1N的稀释的盐酸溶液，并在室温搅拌约30分钟，直到反应混合物被中和。30分钟后，用100ml的二氯甲烷萃取合成的产物约5次，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得5.3g(18.6mmol，收率32%)的中间体39(4)。

LC-MS m/z=297(M+H)+

中间体39(3)的合成

在室温溶解3.0g(10.4mmol)的中间体39(4)于30ml的乙醇中后，加入2.6ml(100.0mmol)的水合肼，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下浓缩反应产物，然后用80ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取以获得有机层，用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得2.1g(7.5mmol，收率72%)的中间体39(3)。

LC-MS m/z=293(M+H)+

中间体39(2)的合成

在加0.2g(9.0mmol)的NaH到120ml的无水四氢呋喃后，在0℃缓慢加入2.1g(7.5mmol)的中间体39(2)。30分钟后，缓慢加入1.5ml(8.3mmol)的2-(三甲基硅烷基)乙氧基甲基氯，并在室温搅拌约两天。反应完成后，用100ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取反应的产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得2.7g(6.6mmol，收率88%)的中间体39(2)。

LC-MS m/z=423(M+H)+

中间体39(1)的合成

在溶解2.7g(6.6mmol)的中间体39(2)于60ml甲苯后，加入0.05g(0.05mmol)的三(二苄叉丙酮)二钯(0)、0.2ml(2.6mmol)的苯胺、0.06g(0.1mmol)的1,1’-双(二苯基磷)

二茂铁和0.6g(6.6mmol)的叔丁醇钠，然后在回流下于约120℃加热约16小时。反应完成后，用100ml的蒸馏水和200ml的乙酸乙酯萃取反应产物以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得2.6g(3.4mmol，收率52%)的中间体39(1)。

LC-MS m/z=778(M+H)+

配体39(L39)的合成

在室温溶解2.0g(2.7mmol)的中间体39(1)于30ml的乙醇后，加入50ml的4N稀释的盐酸溶液，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，在减压下浓缩反应产物，然后用200ml的二氯甲烷萃取以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得1.1g(2.4mmol，收率90%)的配体39(L39)。

LC-MS m/z=518(M+H)+

配体合成40：配体40(L40)的合成

根据下面的反应示意图40合成配体40(L40)：

中间体40(2)的合成

在室温溶解5.0g(47.6mmol)的2-氰基嘧啶于100ml的乙醇后，加入20ml(475.7mmol)的水合肼，并在室温搅拌约2天。反应完成后，在减压下浓缩反应的产物，然后用100ml的盐水和200ml的二氯甲烷萃取，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，

并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得3.0g(21.9mmol，收率46%)的中间体40(2)。

LC-MS m/z=138(M+H)+

中间体40(1)的合成

在室温溶解2.9g(21.6mmol)的中间体40(2)于120ml的无水四氢呋喃和40ml的蒸馏水中后，在室温将2.7g(32.1mmol)的碳酸氢钠加到反应混合物中，并搅拌约30分钟。30分钟后，在0℃缓慢加入3.2ml(25.9mmol)的三甲基氯乙烷，并在室温搅拌约16小时。反应完成后，用100ml的蒸馏水和200ml的二氯甲烷萃取反应的产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得1.2g(5.4mmol，收率25%)的中间体40(1)。

LC-MS m/z=222(M+H)+

配体40(L40)的合成

在室温溶解1.2g(5.4mmol)的中间体40(1)于30ml的乙醇中后，在回流下于约190℃将得到的溶液加热约4小时。将合成的产物溶解于30ml的乙醇中，并且在其中加入50ml的4N稀释的盐酸溶液，并在回流下于约80℃加热约18小时。反应完成后，用100ml的蒸馏水和200ml的二氯甲烷萃取反应的产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得0.7g(3.4mmol，收率64%)的配体40(L40)。

LC-MS m/z=204(M+H)+

配体合成41：配体41(L41)的合成

除了中间体30(1)合成中，使用6-甲基嘧啶-4-羧酸甲酯代替嘧啶-4-羧酸甲酯以外，以与配体30(L30)的合成（配体合成30）相同的方式合成配体41(L41)（收率：19%）。

LC-MS m/z=297(M+H)+

配体合成42：配体42(L42)的合成

除了中间体39(4)合成中，使用3,3-二甲丁-2-酮代替1,1,1-三氟丙-2-酮以外，以与配体39(L39)的合成(配体合成39)相同的方式合成配体42(L42)（收率：9%）。

LC-MS m/z=494(M+H)+

配体合成43：配体43(L43)的合成

除了在中间体39(4)合成中使用3,3-二甲丁-2-酮代替1,1,1-三氟丙-2-酮，并在中间体39(1)合成中对甲苯胺代替苯胺以外，以与配体39(L39)的合成（配体合成39）相同的方式合成配体43(L43)（收率：7%）。

LC-MS m/z=508(M+H)+

合成例1：化合物1的合成

根据下面的反应示意图41合成化合物1：

在室温溶解1.0g(6.8mmol)的配体1(L1)于50ml的乙醇水溶液后，加入1.4g(3.4mmol)的K₂PtCl₄，并在回流下于约100℃加热约18小时。18小时后，反应产物冷却至0℃，以获得固体产物，然后过滤。用80ml的热水然后用50ml的热乙醇漂洗过滤的固体。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，通过升华进一步纯化，以获得0.6g(1.2mmol，收率19%)的化合物1。

LC-MS m/z=486(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.72(s,1H),8.84(d,1H),7.72(d,1H),7.53(d,2H),6.36(d,1H)

合成例2：化合物2的合成

除了使用配体4(L4)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物2（收率22%)。

LC-MS m/z=514(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.97(s,1H),8.68(d,1H),7.47(d,1H),6.58(s,1H),2.92(s,3H)

合成例3：化合物3的合成

除了使用配体5(L5)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物3（收率42%)。

LC-MS m/z=570(M+H)+

1H NMR(300MHz,CDCl3)σ=11.00(s,1H),8.71(d,1H),7.32(d,1H),6.72(s,1H),3.72(m,1H),1.28(d,6H)

合成例4：化合物4的合成

除了使用配体6(L6)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物4（收率35%)。

LC-MS m/z=598(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.10(s,1H),8.73(d,1H),7.56(d,1H),6.64(s,1H),1.43(s,9H)

合成例5：化合物5的合成

除了使用配体7(L7)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物5（收率32%)。

LC-MS m/z=622(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)=11.07(s,1H),8.81(d,1H),7.61(d,1H),6.14(s,1H)

合成例6：化合物6的合成

除了使用配体8(L8)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物6（收率29%)。

LC-MS m/z=594(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.96(s,1H),9.17(d,1H),8.17(d,1H),2.76(br s,2H),2.72(br s,2H),1.79-1.73(br s,4H)

合成例7：化合物7的合成

除了使用配体9(L9)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物7（收率28%)。

LC-MS m/z=650(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.01(s,1H),9.26(d,1H),8.32(d,1H),2.71(br s,2H),1.82(br s,2H),1.54(br s,2H),1.38(s,6H)

合成例8：化合物8的合成

除了使用配体10(L10)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物8（收率17%)。

LC-MS m/z=702(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.03(s,1H),9.23(d,1H),8.37(d,1H),2.77(br s,1H),1.68-1.62(m,4H),1.47(s,3H),1.01(s,6H)

合成例9：化合物9的合成

除了使用配体11(L11)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物9（收率36%)。

LC-MS m/z=542(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.36(s,1H),8.48(s,1H),6.21(s,1H),2.36(s,3H),2.33(s,6H)

合成例10：化合物10的合成

除了使用配体12(L12)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物10（收率48%)。

LC-MS m/z=626(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.34(s,1H),8.42(s,1H),6.01(s,1H),2.32(s,3H),1.36(s,9H)

合成例11：化合物11的合成

除了使用配体13(L13)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物11（收率42%)。

LC-MS m/z=650(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.41(s,1H),8.19(s,1H),6.02(s,1H),2.33(s,3H)

合成例12：化合物12的合成

除了使用配体14(L14)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物12（收率49%)。

LC-MS m/z=678(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.34(s,1H),8.36(s,1H),2.77(br s,2H),2.29(s,3H),1.82(br s,2H),1.55(br s,2H),1.36(s,6H)

合成例13：化合物13的合成

除了使用配体15(L15)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物13（收率36%)。

LC-MS m/z=730(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.31(s,1H),8.28(s,1H),2.82(br s,1H),2.31(s,1H),1.66-1.62(m,4H),1.45(s,3H),0.99(s,6H)

合成例14：化合物14的合成

除了使用配体16(L16)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物14（收率28%)。

LC-MS m/z=574(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.06(s,1H),7.84(s,1H),6.36(s,1H),3.65(s,3H),2.21(s,3H)

合成例15：化合物15的合成

除了使用配体17(L17)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物15（收率34%)。

LC-MS m/z=658(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.00(s,1H),7.69(s,1H),6.12(s,1H),3.67(s,3H),1.42(s,9H)

合成例16：化合物16的合成

除了使用配体18(L18)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物16（收率27%)。

LC-MS m/z=682(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.13(s,1H),7.42(s,1H),6.02(s,1H),3.80(s,3H)

合成例17：化合物17的合成

除了使用配体19(L19)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物17（收率22%)。

LC-MS m/z=694(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.03(s,1H),7.76(s,1H),3.83(s,3H),2.76(s,2H),1.76(br s,2H),1.54(br s,2H),1.36(s,6H)

合成例18：化合物18的合成

除了使用配体20(L20)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物18（收率19%)。

LC-MS m/z=762(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.10(s,1H),7.81(s,1H),3.81(s,3H),2.72(br s,1H),1.69-1.65(m,4H),1.43(s,3H),0.99(s,6H)

合成例19：化合物19的合成

除了使用配体21(L21)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物19（收率21%)。

LC-MS m/z=650(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.07(s,1H),8.51(s,1H),6.41(s,1H),2.21(s,3H)

合成例20：化合物20的合成

除了使用配体22(L22)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物20（收率38%)。

LC-MS m/z=734(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.00(s,1H),8.38(s,1H),6.28(s,1H),1.58(s,9H)

合成例21：化合物21的合成

除了使用配体23(L23)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物21（收率42%)。

LC-MS m/z=758(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.02(s,1H),8.13(s,1H),6.53(s,1H)

合成例22：化合物22的合成

除了使用配体24(L24)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物22（收率37%)。

LC-MS m/z=838(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.12(s,1H),8.31(s,1H),2.96-2.94(m,1H),1.93-1.89(m,2H),1.69-1.65(m,2H),1.42(s,3H),0.99(s,6H)

合成例23：化合物23的合成

除了使用配体25(L25)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物23（收率35%)。

LC-MS m/z=626(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=8.87(d,1H),7.68(d,1H),6.32(s,1H),2.63(s,3H),1.33(s,9H)

合成例24：化合物24的合成

除了使用配体26(L26)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物24（收率21%)。

LC-MS m/z=650(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=8.76(d,1H),7.53(d,1H),6.48(s,1H),2.44(s,3H)

合成例25：化合物25的合成

除了使用配体27(L27)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物27（收率36%)。

LC-MS m/z=626(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.32(s,1H),9.21(d,1H),8.17(d,1H),2.04(s,3H),1.36(s,9H)

合成例26：化合物26的合成

除了使用配体28(L28)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物26（收率34%)。

LC-MS m/z=710(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.23(s,1H),8.78(d,1H),8.05(d,1H),1.41(s,9H),1.33(s,9H)

合成例27：化合物27的合成

除了使用配体29(L29)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物27（收率21%)。

LC-MS m/z=734(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.18(s,1H),9.13(d,1H),8.15(d,1H),1.38(s,9H)

合成例28：化合物28的合成

除了使用配体30(L30)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物28（收率35%)。

LC-MS m/z=758(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.13(s,1H),8.86(d,1H),7.64(d,1H)

合成例29：化合物68的合成

除了使用配体40(L40)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物68（收率27%)。

LC-MS m/z=600(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.86(s,1H),8.92(d,1H),7.73(d,1H),1.35(2,9H)

合成例30：化合物37的合成

除了使用配体2(L2)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物37（收率22%)。

LC-MS m/z=586(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.47(s,1H),9.20(d,1H),8.32(d,1h),8.17(d,1H),7.92(d,1H),7.62(m,1H),7.48(m,1H)

合成例31：化合物38的合成

除了使用配体3(L3)代替配体1(L1)之外，以与合成例1相同的方式合成化合物38（收率26%)。

LC-MS m/z=686(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.54(s,1H),8.46(m,1H),7.84(m,1H),7.58(m,1H),7.34(d,1H),6.31(d,1H)

合成例32：化合物29的合成

根据下面的反应示意图42合成化合物29：

在0℃溶解0.1g(4.9mmol)的NaH于50ml的无水四氢呋喃后，缓慢加入1.0g(4.8mmol)的配体31(L31)。30分钟后，加入1.1g(2.4mmol)的PtCl(SEt₂)₂到混合物中，在室温搅拌约1小时，然后在回流下在约80℃加热约18小时。18小时后，用80ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取反应产物以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下浓缩。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，然后用升华进一步纯化以获得0.4g(0.6mmol，收率28%)的化合物29。

LC-MS m/z=614(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.32(s,1H),8.36(d,1H),7.83-7.81(m,2H),7.58(brs,1H),7.43(s,1H),2.04(s,3H)

合成例33：化合物30的合成

除了使用配体32(L32)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物30（收率22%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.29(s,1H),8.16(d,1H),7.84-7.83(m,2H),7.55(brs,1H),6.38(s,1H),1.39(s,9H)

合成例34：化合物31的合成

除了使用配体33(L33)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物31（收率18%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.41(s,1H),8.31(d,1H),7.85-7.81(m,2H),7.49(brs,1H),6.02(s,1H)

合成例35：化合物32的合成

除了使用配体34(L34)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物32（收率31%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.29(s,1H),8.16(d,1H),7.83-7.81(m,2H),7.52(brs,1H),2.76-2.72(m,4H),1.83-1.76(m,4H)

合成例36：化合物33的合成

除了使用配体35(L35)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物33（收率27%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.36(s,1H),8.21(d,1H),7.86-7.84(m,2H),7.56(brs,1H),2.74-2.72(m,2H),1.82-1.79(m,2H),1.58-1.54(m,2H),1.42(s,6H)

合成例37：化合物34的合成

除了使用配体36(L36)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物34（收率25%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.28(s,1H),8.18(d,1H),7.84-7.83(m,2H),7.58(brs,1H),2.77-2.75(m,2H),1.93-1.90(m,2H),1.87-1.85(m,2H),1.47(s,3H),1.02(s,6H)

合成例38：化合物35的合成

除了使用配体37(L37)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物35（收率22%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.29(s,1H),8.16(d,1H),7.86-7.84(m,2H),7.61(brs,1H),2.12(s,3H),1.37(s,9H)

合成例39：化合物36的合成

除了使用配体38(L38)代替配体31(L31)之外，以与合成例32相同的方式合成化合物36（收率21%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.16(s,1H),8.35(d,1H),7.73-7.71(m,2H),7.55(brs,1H),1.35(s,9H)

合成例40：化合物39的合成

根据下面的反应示意图43合成化合物39：

化合物39(1)的合成

在室温溶解1.0g(4.7mmol)的配体7(L7)和1.9g(4.7mmol)的K₂PtCl₄于100ml的蒸馏水中后，加入3ml的4N稀释的盐酸，并在回流下在约80℃下加热约6小时。6小时后，冷却反应产物至室温，并过滤以获得固体化合物，然后用50ml的蒸馏水漂洗，并干燥以获得2.0g（2.4mmol，收率：50%）的化合物39(1)。

化合物39的合成

在0℃溶解0.1g(4.9mmol)的NaH于50ml的无水四氢呋喃中后，缓慢加入0.4g(2.4mmol)的配体4(L4)。约30分钟后，加入2.0g(2.4mmol)的化合物39(1)，并在回流下于约80℃加热约18小时。18小时后，用80ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取反应产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下浓缩。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，然后通过升华进一步纯化，以获得0.6g(1.2mmol，收率48%)的化合物39。

LC-MS m/z=568(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.32(s,1H),11.26(s,1H),8.92(d,1H),8.76(d,1H),6.75(s,1H),6.64(s,1H),2.32(s,3H)

合成例41：化合物40的合成

除了使用配体6(L6)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物40（收率9%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.29(s,1H),11.19(s,1H),8.96(d,1H),8.65(d,1H),6.81(s,1H),6.68(s,1H),1.35(s,9H)

合成例42：化合物41的合成

除了使用配体27(L27)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物41（收率12%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.30(s,1H),11.24(s,1H),8.90(d,1H),8.71(d,1H),6.72(s,1H),2.04(s,3H),1.33(s,9H)

合成例43：化合物42的合成

除了使用配体29(L29)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物42（收率10%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.29(s,1H),11.21(s,1H),8.91(d,1H),8.56(d,1H),6.70(s,1H),1.38(s,9H)

合成例44：化合物43的合成

除了使用配体30(L30)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物43（收率11%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.32(s,1H),11.15(s,1H),8.92(d,1H),8.72(d,1H),6.72(s,1H)

合成例45：化合物44的合成

除了使用配体13(L13)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并且使用配体30(L30)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物44（收率12%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.16(s,1H),11.26(s,1H),9.21(d,1H),8.64(d,1H),6.68(s,1H),2.36(s,3H)

合成例46：化合物45的合成

除了使用配体13(L13)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用配体41(L41)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物45（收率11%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.13(s,1H),11.10(s,1H),8.07(d,1H),8.02(d,1H),6.35(s,1H)

合成例47：化合物46的合成

除了使用配体31(L13)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)之外，以与合成例40相同的方式合成化合物46（收率7%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.33(s,1H),11.26(s,1H),10.85(d,1H),8.63(d,1H),8.54(br s,1H),7.85-7.83(m,2H),7.58(br s,1H),6.85(s,1H),6.33(s,1H),2.33(s,3H)

合成例48：化合物47的合成

除了使用配体7(L7)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)，以与合成例40相同的方式合成化合物47（收率10%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.32(s,1H),9.20(d,1H),8.85(d,1H),8.57(d,1H),8.05-8.03(m,1H),7.87-7.85(m,1H),6.39(s,1H),6.32(s,1H)

合成例49：化合物48的合成

除了使用配体6(L6)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物48（收率12%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.23(s,1H),9.52(d,1H),8.55(d,1H),8.31(d,1H),8.16-8.14(m,1H),7.92-7.90(m,1H),6.35(s,1H),6.33(s,1H),1.37(s,9H)

合成例50：化合物49的合成

除了使用配体6(L6)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用配体6(L6)代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物49（收率11%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.13(s,1H),9.86(d,1H),8.71(d,1H),8.46(d,1H),8.09-8.07(m,1H),7.88-7.87(m,1H),6.39(s,1H),6.30(s,1H),1.37(s,9H),1.35(s,9H)

合成例51：化合物50的合成

除了使用2-苯基吡啶代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物50（收率16%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.21(s,1H),9.20(d,1H),8.56(d,1H),8.30(d,1H),8.17(d,1H),7.97(d,1H),7.51-7.47(m,3H),7.41(br s,1H),7.02-7.00(m,1H),6.32(s,1H)

合成例52：化合物51的合成

除了使用配体6(L6)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用2-苯基吡啶代替用于合成化合物39中配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物51（收率14%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.18(s,1H),9.17(d,1H),8.48(d,1H),8.36(d,1H),8.21(d,1H),7.88(d,1H),7.55-7.51(m,3H),7.36(br s,1H),7.02-7.00(m,1H),6.33(s,1H),1.38(s,9H)

合成例53：化合物52的合成

除了使用配体9(L9)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用2-苯基吡啶代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物52（收率16%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.22(s,1H),9.20(d,1H),8.53(d,1H),8.31(d,1H),8.15(d,1H),8.02(d,1H),7.50-7.46(m,3H),7.43(br s,1H),7.05-7.03(m,1H),2.76-2.74(m,2H),1.79-1.77(m,2H),1.54-1.52(m,2H),1.38(s,6H)

合成例54：化合物53的合成

除了使用配体6(L6)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用乙酰乙酸酯钠(Na(acac))代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物53（收率26%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.89(s,1H),9.20(d,1H),8.17(d,1H),6.21(s,1H),5.31(br s,1H),3.52-3.50(m,1H),1.38(s,9H),1.18(s,6H)

合成例55：化合物54的合成

除了使用乙酰乙酸酯钠(Na(acac))代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物54（收率22%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.74(s,1H),9.26(d,1H),8.13(d,1H),6.36(s,1H),5.33(br s,1H),3.53-3.51(m,1H),1.18(s,6H)

合成例56：化合物55的合成

除了使用配体9(L9)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用乙酰乙酸酯钠(Na(acac))代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物55（收率26%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.02(s,1H),8.72(d,1h),8.58(d,1H),5.31(br s,1H),3.52-3.50(m,1H),2.75-2.73(m,2H),1.79-1.76(m,2H),1.54-1.52(m,2H),1.40(s,6H),1.20(s,6H)

合成例57：化合物56的合成

除了使用配体27(L27)代替用于合成化合物39(1)中的配体7(L7)，并使用乙酰乙酸酯钠(Na(acac))代替用于合成化合物39中的配体4(L4)以外，以与合成例40相同的方式合成化合物56（收率21%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=10.91(s,1H),8.25(d,1h),7.85(d,1H),5.31(br s,1H),3.52-3.50(m,1H),2.75-2.73(m,2H),2.10(s,3H),1.35(s,9H),1.18(s,6H)

合成例58：化合物57的合成

根据下面的反应示意图44合成化合物57：

溶解2.0mmol的配体39(L39)于30ml的苯甲腈后，加入0.7g(2.0mmol)的PtCl₄，并在约240℃搅拌约36小时。36小时后，冷却反应产物至室温，并过滤以获得固体产物，用50ml的乙醚漂洗，并干燥以获得化合物37（收率小于3%)。

LC-MS m/z=711(M+H)+

合成例59：化合物58的合成

除了使用配体42(L42)代替配体39(L39)以外，以与合成例58相同的方式合成化合物58（收率3%)。

LC-MS m/z=701(M+H)+

合成例60：化合物59的合成

除了使用配体43(L43)代替配体39(L39)以外，以与合成例58相同的方式合成化合物59（收率7%)。

LC-MS m/z=701(M+H)+

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=7.48-7.45(m,2H),7.25-7.23(m,2H),6.99-6.97(m,2H),6.66-6.63(m,2H),6.51-6.49(m,2H),6.32(s,2H),2.31(s,3H),1.35(s,18H)

合成例61：化合物60的合成

根据下面的反应示意图45合成化合物60：

溶解6.0mmol的配体7(L7)于40ml的二乙二醇单乙醚中后，加入0.9g(1.0mmol)的Os₃(CO)₁₂，并在约180℃搅拌约24小时。在温度冷却至约140℃后，加入0.4g(5.0mmol)的N-氧化三甲胺，并在约180℃搅拌约5分钟。5分钟后，加入5.0mmol的二甲基(苯基)膦(PPhMe₂)，并搅拌约24小时。反应完成后，用80ml的蒸馏水和200ml的二氯甲烷萃取反应产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，然后通过升华进一步纯化以获得化合物60（收率65%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.19(s,2H),7.62(d,2H),7.05(d,2H),6.92-6.87(m,8H),6.41-6.38(m,4H),0.81(m,6H),0.60(m,6H)

合成例62：化合物61的合成

除了使用配体6(L6)代替配体7(L7)，并且用二苯基(甲基)膦(PPh₂Me)代替PPhMe₂以外，以与合成例61相同的方式合成化合物61（收率62%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.20(s,2H),7.73(d,2H),7.12(d,2H),6.96-6.93(m,8H),6.46-6.43(m,4H),1.37(m,18H),0.81(m,6H),0.60(m,6H)

合成例63：化合物62的合成

除了使用配体6(L6)代替配体7(L7)以外，以与合成例61相同的方式合成化合物62（收率62%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=11.17(s,2H),7.55(d,2H),7.32(d,2H),7.23-7.11(m,4H),7.00-6.97(m,4H),6395-6.92(m,4H),6.89-6.85(m,4H),6.69-6.64(m,4H),1.26(t,6H)

合成例64：化合物63的合成

除了使用1,2-双(二苯基磷)乙醇（1,2-bis(diphenylphospino)ethanol）代替二甲基(苯基)膦(PPhMe₂)以外，以与合成例61相同的方式合成化合物63（收率22%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=9.06-9.03(m,2H),7.90-7.87(m,4H),7.78-7.75(m,2H),7.43-7.41(m,2H),7.35-7.31(m,4H),7.30-7.27(m,2H),7.17-7.15(m,2H),7.09-7.08(m,2H),6.80-6.77(m,4H),6.62-6.60(m,4H),6.41-6.38(m,2H)

合成例65：化合物64的合成

除了使用配体6(L6)代替配体7(L7)，并且用1,2-双(二苯基磷)乙醇代替二苯基(甲基)膦(PPh₂Me)以外，以与合成例61相同的方式合成化合物64（收率21%)。

¹H NMR(300MHz,CDCl₃)σ=9.03-9.01(m,2H),7.84-7.2(m,4H),7.75-7.73(m,2H),7.46-7.44(m,2H),7.43-7.40(m,4H),7.35-7.32(m,2H),7.21-7.19(m,2H),7.12-7.10(m,2H),6.76-6.73(m,4H),6.63-6.60(m,4H),6.53-6.51(m,2H),1.37-1.34(m,18H)

合成例66：化合物65的合成

根据下面的反应示意图46合成化合物65：

在溶解2.0mmol的配体4(L4)于30ml的乙二醇后，加入0.4g(0.3mmol)的IrCl₃·3H₂O，并在约220℃搅拌约24小时。反应完成后，用50ml的蒸馏水和100ml的二氯甲烷萃取反应产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得化合物65（收率26%)。

LC-MS m/z=671(M+H)+

合成例67：化合物66的合成

除了使用配体7(L7)代替配体4(L4)以外，以与合成例66相同的方式合成化合物66（收率22%)。

LC-MS m/z=833(M+H)+

合成例68：化合物67的合成

根据下面的反应示意图47合成化合物67：

将作为起始材料的1.5g(7.1mmol)的2,6-二吡唑-1-基吡啶和2.6g(2.0mmol)的IrCl₃·3H2O溶解于60ml的甲醇，并在回流下加热约15小时。然后，冷却反应产物，并过滤以获得固体产物，然后干燥，并溶解于120ml的甘油。加入4.5g(21.3mmol)的配体7(L7)到反应混合物，并经微波辐射(300W)约3小时以反应。反应完成后，加200ml的饱和的盐溶液到反应产物中，并过滤以获得固体产物，然后干燥，并用二氯甲烷和己烷的混合溶剂重结晶。合成的固体化合物溶解于80ml的甘油，并加入氢氧化钾经微薄辐射(300W)约6小时。反应完成后，在室温用100ml的饱和的盐溶液和300ml的二氯甲烷萃取反应产物，以获得有机层，然后用硫酸镁干燥，并在减压下蒸馏。用柱色谱法分离并纯化合成的产物，以获得化合物67（收率2%)。

LC-MS m/z=719(M+H)+

实施例1

将具有阳极的玻璃基板（沉积ITO/Ag/ITO分别至的厚度）切割成50mm×50mm×0.5mm的尺寸，然后在异丙醇和纯水中各超声清洗5分钟，然后通过紫外线照射清洁30分钟，并暴露于臭氧。得到的玻璃基板装入真空沉积装置。

2-TNATA在阳极的表面沉积以形成具有厚度的HIL，然后4.4’-双[N-(1-萘基)-N-苯氨]联苯基(NPB)在HIL上沉积以形成具有的厚度的HTL。

CBP（主体）和化合物2（掺杂剂）以95:5的重量比在HTL的表面上共沉积以形成具有厚度的EML，然后通过在EML上沉积BCP以形成具有约的厚度的HBL。然后，在HBL上沉积Alq3以形成具有约的厚度的ETL，然后在ETL上沉积LiF以形成具有约厚度的EIL。然后，Mg和Ag以90:10的重量比在EIL上沉积以形成具有约厚度的阴极，从而完成有机发光装置的制造。

实施例2

除了使用化合物3代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例3

除了使用化合物4代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例4

除了使用化合物6代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例5

除了使用化合物7代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例6

除了使用化合物68代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例7

除了HTL的厚度变成约并且CBP（主体）和化合物30（掺杂剂）以94:6的重量比共沉积以形成具有约厚度的EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

实施例8

除了使用化合物33代替化合物30以形成EML以外，以与实施例7相同的方式制造有机发光装置。

实施例9

除了使用化合物34代替化合物30以形成EML以外，以与实施例7相同的方式制造有机发光装置。

实施例10

除了使用化合物60代替化合物30以形成EML以外，以与实施例7相同的方式制造有机发光装置。

实施例11

除了使用化合物63代替化合物30以形成EML以外，以与实施例7相同的方式制造有机发光装置。

对比例1

除了使用Ir(ppy)₃代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

对比例2

除了使用PtOEP代替化合物30以形成EML以外，以与实施例7相同的方式制造有机发光装置。

对比例3

除了使用下面的化合物A代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

对比例4

除了使用下面的化合物B代替化合物2以形成EML以外，以与实施例1相同的方式制造有机发光装置。

评估例1

用PR650(Spectroscan)Source Measurement Unit（可购自Photo Research公司）测量实施例1至11和对比例1至4的有机发光装置的驱动电压、电流密度、亮度、效率和色纯度。LT₉₇为用于初始发光（假定为在约10mA/cm²的电流密度下从100%减小到97%）的时间的寿命数据。结果显示于下面的表1中，其中V_dr为驱动电压，Cmp为化合物，L为亮度，Eff为效率，Clr为发光颜色，并且Clr_coor为色座标。

【表1】

参照上表1，与对比例1、3和4的有机发光装置相比，发现实施例1至6的有机发光装置在驱动电压、亮度、效率和寿命特性方面有提高。与对比例2的有机发光装置相比，发现实施例7至11的有机发光装置具有提高的驱动电压、亮度、效率和寿命特性。

通过总结和回顾，OLED可具有包括基板及依次堆叠在基板上的阳极、空穴传输层(HTL)、发光层(EML)、电子传输层(ETL)和阴极的结构。在这方面，HTL、EML和ETL可为由有机化合物形成的有机薄膜。

具有上述结构的OLED的运行原理可如下。当阳极和阴极之间施加电压时，从阳极注入的空穴通过HTL移动到EML，并且从阴极注入的电子通过ETL移动到EML。空穴和电子在EML中再次结合以产生激子。当激子从激发态落回基态时发出光。

如上述，根据一个或多个上面的实施方式，包含上述有机金属化合物的有机发光装置可提供具有低驱动电压、高效率和长寿命的OLED。

文中已经公开了示例性实施方式，虽然使用了具体的术语，但它们仅以一般和说明的意义进行解释，而不为了限制的目的。在一些例子中，自本申请的申请时起，对本领域普通技术人员显而易见的是，除非另外特别指出，结合具体实施方式的特征、特性和/或要素可单独应用，或者与结合其它实施方式说明的特征、特性和/或要素结合应用。因此，本领域技术人员将理解在不背离下面权利要求书提出的本发明的精神和范围的情况下，可作出形式和细节的各种改变。

Claims (25)

1.一种由化学式1表示的有机金属化合物：

<化学式1>

其中，化学式1中：

M为过渡金属；

X₁为N或C(R₅)；

R₁至R₅各自独立地选自氢原子、氘原子和取代或未取代的C₁至C₆₀烷基的组；

R₄和R₅可选地连接到一起，以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环；

n为1至3的整数；

L为单齿、二齿、三齿或四齿有机配体；并且

m为0；

其中，在取代的C₁至C₆₀烷基中，上述未取代的C₁至C₆₀烷基的至少一个氢原子被氘原子、卤素原子、羟基、硝基、氰基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₆至C₆₀芳基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)或-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)取代，其中，Q₁至Q₁₅各自独立地选自氢原子、C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₅至C₆₀芳基和C₂至C₆₀杂芳基的组；并且

其中，所述取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环为选自环丙烷，环丁烷，环戊烷，环己烷，环庚烷，环辛烷，环戊烯，环戊二烯，环己二烯，环庚二烯，二环庚烷，二环辛烷，及被选自：氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、C₁至C₆₀烷基、被至少一个卤素原子取代的C₁至C₆₀烷基、C₂至C₆₀烯基、C₂至C₆₀炔基、C₁至C₆₀烷氧基、C₃至C₁₀环烷基、C₃至C₁₀环烯基、C₃至C₁₀杂环烷基、C₃至C₁₀杂环烯基、C₆至C₆₀芳基、C₆至C₆₀芳氧基、C₆至C₆₀芳硫基、C₂至C₆₀杂芳基、-N(Q₁₁)(Q₁₂)和-Si(Q₁₃)(Q₁₄)(Q₁₅)的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的至少一种；

Q₁₁至Q₁₅各自独立地选自氢原子、C₁至C₁₀烷基、C₆至C₂₀芳基和C₂至C₂₀杂芳基的组；

所述取代的基团选自取代的环丙烷、取代的环丁烷、取代的环戊烷、取代的环己烷、取代的环庚烷、取代的环辛烷、取代的环戊烯、取代的环戊二烯、取代的环己二烯、取代的环庚二烯、取代的二环庚烷和取代的二环辛烷的组。

2.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中，M选自钌、铑、钯、钨、铼、锇、铱和铂的组。

3.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中，X₁为C(R₅)。

4.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中，X₁为N。

5.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中，

X₁为C(R₅)；

R₁至R₅各自独立地为选自氢原子，氘原子，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，戊基，己基，庚基，辛基，壬基，癸基，及被选自氘原子、氟原子、羟基、氰基、硝基、和氨基的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的一种；并且

所述取代的基团选自取代的甲基、取代的乙基、取代的正丙基、取代的异丙基、取代的正丁基、取代的异丁基、取代的叔丁基、取代的戊基、取代的己基、取代的庚基、取代的辛基、取代的壬基和取代的癸基的组。

6.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

X₁为N；

R₁至R₄各自独立地为选自氢原子，氘原子，甲基，乙基，正丙基，异丙基，正丁基，异丁基，叔丁基，戊基，己基，庚基，辛基，壬基，癸基，及被选自氘原子、氟原子、羟基、氰基、硝基、和氨基的组中的至少一种所取代的取代的基团的组中的一种；并且

所述取代的基团选自取代的甲基、取代的乙基、取代的正丙基、取代的异丙基、取代的正丁基、取代的异丁基、取代的叔丁基、取代的戊基、取代的己基、取代的庚基、取代的辛基、取代的壬基和取代的癸基的组。

7.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

X₁为C(R₅)，并且R₄和R₅连接到一起，以使所述有机金属化合物由化学式1B表示：

<化学式1B>

其中，化学式1B中：

M、X₁、R₁至R₅、n、L和m如在化学式1中定义；并且

B环为取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环。

8.如权利要求7所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式1B-(1)、1B-(2)和1B-(3)的组中的一种表示：

其中，化学式1B-(1)、1B-(2)和1B-(3)中：

R₁至R₃以及R₂₁至R₂₈各自独立地选自氢原子、氘原子、C₁至C₂₀烷基和取代的C₁至C₂₀烷基的组；

所述取代的C₁至C₂₀烷基被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一个取代；

n为1至3的整数；

L为有机配体；并且

m为0。

9.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式3和4的组中的一个表示：

其中，化学式3和4中：

M为过渡金属；

X_1a为N或C(R_5a)；

X_1b为N或C(R_5b)；

R_1a至R_5a以及R_1b至R_5b各自独立地为氢原子、氘原子或者取代或未取代的C₁至C₆₀烷基；

R_4a和R_5a可选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环；

R_4b和R_5b可选地连接到一起以形成取代或未取代的C₄至C₂₀脂环族环；

L为有机配体；并且

m1为0。

10.如权利要求9所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由化学式3表示，并且

R_1a＝R_1b，R_2a＝R_2b，R_3a＝R_3b，R_4a＝R_4b，X_1a＝X_1b，M＝Pt，并且m1＝0。

11.如权利要求9所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由化学式4表示；并且

R_1a＝R_1b，R_2a＝R_2b，R_3a＝R_3b，R_4a＝R_4b，X_1a＝X_1b，M＝Pt，并且m1＝0。

12.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式3A-(1)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)和3A-(9)的组中的一个表示：

<化学式3A-(5)>

<化学式3A-(9)>

其中，化学式3A-(1)、3A-(3)、3A-(4)、3A-(5)和3A-(9)中：

M为铂；并且

R_1a至R_5a、R_1b至R_5b、R_21a至R_28a以及R_21b至R_28b各自独立地选自氢原子、氘原子、C₁至C₂₀烷基和取代的C₁至C₂₀烷基的组；

所述取代的C₁至C₂₀烷基被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一种取代。

13.如权利要求12所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式3A-(1)、3A-(4)和3A-(9)的组中的一种表示；并且

R_1a＝R_1b，R_2a＝R_2b，R_3a＝R_3b，R_4a＝R_4b，R_5a＝R_5b，R_21a＝R_21b，R_22a＝R_22b，R_23a＝R_23b，R_24a＝R_24b，R_25a＝R_25b，R_26a＝R_26b，R_27a＝R_27b，并且R_28a＝R_28b。

14.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：n为3，并且m为0。

15.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式5和7的组中的一个表示：

<化学式5>

<化学式7>

其中，化学式5和7中：

M、X₁、R₁至R₅以及L如化学式1中定义；

m2为0；

X₂₁为N或C(R₅₁)，X₂₂为N或C(R₅₂)，X₂₃为N或C(R₅₃)，X₂₄为N或C(R₅₄)，X₂₅为N或C(R₅₅)，且X₂₆为N或C(R₅₆)；

R₄₁、R₄₂以及R₅₁至R₅₆各自独立地选自氢原子、氘原子和取代或未取代的C₁至C₆₀烷基的组。

16.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：

所述有机金属化合物由选自化学式5-(2)、5-(3)和5-(4)的组中的一个表示：

其中，化学式5-(1)至5-(4)中：

M、X₁、R₁至R₅以及L如化学式1中定义；

m2为0；

X₂₁为N或C(R₅₁)，X₂₄为N或C(R₅₄)，X₂₅为N或C(R₅₅)，并且X₂₆为N或C(R₅₆)；并且

R₄₁、R₅₁和R₅₄至R₅₆以及R₆₁至R₆₈各自独立地选自氢原子、氘原子、C₁至C₂₀烷基和取代的C₁至C₂₀烷基的组；

所述取代的C₁至C₂₀烷基被选自氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基和氨基的组中的至少一种取代。

17.如权利要求1所述的有机金属化合物，其中：所述有机金属化合物为选自以下化合物的组中的一种：

18.一种有机发光装置，包括：

基板；

第一电极；

在所述第一电极对面的第二电极；和

在所述第一电极和所述第二电极之间的有机层，所述有机层包含如权利要求1-17中任一项所述的有机金属化合物。

19.如权利要求18所述的有机发光装置，其中，所述有机层包含选自空穴注入层、空穴传输层、同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层、缓冲层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层及同时具有电子注入和电子传输能力的功能层的组中的至少一层。

20.如权利要求18所述的有机发光装置，其中：

所述有机层包含发光层；

所述有机金属化合物在所述发光层中；并且

基于磷光机制，光从所述发光层中发出。

21.如权利要求20所述的有机发光装置，其中：

所述发光层中的所述有机金属化合物用作掺杂剂；并且

所述发光层包含作为主体的咔唑类化合物。

22.如权利要求21所述的有机发光装置，其中：

所述咔唑类化合物由化学式10表示：

<化学式10>

其中，化学式10中：

Ar₁选自取代或未取代的C₁至C₆₀亚烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀亚烯基、-C(＝O)-、-N(R₁₀₀)-、取代或未取代的C₆至C₆₀亚芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀亚杂芳基的组；

R₁₀₀选自取代或未取代的C₆至C₆₀芳基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；

p为0至10的整数；

R₉₁至R₉₆各自独立地选自氢原子、氘原子、卤素原子、羟基、氰基、硝基、氨基、脒基、肼、腙、羧基或其盐、磺酸基或其盐、磷酸基或其盐、取代或未取代的C₁至C₆₀烷基、取代或未取代的C₂至C₆₀烯基、取代或未取代的C₂至C₆₀炔基、取代或未取代的C₁至C₆₀烷氧基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀环烯基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烷基、取代或未取代的C₃至C₁₀杂环烯基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳氧基、取代或未取代的C₆至C₆₀芳硫基和取代或未取代的C₂至C₆₀杂芳基的组；

R₉₁至R₉₆的两个相邻取代基可选地连接到一起以形成选自取代或未取代的C₄至C₂₀脂环基、取代或未取代的C₂至C₂₀杂脂环基、取代或未取代的C₆至C₂₀芳香环和取代或未取代的C₂至C₂₀杂芳香环的组中的一种；并且

q、r、s、t、u和v各自独立地为1至4的整数。

23.如权利要求21所述的有机发光装置，其中，所述咔唑类化合物为选自化合物H1至H30的组中的一个：

24.如权利要求18所述的有机发光装置，其中：

所述有机层包含选自空穴注入层、空穴传输层及同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层的组中的至少一层；并且

所述空穴注入层、所述空穴传输层及所述同时具有空穴注入和空穴传输能力的功能层的至少一层包含电荷生成材料。

25.如权利要求19所述的有机发光装置，其中，所述有机层包含电子传输层，并且所述电子传输层包含含有金属的材料。