CN103569699B - 基板传送装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种基板传送装置，适用于传输一基板。基板传送装置包含一载具、一驱动装置、一滑轨组与一滑块组。载具用于承载基板。驱动装置提供传输基板所需的动力。滑轨组与滑块组设置于载具与驱动装置之间。滑轨组与滑块组可相对移动。滑轨组具有一第一滑轨与一第二滑轨。定义滑轨组的一第一区段及一第二区段。当基板位于滑轨组的第一区段时，则基板宽度为一第一宽度。当基板位于滑轨组的第二区段时，则基板宽度为一第二宽度。其中第一宽度不同于第二宽度。当基板在滑轨组的第一区段与第二区段之间移动时，基板的表面张力被改变。
Description
技术领域
本发明涉及一种基板传送装置，尤指一种可在基板输送过程中基板表面均匀进行化学反应的装置。
背景技术
薄膜材料特性受到制程影响极大。为大幅度改变薄膜材料在平衡状态下的成分与结构而产生新的特性，故现今在薄膜材料的制程中薄膜材料大多处于不平衡状态。而化学浴沉积(Chemical Bath Deposition，CBD)制程为其中一种薄膜材料制程。
现有的化学浴沉积制程为沉积技术之一。现有的化学浴沉积制程为表面预作处理的一基板(例如不锈钢板等)浸入化学药液中持续一定时间，用于在该基材表面沉积后形成半导体薄膜。其中一种现有的化学浴沉积制程是在基板输送的过程中进行。现有基板传送装置依靠滚轮提供传动力以驱动基板行进。在滚轮输送基板时，偶尔出现基板歪斜地沿输送方向移动，甚至基板的某部份脱离基板传送装置的输送滑轨。如此便造成基板输送问题。
此外，现有基板传送装置的滚轮直接推动基板以驱动基板行进。在滚轮直接地接触与推动基板时，基板将直接受到滚轮的施压。如此，基板上与滚轮接触的部份以及基板上未与滚轮接触的其余部份之间将出现压力不均的情况。而上述基板的压力不均情况将导致基板表面不均匀地进行化学反应，例如进行化学浴沉积制程时沉积不均。故压力不均的基板经过化学反应后基板表面的结构不均匀。例如，压力不均的基板经过化学浴沉积制程后，基板上沉积的半导体薄膜厚度不均。
发明内容
有鉴于现有技术的缺失，本发明提出一种基板传送装置，可在基板输送过程中基板表面均匀进行化学反应。
于一实施例中，本发明提出一种基板传送装置，适用于传输一基板，该基板传送装置包含：
一载具，该载具用于承载该基板；
一驱动装置，该驱动装置提供传输该基板所需的动力；
一滑轨组与一滑块组，该滑轨组与该滑块组设置于该载具与该驱动装置之间，且该滑轨组与该滑块组可相对移动，该滑轨组具有一第一滑轨与一第二滑轨，定义该滑轨组的一第一区段为该第一滑轨与该第二滑轨之间相隔一第一距离的区段，定义该滑轨组的一第二区段为该第一滑轨与该第二滑轨之间相隔一第二距离的区段，该第一距离与该第二距离不同；该第一滑轨位于一第一水平高度，该第二滑轨位于一第二水平高度，该基板位于一第三水平高度，该第一水平高度与该第二水平高度均高于该第三水平高度；
其中，该驱动装置凭借该滑轨组与该滑块组而驱动该载具与该基板沿该输送方向移动；当该基板位于该滑轨组的该第一区段时，则该基板宽度为一第一宽度；当该基板位于该滑轨组的该第二区段时，则该基板宽度为一第二宽度，其中该第一宽度不同于该第二宽度；当该基板在该滑轨组的该第一区段与该第二区段之间移动时，该基板的表面张力被改变。
在较佳的技术方案中：
该载具包括一第一夹具组与一第二夹具组，该第一夹具组与该第二夹具组分别夹持该基板的两相对侧边。
该第一滑轨与该第二滑轨略呈平行。
该滑块组包括复数第一滑块与复数第二滑块。
于另一实施例中，本发明提出一种基板传送装置，适用于传输一基板，该基板传送装置包含：
一载具，具有一药液盖与一固定机构，该载具用于承载该基板，该药液盖盖合该基板以使该药液盖与该基板的表面形成一封闭空间，该固定机构用于使该药液盖与该基板紧密结合；
一驱动装置，该驱动装置提供传输该基板所需的动力；
一滑轨组与一滑块组，该滑轨组与该滑块组设置于该载具与该驱动装置之间，且该滑轨组与该滑块组可相对移动，该滑块组具有一第一滑块与一第二滑块，该第一滑块与该第二滑块分别设置于该载具的相对两侧边，该滑轨组具有一第一滑轨与一第二滑轨，该第一滑轨与该第二滑轨分别设于一输送方向的相对两侧，且该第一滑轨与该第二滑轨分别地接触该第一滑块与该第二滑块；
其中，该驱动装置凭借该第一滑轨与该第二滑轨分别地推动该第一滑块与该第二滑块，用于使该载具与该基板沿该输送方向移动。
在较佳的技术方案中：
该第一滑轨包括复数第一滑轮，该第二滑轨包括复数第二滑轮。
该第一滑块与该第二滑块设置于该药液盖上。
该第一滑块与该第二滑块设置于该固定机构上。
该固定机构为一夹具。
该滑轨组与该滑块组之间设有一限位结构，用于限制该载具与该基板于该第一滑轨与该第二滑轨之间输送。
该限位结构包含一凹槽及一凸块，该凹槽设于该滑轨组上，该凸块设于该滑块组上。
与现有技术相比较，本发明具有的有益效果是：使得基板的运送过程保持顺畅、平稳，可在基板输送过程中基板表面均匀进行化学反应。
附图说明
图1为本发明第一实施例的结构示意图；
图2为图1的A-A剖面结构示意图；
图3及图4为图1实施例的作动示意图；
图5为本发明第二实施例的结构示意图；
图6及图7为图5实施例的作动示意图；
图8为本发明第三实施例的立体分解示意图；
图9为图8实施例的俯视结构示意图；
图10为图9的B-B剖面的放大结构示意图；
图11为本发明第四实施例的其中一半侧结构示意图；
图12为本发明第五实施例的剖面示意图；
图13为本发明第六实施例的剖面示意图。
附图标记说明：100、100A-基板传送装置；10-滑轨组；11-第一滑轨；111-第一段滑轨；112-第二段滑轨；113-第一缓冲段滑轨；12-第二滑轨；121-第三段滑轨；122-第四段滑轨；123-第二缓冲段滑轨；20-滑块组；21-第一滑块；211-第一夹具；221-第二夹具；22-第二滑块；30-基板；31-第一侧边；32-第二侧边；40-滑轨组；41-第一滑轨；411-第五段滑轨；412-第六段滑轨；413-第三缓冲段滑轨；42-第二滑轨；50-滑块组；51-第一滑块；511-第一夹具；52-第二滑块；521-第二夹具；600-基板传送装置；60、60A、60B-载具；61、61A、61B-第一滑块；611A、611B-凸块；62-第二滑块；63-药液盖；64-固定机构；70-第一滑轨；71、71A、71B-第一滑轮；711-第一限位结构；711A、711B-凹槽；80-第二滑轨；81-第二滑轮；811-第二限位结构；D1-第一距离；D2-第二距离；F1-输送方向；H1-第一水平高度；H2-第二水平高度；H3-第三水平高度；L1-第一区段；L2-第二区段；W1-第一宽度；W2-第二宽度。
具体实施方式
以下将参照随附的图式来描述本发明为达成目的所使用的技术手段与功效，而以下图式所列举的实施例仅为辅助说明，以利贵审查员了解，但本案的技术手段并不限于所列举图式。
请参阅图1及图2所示本发明第一实施例的结构。图1为本发明第一实施例的结构示意图。图2为图1的A-A剖面结构示意图。基板传送装置100包含一载具、一驱动装置(图中未示出)、一滑轨组10与一滑块组20。载具包括由第一夹具211构成的第一夹具组，以及由第二夹具221构成的第二夹具组。载具用于承载一基板30。驱动装置提供传输基板30所需的动力。滑轨组10包括一第一滑轨11与一第二滑轨12。第一滑轨11与第二滑轨12为对称设置。第一滑轨11与第二滑轨12略呈平行。滑轨组10与滑块组20设置于载具与驱动装置之间。滑轨组10与滑块组20可相对移动。
第一滑轨11具有一第一段滑轨111以及一第二段滑轨112。于第一段滑轨111与第二段滑轨112之间具有一第一缓冲段滑轨113。第二滑轨12具有一第三段滑轨121以及一第四段滑轨122。于第三段滑轨121与第四段滑轨122之间具有一第二缓冲段滑轨123。第一段滑轨111、第二段滑轨112、第三段滑轨121与第四段滑轨122的长度延伸方向平行于一输送方向F1。第一段滑轨111与第三段滑轨121相互平行，第二段滑轨112与第四段滑轨122相互平行。定义滑轨组的一第一区段L1为第一滑轨11与第二滑轨12之间相隔一第一距离D1的区段，第一区段L1位于第一段滑轨111与第三段滑轨121之间。定义滑轨组的一第二区段L2为第一滑轨11与第二滑轨12之间相隔一第二距离D2的区段。第二区段L2位于第二段滑轨112与第四段滑轨122之间。第一距离D1与第二距离D2不同。本实施例的第二距离D2大于第一距离D1。
关于第一缓冲段滑轨113与第二缓冲段滑轨123的长度没有一定限制，其作用在于提供第一段滑轨111与第二段滑轨112、第三段滑轨121与第四段滑轨122的连接较为平缓与顺畅。
滑块组20包括复数第一滑块21及复数第二滑块22。本实施例的第一滑块21及第二滑块22为滑轮形式。第一滑块21设置于第一滑轨11内。每一第一滑块21具有一第一夹具211。该复数第一夹具211构成一第一夹具组。第二滑块22设置于第二滑轨12内。每一第二滑块22具有一第二夹具221。该复数第一夹具211构成一第一夹具组。第一夹具211夹设于基板30的第一侧边31。第二夹具221夹设于基板30的第二侧边32。第一侧边31与第二侧边32为基板30相对的二侧边。基板30为一薄片形且具有弹性的材料。
请参阅图2所示。图2为图1的A-A剖面结构示意图。第一滑轨11位于一第一水平高度H1。第二滑轨12位于一第二水平高度H2。基板30凭借第一夹具211与第二夹具221夹持位于一第三水平高度H3。第一水平高度H1与第二水平高度H2均高于第三水平高度H3。也即第一滑轨11、第二滑轨12以及第一滑块21、第二滑块22的水平高度高于基板30。通常，第一水平高度H1与第二水平高度H2相同。等第一夹具211与等第二夹具221夹持基板30于第三水平高度H3移动。
请参阅图1、图3及图4所示，图3及图4为图1实施例的作动示意图。滑块组20可被驱动装置驱动移动。由驱动装置提供传输基板30所需的动力。使第一滑块21与第二滑块22分别于第一滑轨11与第二滑轨12内滑行，同时第一夹具211与第二夹具221可夹持基板30移动，且基板30由滑轨组10具有第一段滑轨111以及第三段滑轨121的一端，朝向滑轨组10具有第二段滑轨112以及第四段滑轨122的一端移动，也即图示输送方向F1。
请参阅图1所示，当所有第一滑块21都位于第一段滑轨111，以及所有第二滑块22都位于第三段滑轨121。也即当基板30位于滑轨组的第一区段L1。基板30的第一侧边31、第二侧边32凭借第一夹具211、第二夹具221的夹持。基板30宽度为第一宽度W1。
请参阅图3所示，当滑块组20继续沿着输送方向F1移动，部分第一滑块21、第二滑块22可位于第一段滑轨111、第三段滑轨121，部分第一滑块21、第二滑块22可位于第一缓冲段滑轨113、第二缓冲段滑轨123，部分第一滑块21、第二滑块22则位于第二段滑轨112、第四段滑轨122，由于第二段滑轨112与第四段滑轨122间的第二距离D2大于第一段滑轨111与第三段滑轨121间的第一距离D1，对于位于第二段滑轨112、第四段滑轨122的第一滑块21、第二滑块22形成一外扩的行走路径，使得第一夹具211、第二夹具221对于基板30的第一侧边31、第二侧边32的拉力增加，使得基板30的宽度加大为一第二宽度W2。
请参阅图4所示，当所有第一滑块21都位于第二段滑轨112，所有第二滑块22都位于第四段滑轨122。也即当基板30位于滑轨组的第二区段L2。基板30的第一侧边31、第二侧边32凭借第一夹具211、第二夹具221的夹持。基板30宽度为第二宽度W2。第二宽度W2大于图1所示第一宽度W1。此时第一夹具211与第二夹具221对于基板30的第一侧边31、第二侧边32的拉力较大。因此可以提供基板30对称的张力，可以使基板30于输送过程中保持平整度。若是第二距离D2与第一距离D1的差距加大。对于基板30的第一侧边31、第二侧边32的拉力也会加大。可依实际需要而设计第一滑轨11与第二滑轨12的路径。使兼顾提供基板30足够张力且不会伤害基板30为原则。换言之，当基板30在滑轨组的第一区段L1与第二区段L2之间移动。基板30的表面张力被改变。
此外，请参阅图2所示，第一滑轨11与第二滑轨12的第一水平高度H1、第二水平高度H2高于基板30的第三水平高度H3，当基板30所进行的加工制程具有腐蚀性化学物质时，由于基板30处一水平位置较低的作业平面，因此第一滑块21与第二滑块22可以避开腐蚀性的化学物质，因此可以避免第一滑块21、第二滑块22、第一滑轨11与第二滑轨12遭受腐蚀性物质侵蚀而损坏的情况，使得基板30的运送过程保持顺畅、平稳。
请参阅图5所示本发明第二实施例的结构，基板传送装置100A包含一滑轨组40以及一滑块组50，滑轨组40包括一第一滑轨41以及一第二滑轨42，滑块组50包括复数第一滑块51以及复数第二滑块52，复数第一滑块51设置于第一滑轨41内，复数第二滑块52设置于第二滑轨42内，每一第一滑块51具有一第一夹具511，每一第二滑块52具有一第二夹具521，等第一夹具511及第二夹具521分别夹设于一基板30相对的第一侧边31与第二侧边32。
本实施例与图1实施例的差异在于，第二滑轨42为一直线型滑轨，第一滑轨41具有一第五段滑轨411以及一第六段滑轨412，于第五段滑轨411与第六段滑轨412之间具有一第三缓冲段滑轨413。第一滑轨41、第五段滑轨411与第六段滑轨412的长度延伸方向平行于输送方向F1，第五段滑轨411与第二滑轨42之间具有一第一距离D1，第六段滑轨412与第二滑轨42之间具有一第二距离D2，第二距离D2大于第一距离D1。
请参阅图5至图7所示，滑块组50可被一驱动装置(图中未示出)驱动移动，使第一滑块51与第二滑块52分别于第一滑轨41与第二滑轨42内滑行，同时第一夹具511与第二夹具521可夹持基板30移动，且基板30由滑轨组40具有第五段滑轨411的一端，朝向滑轨组40具有第六段滑轨412的一端移动，也即图示输送方向F1。
请参阅图5所示。图5为本发明第二实施例的结构示意图。所有第二滑块52位于第二滑轨42，当所有第一滑块41都位于第五段滑轨41时，基板30的第一侧边31、第二侧边32凭借第一夹具511、第二夹具521的夹持，使基板30具有一第一宽度W1。
请参阅图6所示。图6及图7为图5实施例的作动示意图。当滑块组50继续沿着输送方向F1移动，所有第二滑块52位于第二滑轨42，部分第一滑块51可位于第五段滑轨411，部分第一滑块51可位于第三缓冲段滑轨413，部分第一滑块51则位于第六段滑轨412，由于第六段滑轨412与第二滑轨42间的第二距离D2大于第五段滑轨411与第二滑轨42间的第一距离D1，使得第一夹具511、第二夹具521对于基板30的第一侧边31、第二侧边32的拉力增加，使得基板30的宽度加大为一第二宽度W2。
请参阅图7所示，图7为图5实施例的作动示意图。所有第二滑块52位于第二滑轨42，当所有第一滑块51都位于第六段滑轨412时，基板30的第一侧边31、第二侧边32凭借第一夹具511、第二夹具521的夹持，使基板30具有一第二宽度W2，第二宽度W2大于图5所示第一宽度W1，此时第一夹具511与第二夹具521对于基板30的第一侧边31、第二侧边32的拉力较大，因此可以提供基板30一张力，使基板30于输送过程中保持平整度。
以上实施例所提供的基板传送装置，其特征在于利用滑轨间距的差异，控制基板具有不同宽度，使基板维持一预设张力，使基板于输送过程中可保持平整度，由图1及图5实施例可知，本发明的外扩型滑轨，可对称设置，也可单边设置。此外，本发明的滑块与滑轨的水平高度高于基板的工作高度，因此可以保护滑块与滑轨不受腐蚀性化学物质侵蚀，使输送基板的过程保持顺畅平稳。
此外，本文所述的基板可为基板材料、柔性电路板(flexible printed circuit)可延展材料、或现有具有弹性的材料等。也即此等基板可为任何现有于高科技产业的弹性或可挠曲材料。
请参阅图8、图9及图10所示本发明第三实施例。图8、图9及图10分别为本发明第三实施例的立体分解示意图、第三实施例的俯视结构示意图及图9的B-B剖面的放大结构示意图。基板传送装置600适用于传输一基板30。基板30可为弹性较高的挠性基板(如柔性电路板)或弹性较低的硬性基板(如太阳能基板或钢板)。在本实施例中，基板30为硬性基板。基板传送装置600包含一载具60、一滑轨组及一滑块组。滑块组包括复数第一滑块61及复数第二滑块62。载具60用于承载基板30。第一滑块61与第二滑块62分别位于载具60的相对两侧边。该滑轨组包括一第一滑轨70以及一第二滑轨80。第一滑轨70与第二滑轨80连接于一驱动装置(图中未示出)。该驱动装置可为马达。由驱动装置提供传输基板30所需的动力。第一滑轨70与第二滑轨80，以及第一滑块61与第二滑块62设置于载具60与驱动装置之间。第一滑轨70以及第二滑轨80沿一输送方向F1排列。第一滑轨70与第二滑轨80分别设置于一输送方向F1的相对两侧。第一滑轨70与第二滑轨80分别地接触与推动第一滑块61与第二滑块62。其中第一滑轨70与第二滑轨80与基板30不相接。驱动装置凭借第一滑轨70与第二滑轨80分别地接触与推动第一滑块61与第二滑块62，使载具60与基板30沿输送方向F1移动。第一滑轨70、第二滑轨80所构成的滑轨组，与第一滑块61及第二滑块62所构成的滑块组可相对移动。
在本实施例中，载具60与基板30沿输送方向F1移动时，基板进行化学反应，例如化学浴沉积(Chemical Bath Deposition，CBD)。载具60包含一药液盖63与一固定机构64。药液盖63盖合基板30以使药液盖63与基板30的表面形成一封闭空间。固定机构64用于使药液盖63与基板30紧密结合。在药液盖63与基板30紧密结合后，在上述封闭空间中注入化学材料，例如化学浴沉积所需的化学药液。本实施中，第一滑块61与第二滑块62设置于固定机构64上，固定机构64为一夹具。
于另一实施例中，第一滑块61与第二滑块62设置于药液盖63上。
请参阅图10所示。第一滑轨70包含复数第一滑轮71。第一滑轮71与第一滑块61之间设有一第一限位结构711。第一限位结构711设置于每一第一滑轮71上，用于接触第一滑块61。第二滑轨80包含复数第二滑轮81。第二滑轮81与第二滑块62之间设有一第二限位结构811。第二限位结构811设置于每一第二滑轮81上，用于接触第二滑块62。于本实施例中，第一限位结构711与第二限位结构811分别设置于第一滑轮71及第二滑轮81外围的凸缘。凭借第一限位结构711与第二限位结构811，载具60与基板30限制于第一滑轨70与第二滑轨80之间输送。
请参阅图11所示。图11为本发明第四实施例的其中一半侧结构示意图。图11仅显示本实施例的其中一半侧结构，与其相对称的另一半侧结构则予以省略。本实施例的限位结构包含一凹槽711A及一凸块611A。凹槽711A设于第一滑轮71A上。凸块611A设于第一滑块61A上。上述凹槽711A及凸块611A对称设置，如此限制载具60A与基板30的输送路径。
特别说明，若第三、第四实施例的化学反应为化学浴沉积，基板30进行化学浴沉积后基板30表面形成厚度较均匀的半导体薄膜。
综上所述，第三、第四实施例凭借载具60上第一滑块61与第二滑块62被滑轨组接触与推动，基板30在输送过程中未直接接触滑轨组。故基板传送装置600可避免基板上压力不均与基板不均匀地进行化学反应的情况。此外，限位结构限制载具60与基板30于第一滑轨70与第二滑轨80之间输送。故基板传送装置600可避免基板歪斜地沿输送方向移动或基板的某部份脱离基板传送装置的输送滑轨。
请参阅图12。图12为本发明第五实施例的剖面示意图。本实施例与前述实施例的主要差异包含基板30为挠性基板，基板30表面直接与一化学材料(图中未示)进行化学反应，且本实施例中无需药液盖63。固定机构64用于使载具60与基板30紧密结合。当载具60与基板30沿输送方向F1移动时，化学材料直接在基板30的表面进行化学反应。因此，本实施例中无需前述实施例的药液盖63。上述化学反应可为蚀刻(etching)或涂布(coating)，例如化学浴沉积(ChemicalBath Deposition，CBD)。
请参阅图13所示。图13为本发明第五实施例的剖面示意图。本实施例的限位结构比照第四实施例而具有一凹槽711B及一凸块611B。另外，本实施例比照第五实施例而无需药液盖63且基板30为挠性基板。凹槽711B设于第一滑轮71B上。凸块611B设于第一滑块61B上。上述凹槽711B及凸块611B对称设置，如此限制载具60B与基板30的输送路径。
其中第五、第六实施例的固定机构64为一锁件。
此外，为使第五、第六实施例的基板30(意即挠性基板)表面能均匀地进行化学反应，基板30表面较佳到达一预设张力值。为使基板30表面到达上述预设张力值，当载具60与基板30沿输送方向F1移动时，第一滑轨70与第二滑轨80分别在输送方向F1的相对两侧提供拉力。例如，在第五或第六实施例中采用第一实施例或第二实施例中滑轨组设计(不同区段的滑轨间距不同)，使第一滑轨70与第二滑轨80的间距沿输送方向F1而增加。同时，当载具60与基板30沿输送方向F1移动时，第一滑轨70与第二滑轨80的间距增加则对基板30提供分别朝向第一滑轨70与第二滑轨80的两相对拉力。
相较于前述的实施例，第五、第六实施例除了限制载具60与基板30于第一滑轨70与第二滑轨80之间输送以及避免基板30不均匀地进行化学反应外，更可应用在挠性基板的化学制程中。另外，凭借第一滑轨70与第二滑轨80分别在输送方向F1的相对两侧提供拉力，使第五、第六实施例的挠性基板30表面能均匀地进行化学反应。
以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可作出许多修改、变化或等效，但都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种基板传送装置，适用于传输一基板，其特征在于，该基板传送装置包含：
一载具，具有一药液盖与一固定机构，该载具用于承载该基板，该药液盖盖合该基板以使该药液盖与该基板的表面形成一封闭空间，该固定机构用于使该药液盖与该基板紧密结合；
一驱动装置，该驱动装置提供传输该基板所需的动力；
一滑轨组与一滑块组，该滑轨组与该滑块组设置于该载具与该驱动装置之间，且该滑轨组与该滑块组能够相对移动，该滑块组具有一第一滑块与一第二滑块，该第一滑块与该第二滑块分别设置于该载具的相对两侧边，该滑轨组具有一第一滑轨与一第二滑轨，该第一滑轨与该第二滑轨分别设于一输送方向的相对两侧，且该第一滑轨与该第二滑轨分别地接触该第一滑块与该第二滑块；
其中，该驱动装置凭借该第一滑轨与该第二滑轨分别地推动该第一滑块与该第二滑块，用于使该载具与该基板沿该输送方向移动。
2.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于：该第一滑轨包括复数第一滑轮，该第二滑轨包括复数第二滑轮。
3.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于：该第一滑块与该第二滑块设置于该药液盖上。
4.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于：该第一滑块与该第二滑块设置于该固定机构上。
5.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于：该固定机构为一夹具。
6.根据权利要求1所述的基板传送装置，其特征在于：该滑轨组与该滑块组之间设有一限位结构，用于限制该载具与该基板于该第一滑轨与该第二滑轨之间输送。
7.根据权利要求6所述的基板传送装置，其特征在于：该限位结构包含一凹槽及一凸块，该凹槽设于该滑轨组上，该凸块设于该滑块组上。
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