CN103568384A - 保护盖及其加工方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种保护盖，其包括一基板、一图案层及一防污层。所述基板采用蓝宝石制成。所述图案层是通过对涂覆于所述基板的一侧的部分陶瓷粉体采用激光扫描烧结后并去除未被激光扫描的陶瓷粉体而成，其用于遮挡部分光线。所述防污层镀设于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面。本发明提供的保护盖采用蓝宝石作基板，提高了保护盖的硬度、杨氏模量、耐化学性及耐候性。本发明还提供一种保护盖加工方法。

Description

保护盖及其加工方法
技术领域
本发明涉及一种保护盖及其加工方法。
背景技术
保护盖被广泛的应用在镜头、汽车及电脑等装置上。传统的保护盖一般采用塑料或者玻璃制成，而这种保护盖的强度、硬度及耐候性都很差，从而导致在发生高强度碰撞或者处在恶劣环境时，该保护盖并不能对镜头、汽车及电脑等装置起到有效的保护。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种具有较高保护效果的保护盖及其加工方法。
一种保护盖，其包括一基板、一图案层及一防污层。所述基板采用蓝宝石制成。所述图案层是通过对涂覆于所述基板的一侧的部分陶瓷粉体采用激光扫描烧结后并去除未被激光扫描的陶瓷粉体而成，其用于遮挡部分光线。所述防污层镀设于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面。
一种保护盖加工方法，其包括以下步骤：
提供一蓝宝石基板；
在所述基板的一侧涂覆陶瓷粉体；
使用激光对部分所述陶瓷粉体扫描烧结后去除未被激光扫描的陶瓷粉体以形成一图案层；
于上述图案层相对于所述基板所在的另一侧上镀设一防污层，所述防污层包覆于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面。
本发明提供的保护盖采用蓝宝石作基板，提高了保护盖的硬度、杨氏模量、耐化学性及耐候性；另外，在蓝宝石基板表面形成图案层的过程使用激光对所述陶瓷粉体进行快速扫描烧结，有效的防止在陶瓷粉体未完全干燥之前就镀设所述防污层，使得所述防污层能较好的附着于所述图案层上，提高了所述保护盖的质量。
附图说明
图1是本发明实施方式提供的保护盖的结构模块示意图。
图2是加工图1中提供的保护盖的保护盖加工方法的流程图。
主要元件符号说明
保护盖 100
基板 10
上表面 11
下表面 12
图案层 20
防污层 30
抗紫外线膜 40
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
如图1所示，为本发明实施方式提供的一保护盖100，其可应用在镜头、汽车及电脑等装置上。所述保护盖100包括一基板10、一图案层20、一防污层30及一抗紫外线膜40。本实施方式中，所述保护盖100罩设在所述镜头（图未示）上。
所述基板10呈平板状，其采用蓝宝石材料制成。所述蓝宝石属于刚玉族矿物，三方晶系，具有六方结构。所述蓝宝石的主要化学成分为三氧化二铝（Al2O3），其折射率为1.760-1.757，该蓝宝石的结晶方向为a轴（11                                               
Figure 2012102838245100002DEST_PATH_IMAGE001
0），c轴（0001），m轴（10
Figure 2012102838245100002DEST_PATH_IMAGE002
0）。所述蓝宝石的硬度、杨氏模量、耐化学性及耐候性都明显高于普通素玻璃和塑料。所述蓝宝石的熔点为2050℃。所述基板10包括一上表面11及与所述上表面11相对的下表面12。
所述图案层20设置在所述基板10的一侧，其用于遮挡部分光线，使得使用者不能直接观察到镜头的内部结构。本实施方式中，所述图案层20设置在所述上表面11。所述图案层20是通过在所述基板10的上表面11涂覆一层陶瓷粉体，然后使用激光对部分所述陶瓷粉体进行扫描烧结并去除未被激光扫描的陶瓷粉体，烧结后的陶瓷粉体附着在所述基板10上形成所述图案层20。本实施方式中，对所述陶瓷粉体进行烧结的温度大约为1500℃-1800℃，所述陶瓷粉体的主要成分是磷酸铝和二氧化硅。
所述防污层30镀设在所述图案层20相对于所述基板10所在的另一侧。所述防污层30的主要成分为金属纳米薄膜。所述防污层30的形成过程包括以下步骤：通过镀膜技术在图案层20上沉积一层厚度均匀的金属薄膜；采用快速热处理方法将金属薄膜由连续状态转变为微纳米颗粒结构；通过含氟的有机物对微纳米颗粒结构的表面进行化学修饰。
所述抗紫外线膜40镀设在所述基板10的下表面12，其用于滤除光线中的紫外线。
如图2所示，为本发明实施方式提供的一保护盖加工方法，其包括以下步骤：
S101：提供一蓝宝石基板10，所述蓝宝石的硬度、杨氏模量、耐化学性及耐候性都明显高于普通素玻璃和塑料；
S102：在所述基板10的一侧涂覆陶瓷粉体，所述陶瓷粉体的主要成分是磷酸铝和二氧化硅；
S103：使用激光对部分所述陶瓷粉体扫描烧结后去除未被激光扫描的陶瓷粉体以形成一图案层20；本实施方式中，对所述陶瓷粉体进行烧结的温度大约为1500℃-1800℃；
S104：于上述图案层相对于所述基板所在的另一侧上镀设一防污层，所述防污层包覆于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面；所述防污层30的形成过程包括以下步骤：通过镀膜技术在图案层20上沉积一层厚度均匀的金属薄膜；采用快速热处理方法将金属薄膜由连续状态转变为微纳米颗粒结构；通过含氟的有机物对微纳米颗粒结构的表面进行化学修饰；使用激光对部分所述陶瓷粉体扫描烧结，待所述扫描后的陶瓷粉体烧结后去除未被激光扫描的陶瓷粉体以形成一图案层；
S105：镀设一抗紫外线膜40于所述基板10相对于所述图案层20所在的另一侧；
S106：对所述基板10进行激光切割。
本发明提供的保护盖采用蓝宝石作基板，提高了保护盖的硬度、杨氏模量、耐化学性及耐候性；另外，在蓝宝石基板表面形成图案层的过程使用激光对所述陶瓷粉体进行快速扫描烧结，有效的防止在陶瓷粉体未完全干燥之前就镀设所述防污层，使得所述防污层能较好的附着于所述图案层上，提高了所述保护盖的质量。
可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种保护盖，其包括一基板、一图案层及一防污层；所述基板采用蓝宝石制成；所述图案层是通过对涂覆于所述基板的一侧的部分陶瓷粉体采用激光扫描烧结后并去除未被激光扫描的陶瓷粉体而成，其用于遮挡部分光线；所述防污层镀设于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面。
2.如权利要求1所述的保护盖，其特征在于：所述陶瓷粉体的主要成分是磷酸铝和二氧化硅。
3.如权利要求1所述的保护盖，其特征在于：所述防污层的主要成分为金属纳米薄膜。
4.如权利要求1所述的保护盖，其特征在于：所述基板上与所述图案层所在的一侧相对的另一侧上镀设在一抗紫外线膜。
5.一种保护盖加工方法，其包括以下步骤：
提供一蓝宝石基板；
在所述基板的一侧涂覆陶瓷粉体；
使用激光对部分所述陶瓷粉体扫描烧结后去除未被激光扫描的陶瓷粉体以形成一图案层；
于上述图案层相对于所述基板所在的另一侧上镀设一防污层，所述防污层包覆于上述图案层以及上述基板未被所述图案层覆盖之表面。
6.如权利要求5所述的保护盖加工方法，其特征在于：所述陶瓷粉体的主要成分是磷酸铝和二氧化硅。
7.如权利要求5所述的保护盖加工方法，其特征在于：所述防污层的主要成分为金属纳米薄膜。
8.如权利要求7所述的保护盖加工方法，其特征在于：所述防污层的形成过程包括以下步骤：
通过镀膜技术在图案层表面沉积一层厚度均匀的金属薄膜；
采用快速热处理方法将金属薄膜由连续状态转变为微纳米颗粒结构；
通过含氟的有机物对微纳米颗粒结构的表面进行化学修饰。
9.如权利要求5所述的保护盖加工方法，其特征在于：在镀设所述防污层后，在所述基板上与所述图案层所在的一侧相对的另一侧上镀设在一抗紫外线膜。
10.如权利要求9所述的保护盖加工方法，其特征在于：在镀设所述抗紫外线膜后，对所述基板进行激光切割。
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