发明内容
技术问题:本发明的目的是提供一种核壳型红外复合材料及其制备方法,该材料的组成和结构可控,壳层内部叠层结构有序,具有较好的透光性,可用于红外低发射率材料。
技术方案:本发明的是一种核壳型红外复合材料,该材料是以红外吸收材料二氧化硅为内核,将Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片和生物大分子通过层层自组装形成壳层包覆在二氧化硅表面而成,壳层具有Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片与生物大分子有序交替组装的层结构,层数为2~30,Ni-In层状双氢氧化物的层板金属离子Ni2+与In3+的摩尔比为2:1~4:1;生物大分子为胶原、DNA、血红蛋白、肌红蛋白中的一种。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.200~0.500。
上述核壳型红外复合材料的制备方法为:
a)按NH3与H2O的摩尔比为2:1~4:1,配制总摩尔浓度为8~10mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,将该乙醇溶液加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.2:1~0.6:1,将1~1.5mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液迅速加入上述反应釜中,室温反应4~6h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤4~6次,60~80℃烘干2~4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,按Ni2+与In3+的摩尔比为2:1~4:1,将Ni2+源前体和In3+源前体加入到反应釜中,按有机酸与In的摩尔比为5:1~40:1,将3~30mol/L的有机酸水溶液加入到反应釜中,80℃~100℃反应2~6h,用2~8mol/L的无机碱水溶液调pH至9~10,60℃~100℃下晶化12~48h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得有机酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:1000~1:4000,将有机酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置24~48h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)配制pH为7~9的三羟甲基氨基甲烷-盐酸(Tris-HCl)缓冲溶液,按浓度为0.5~2mg/mL,将生物大分子溶于该缓冲溶液中,得生物大分子缓冲溶液;
d)按浓度为0.2~0.5g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌5~15min,离心,去离子水洗涤2~4次,在N2气氛下常温干燥2~10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.2~0.5g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的生物大分子缓冲溶液中,室温搅拌5~15min,离心,用步骤c)中配制的Tris-HCl缓冲溶液洗涤2~4次,在N2气氛下常温干燥2~10min,得生物大分子修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.2~0.5g/mL,将步骤e)中得到的生物大分子修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌5~15min,离心,去离子水洗涤2~4次,在N2气氛下常温干燥2~10min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和生物大分子为基元进行2~30次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料
上述制备方法步骤b)中所述的Ni2+源前体为NiO或Ni(OH)2,In3+源前体为In2O3或In(OH)3,所述的有机酸为甲酸、乙酸、丙酸、草酸、DL-乳酸、L-乳酸、苯甲酸、水杨酸、L‐(+)‐酒石酸、D‐(-)‐酒石酸、DL‐酒石酸中的一种,所述的无机碱为NaOH或KOH。
有益效果:本发明提供一种核壳型红外复合材料及其制备方法,该材料的组成和结构可调节,内部结构有序。
本发明的特点为:
(1)将元素铟引入层状双氢氧化物(LDHs)层板,充分发挥其良好的光渗透性和半导体性能,有利于降低材料的红外发射率。
(1)以金属离子源为前体,一步共沉淀法制备的有机酸根插层的层状双氢氧化物LDHs,能有效排除传统层状双氢氧化物LDHs制备方法中NO3 -、Cl-等无机阴离子的干扰。
(2)以水代替有机溶剂作为剥离溶剂,具有价廉、安全和绿色环保等优点,且剥离形成的LDHs纳米片悬浮液具有良好的稳定性。
(3)充分利用生物驻极体具有的优异的静电、铁电、压电和热释电等驻极体效应和半导体特性,以性能稳定的二氧化硅微球为内核,将生物大分子与层状双氢氧化物LDHs纳米片进行交替层层自组装包覆在二氧化硅表面,得到的核壳型红外复合材料具有透光性好、红外发射率低等特点。
具体实施方式
实施例1:
a)按NH3与H2O的摩尔比为3:1,配制25mL总摩尔浓度为8mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.5:1,将1mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液迅速加入上述反应釜中,室温反应4h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤4次,60℃烘干4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,将0.02molNiO和0.005molIn2O3加入到反应釜中,按草酸与In的摩尔比为10:1,将10mol/L草酸水溶液加入到反应釜中,95℃反应3h,用2mol/LNaOH水溶液调pH至9,70℃下晶化12h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得草酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:1000,将草酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置48h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)按浓度为0.5mg/mL,将肌红蛋白溶于pH为8.5的Tris-HCl缓冲溶液中,得肌红蛋白缓冲溶液;
d)按浓度为0.2g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.2g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的肌红蛋白缓冲溶液中,室温搅拌15min,离心,用pH为8.5的Tris-HCl缓冲溶液洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得肌红蛋白修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.2g/mL,将步骤e)中得到的肌红蛋白修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥8min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和肌红蛋白为基元进行5次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.469。
实施例2:
a)按NH3与H2O的摩尔比为3:1,配制总25mL摩尔浓度为9mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.55:1,将1mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液加入上述反应釜中,室温反应4h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤4次,60℃烘干4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,将0.03mol NiO和0.005molIn2O3加入到反应釜中,按丙酸与In的摩尔比为15:1,将15mol/L丙酸水溶液加入到反应釜中,80℃反应3h,用4mol/LNaOH水溶液调pH至9,100℃下晶化12h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得丙酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:2000,将丙酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置48h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)按浓度为1mg/mL,将血红蛋白溶于pH为8的Tris-HCl缓冲溶液中,得血红蛋白缓冲溶液;
d)按浓度为0.2g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.2g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的血红蛋白缓冲溶液中,室温搅拌15min,离心,用pH为8的Tris-HCl缓冲溶液洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得血红蛋白修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.2g/mL,将步骤e)中得到的血红蛋白修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和血红蛋白为基元进行10次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.358。
实施例3:
a)按NH3与H2O的摩尔比为2:1,配制25mL总摩尔浓度为9mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.55:1,将1mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液迅速加入上述反应釜中,室温反应4h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤4次,60℃烘干4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,将0.03molNi(OH)2和0.01molIn(OH)3加入到反应釜中,按L-乳酸与In的摩尔比为15:1,将15mol/L的L-乳酸水溶液加入到反应釜中,80℃反应3h,用4mol/LNaOH水溶液调pH至10,100℃下晶化12h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得L-乳酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:2000,将L-乳酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置24h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)按浓度为1.5mg/mL,将血红蛋白溶于pH为8的Tris-HCl缓冲溶液中,得血红蛋白缓冲溶液;
d)按浓度为0.2g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌10min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.2g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的血红蛋白缓冲溶液中,室温搅拌10min,离心,用pH为8的Tris-HCl缓冲溶液洗涤3次,在N2气氛下常温干燥10min,得血红蛋白修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.2g/mL,将步骤e)中得到的血红蛋白修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌10min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和血红蛋白为基元进行15次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.281。
实施例4:
a)按NH3与H2O的摩尔比为4:1,配制25mL总摩尔浓度为9mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.55:1,将1mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液加入上述反应釜中,室温反应4h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤6次,60℃烘干4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,将0.03molNi(OH)2和0.01molIn(OH)3加入到反应釜中,按苯甲酸与In的摩尔比为30:1,将30mol/L苯甲酸水溶液加入到反应釜中,100℃反应3h,用6mol/LNaOH水溶液调pH至10,100℃下晶化24h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得苯甲酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:2000,将苯甲酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置48h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)按浓度为2mg/mL,将DNA溶于pH为8的Tris-HCl缓冲溶液中,得DNA缓冲溶液;
d)按浓度为0.2g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.2g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的DNA缓冲溶液中,室温搅拌10min,离心,用pH为8的Tris-HCl缓冲溶液洗涤3次,在N2气氛下常温干燥10min,得DNA修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.2g/mL,将步骤e)中得到的DNA修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌10min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和DNA为基元进行20次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.367。
实施例5:
a)按NH3与H2O的摩尔比为3:1,配制30mL总摩尔浓度为10mol/L的NH3和H2O的乙醇溶液,加入反应釜中,按正硅酸四乙酯与NH3的摩尔比为0.4:1,将1.5mol/L的正硅酸四乙酯的乙醇溶液加入上述反应釜中,室温反应6h,离心,沉淀用去离子水和乙醇交替洗涤6次,80℃烘干4h,得红外吸收材料二氧化硅;
b)在N2气氛下,将0.03molNi(OH)2和0.01molIn2O3加入到反应釜中,按DL‐酒石酸与In的摩尔比为30:1,将30mol/L的DL‐酒石酸水溶液加入到反应釜中,90℃反应4h,用6mol/LKOH水溶液调pH至10,95℃下晶化40h,冷却,过滤,用去离子水洗涤至洗涤液的pH为7,得DL‐酒石酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物,按层板金属In与去离子水的摩尔比为1:3000,将DL‐酒石酸根插层的Ni-In层状双氢氧化物分散于去离子水中,得Ni-In层状双氢氧化物的悬浊液,室温下静置48h,得Ni-In层状双氢氧化物剥离纳米片水溶液;
c)按浓度为1.5mg/mL,将胶原溶于pH为8的Tris-HCl缓冲溶液中,得胶原缓冲溶液;
d)按浓度为0.2g/mL,将步骤a)中制得的二氧化硅分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌15min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅;
e)按浓度为0.5g/mL,将步骤d)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片修饰的二氧化硅分散于步骤c)中制得的胶原缓冲溶液中,室温搅拌15min,离心,用pH为8的Tris-HCl缓冲溶液洗涤3次,在N2气氛下常温干燥10min,得胶原修饰的核壳结构复合材料;
f)按浓度为0.3g/mL,将步骤e)中得到的胶原修饰的核壳结构复合材料分散于步骤b)中制得的Ni-In层状双氢氧化物纳米片水溶液中,室温搅拌10min,离心,去离子水洗涤4次,在N2气氛下常温干燥10min,得组装的核壳结构的复合材料,将该组装材料按步骤e)和步骤f)的方法,以层状双氢氧化物纳米片和胶原为基元进行30次交替层层自组装,得核壳型红外复合材料。25℃下8~14μm波段,该材料的红外发射率为0.380。