CN103599387A - 一种石斛保健含片加工方法 - Google Patents

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Abstract

一种石斛保健含片加工方法涉及石斛药品技术领域，其特征在于：依次包括下列步骤：（1）将石斛洗净，并通过风干的方式进行干燥，直至石斛所含的水分在6％以下；（2）使用普通的粉碎机进行粉碎成粗粉，再利用贝利粉碎机在30～50℃温度下粉碎再利用贝利粉碎机在10～20分钟，得到粒径为1～50μm的粉粒；（3）加入辅料并混合均匀；（4）挤压通过16目筛，并在60℃下进行干燥；（5）通过20～60目筛进行整理，并加入0.2％硬脂酸镁混合均匀，压片成型。本发明简单方便，便于大量生产，生产方便，便于食用，保健效果好。

Description

一种石斛保健含片加工方法
技术领域：
本发明涉及石斛药品技术领域，具体是一种石斛保健含片加工方法。
背景技术：
石斛，兰科植物之一，主要分布于亚洲热带和亚热带，澳大利亚和太平洋岛屿，我国大部分分布于西南、华南、台湾等地。石斛兰的主要品种有金钗石斛、密花石斛、鼓槌石斛等。可入药，名为石斛，对人体有驱解虚热，益精强阴等疗效。具有很好的保健作用。现有技术中，石斛都是作为中药的配方，用于治疗疾病，需要熬制，饮用很不方便，而且现有技术中没有单独用于保健作用的石斛药品。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题在于提供一种生产方便，便于食用的石斛保健含片加工方法。
为实现本发明目的，技术方案通过如下方式实现：
一种石斛保健含片加工方法，其特征在于：依次包括下列步骤：
（1）将石斛洗净，并通过风干的方式进行干燥，直至石斛所含的水分在6％以下；
（2）使用普通的粉碎机进行粉碎成粗粉，再利用贝利粉碎机在30～50℃温度下粉碎再利用贝利粉碎机在10～20分钟，得到粒径为1～50μm的粉粒；
（3）加入辅料并混合均匀；
（4）挤压通过16目筛，并在60℃下进行干燥。
（5）通过20～60目筛进行整理，并加入0.2％硬脂酸镁混合均匀，压片成型；
所述的辅料为重量份分别为50的奶粉、50的可溶性淀粉、7的白砂糖。
本发明的有益效果是：本发明简单方便，便于大量生产，生产方便，便于食用，保健效果好。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实例，进一步阐述本发明。
实施例一
一种石斛保健含片加工方法，依次包括下列步骤：
（1）将石斛洗净，并通过风干的方式进行干燥，直至石斛所含的水分在6％以下；
（2）使用普通的粉碎机进行粉碎成粗粉，再利用贝利粉碎机在40℃温度下粉碎再利用贝利粉碎机在15分钟，得到粒径为20μm的粉粒；
（3）加入辅料并混合均匀；
（4）挤压通过16目筛，并在60℃下进行干燥。
（5）通过400目筛进行整理，并加入0.2％硬脂酸镁混合均匀，压片成型；
辅料为重量份分别为50的奶粉、50的可溶性淀粉、7的白砂糖。
实施例二
一种石斛保健含片加工方法，依次包括下列步骤：
（1）将石斛洗净，并通过风干的方式进行干燥，直至石斛所含的水分在6％以下；
（2）使用普通的粉碎机进行粉碎成粗粉，再利用贝利粉碎机在40℃温度下粉碎再利用贝利粉碎机在20分钟，得到粒径为25μm的粉粒；
（3）加入辅料并混合均匀；
（4）挤压通过16目筛，并在60℃下进行干燥。
（5）通过400目筛进行整理，并加入0.2％硬脂酸镁混合均匀，压片成型；
辅料为重量份分别为50的奶粉、50的可溶性淀粉、7的白砂糖。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (2)

1.一种石斛保健含片加工方法，其特征在于：依次包括下列步骤：
（1）将石斛洗净，并通过风干的方式进行干燥，直至石斛所含的水分在6％以下；
（2）使用普通的粉碎机进行粉碎成粗粉，再利用贝利粉碎机在30～50℃温度下粉碎再利用贝利粉碎机在10～20分钟，得到粒径为1～50μm的粉粒；
（3）加入辅料并混合均匀；
（4）挤压通过16目筛，并在60℃下进行干燥；
（5）通过20～60目筛进行整理，并加入0.2％硬脂酸镁混合均匀，压片成型。
2.根据权利要求1所述的一种石斛保健含片加工方法，其特征在于：所述的辅料为重量份分别为50的奶粉、50的可溶性淀粉、7的白砂糖。
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PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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