CN103510052B - 一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种支撑加热坩埚的装置，包括支撑台和防污盘，支撑台的上表面形成有许多孔洞，防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处，并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。

Description

一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备
本申请为2006年01月21日向中国知识产权局申请的申请号为200610008964.6的发明专利申请的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种支撑加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备，更具体地说，涉及一种支撑沉积设备中加热坩埚的装置，该设备可防止沉积材料附着在支撑装置的孔洞边缘，以便易于维护、管理和使用该加热坩埚，也涉及包括它的沉积设备。
背景技术
电致发光显示装置，是一种自发光型显示装置，具有视角广、对比度优异、反应速度快的优点。因此，该电致发光显示装置显著地作为下一代显示装置之一。根据发射层(EML)形成材料，该电致发光显示装置可分为无机电致发光显示装置和有机电致发光显示装置。有机电致发光显示装置具有出众的发光性、驱动电压、反应速度特性及多色性的优点。
有机电致发光显示装置包括一般的、具有中间层的有机电致发光装置，其包括至少一个在彼此相对的两个电极之间的发射层。该中间层包括多层，如空穴注入层，空穴传输层，发射层，电子传递层，或电子注入层。对于有机电致发光装置，这些中间层是有机材料形成的有机薄膜。
在制造如上构造的有机电致发光装置的过程中，有机薄膜，如空穴注入层，空穴传输层，发射层，电子传递层，或电子注入层可通过利用沉积设备，以沉积的方法形成。即，基片置于内部压力控制在l0-6-10-7的密闭室中。将有机材料注入朝向基片放置的加热坩埚中，使用加热坩埚蒸发或汽化加热坩埚中的有机材料，从而在基片上沉积。
图1是常规沉积设备提供的加热坩埚支撑装置的透视图。图2是沿图1的线II-II的横截面图。
参见图1和图2，为了简述沉积原理，在待沉积的材料注入加热坩埚20之后，加热坩埚20通过安装在加热坩埚20外部的电热丝30加热，以使加热坩埚20中的材料蒸发或汽化，从而实现沉积。这么做存在的问题是，由于待沉积的材料从加热坩埚20外部发出，因此沉积的材料块14附着在支撑装置10中形成的并且其中分布加热坩埚20的孔洞12的边缘。因此，沉积期间，需要定期去除沉积材料块14的分离步骤。
发明内容
本发明提供了一种支撑沉积设备的加热坩埚的装置以及包括它的沉积设备，它防止了沉积材料附着在支撑装置的孔洞边缘，以便易于维护、管理和使用加热坩埚。
根据本发明的一个方面，提供了一种支撑加热坩埚的装置，包括：支撑台，其上表面上形成有许多孔洞；防污盘，每个所述防污盘分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞的入口处，并且具有相对于所述对应孔洞的开放部分以及沿所述对应孔洞内壁延伸的遮蔽部分；以及电热丝，每个所述电热丝分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞处，其中每个所述电热丝的上端位于对应的所述防污盘的所述遮蔽部分的下端与对应的所述孔洞内的所述加热坩埚的上端之间；其中每个所述防污盘还具有朝向所述对应孔洞的中心轴延伸的突出部分。
支撑台上的孔洞为环状分布。
该装置进一步包括用来转动支撑台的致动器。
根据本发明的另一方面，提供了一种沉积设备，包括：支撑基片的支撑构件，在所述基片上可形成沉积膜；支撑装置，它包括支撑台、防污盘和分布于支撑台各个孔洞处的电热丝，支撑台的上表面形成有许多孔洞，每个所述防污盘分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞的入口处，并且具有相对于所述对应孔洞的开放部分以及沿所述对应孔洞内壁延伸的遮蔽部分；和加热坩埚，其分布于支撑装置的支撑台中形成的各个孔洞处，其中每个所述电热丝的上端位于对应的所述防污盘的所述遮蔽部分的下端与对应的所述孔洞内的所述加热坩埚的上端之间；其中每个所述防污盘还具有朝向所述对应孔洞的中心轴延伸的突出部分。
支撑台上的孔洞为环状分布。
沉积设备进一步包括用来转动支撑台的致动器。
附图说明
本发明的以上和其余特征和优点，通过参照附图详细描述例证实施例，将变得显而易见，其中：
图1是常规的加热坩埚支撑装置的透视图；
图2是沿图1的线II-II的横截面图；
图3是根据本发明的一个实施方式的加热坩埚支撑装置的透视图；
图4是沿图3的线IV-IV的横截面图；
图5和6是显示图3的加热坩埚支撑装置的改进实施例的视图；和
图7是显示根据本发明的一个实施方式的沉积设备的示意图。
具体实施方式
根据本发明的一个实施方式，参考图3和4，在支撑装置提供的支撑台110的上表面形成多个孔洞112。尽管图3中孔洞112为环状分布，但是本发明并不限于此，孔洞112可以其它图形如双圈分布。
支撑台110进一步包括安装在各个孔洞112入口处的防污盘140。防污盘140包括相对于各个孔洞112的开放部分，以及沿各个孔洞112的内壁的遮蔽部分。
加热坩埚120置于支撑台110中形成的各个孔洞112中，进行沉积。即，随着待沉积的原料从置于孔洞112的加热坩埚120中发出，通过蒸发或汽化完成沉积。在此过程中，发出的材料可附着在支撑台110形成的孔洞112的边缘。因此，在本实施方式的加热坩埚支撑装置中，在放置加热坩埚120的支撑台110的各个孔洞112的入口处进一步提供了防污盘140，因此防止了发出的待沉积材料沉积直接附着在支撑台110上。传统上，待沉积的材料发出直接附着于支撑台110上，这样需要附加步骤以去除附着的材料。然而，在本实施方式的加热坩埚支撑装置中，由于待沉积的材料附着在防污盘140上，而不是支撑台110上，仅仅通过替换或分离并清洗防污盘140，就可容易地维护、管理、使用加热坩埚支撑装置。
上述加热坩埚支撑台的支撑台110的各个孔洞112处还可以进一步提供电热丝130。电热丝130提高了置于各个孔洞112中的加热坩埚120的温度。为此，电热丝130通常由具有高电阻的导电材料形成。当电流流过电热丝130时，高电阻产生热量来加热加热坩埚120。电热丝130的形状如2004年1月17日所示，是沿支撑台110的各个孔洞112的内壁提供的，可以变为各种形状。
支撑台110中各个孔洞112的下表面可进一步提供温度传感器，如热电偶，以测定待沉积的材料的温度。而且，可进一步提供致动器(未显示)以转动加热坩埚支撑装置的支撑台110。
图5和6显示了图3的加热坩埚支撑装置的改进实例。参照图5和6，根据改进的实例，每个加热坩埚支撑装置都包括了先前图4的实施方式中加热坩埚支撑装置的支撑台110和防污盘140，先前实施方式的加热坩埚支撑装置与改进实例的加热坩埚支撑装置之间的区别在于防污盘140的形状。
防污盘140排列在各个孔洞112的入口处，并且具有相对于各个孔洞112的开放部分，以及沿各个孔洞112的内壁延伸的遮蔽部分。根据图4的先前实施方式，在加热坩埚支撑装置中提供的防污盘140的遮蔽部分中，仅遮蔽了加热坩埚支撑装置的支撑台110上各个孔洞112的边缘。然而，遮蔽部分可延伸到孔洞的下表面，如图5所示。因此，可以基本上防止待沉积的材料附着在加热坩埚支撑装置上提供的支撑台110的各个孔洞112内部。
同样，如图6所示，防污盘140中进一步提供朝向支撑台110的中心轴突出的突出部分。因此，防污盘140中形成的开放部分的半径可以比支撑台110中形成的各个孔洞112的半径小。此外，开放部分可用来作为喷嘴并且可以是其它各种改进。
图7是显示根据本发明的一个实施方式的沉积设备的视图。参照图7，根据本实施方式的沉积设备包括支撑在其上形成沉积膜的基片的基片支撑构件212，和分布有加热坩埚的加热坩埚支撑装置210。详细说来，根据本实施方式的支撑设备包括密封室211，其包括支撑基片200的基片支撑构件212，紧密附着于基片200并且具有相对于其中形成的所需沉积图样的缝隙的沉积掩体213，以及相对沉积掩体213来说面向基片200分布的加热坩埚支撑装置210。
基片支撑构件212支撑基片200的边缘，这样待沉积的基片200的表面相应于加热坩埚支撑装置210得到支撑。然而，本发明并不限于此。而且，基片支撑构件212在沉积期间可以转动并且可以是其它改性。基片支撑构件212进一步包括防止基片200因基片200的自重而弯曲的装置，和使沉积掩体213紧密接触基片200的装置。
加热坩埚支撑装置210具有上述实施方式和改进实例的加热坩埚支撑装置的结构。即，加热坩埚支撑装置210包括一在其上表面形成有多个孔洞的支撑台，以及排列于支撑台上各个孔洞入口处并且具有相对于孔洞的开放部分和沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分的防污盘。而且，必要时，加热坩埚支撑装置210可以进一步包括一致动器来使加热坩埚支撑装置210转动。
在如上构成的沉积设备中，从分布于加热坩埚支撑装置210提供的支撑台的孔洞中的加热坩埚中发出的材料在基片200上沉积。在加热坩埚支撑装置210的支撑台的孔洞中可以提供注入不同沉积材料的加热坩埚。通过选择性或组合加热加热柑锅，可形成不同种类的薄膜。由于待沉积的薄膜的均匀度和再现性非常重要，因此还可以提供一调整加热坩埚支撑装置210位置的装置，这样发出待沉积的材料的加热坩埚总是保持在恒定位置。
在以上沉积设备中，通过使用上述实施方式和改进实例的加热坩埚支撑装置作为加热坩埚支撑装置210，可以轻松维护、管理和使用该沉积设备。因此，当使用该沉积设备制造有机电致发光显示装置时，制造成本和所需时间就降低了。
如上所述，根据本发明的加热坩埚支撑装置，以及包括它的沉积设备，防止了发出的沉积材料附着在加热坩埚支撑装置的支撑台孔洞的边缘，并且防污盘仅需要通过替换或分离得到清理。因此，很容易就可维护、管理、使用加热坩埚支撑装置，以及包括它的沉积设备。而且，当使用该沉积设备制造有机电致发光显示装置时，制造成本和所需时间就降低了。
尽管参照其例证实施方式具体显示和描述了本发明，但是本领域普通技术人员应理解，在不背离下面权利要求书定义的本发明精神和范围下，可以在形式和细节上对本发明做不同变化。

Claims (6)

1.一种支撑加热坩埚的装置，包括：
支撑台，其上表面上形成有许多孔洞；
防污盘，每个所述防污盘分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞的入口处，并且具有相对于所述对应孔洞的开放部分以及沿所述对应孔洞内壁延伸的遮蔽部分；以及
电热丝，每个所述电热丝分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞处，
其中每个所述电热丝的上端位于对应的所述防污盘的所述遮蔽部分的下端与对应的所述孔洞内的所述加热坩埚的上端之间；
其中每个所述防污盘还具有朝向所述对应孔洞的中心轴延伸的突出部分。
2.权利要求1的装置，其中支撑台上的孔洞为环状分布。
3.权利要求1的装置，进一步包括用来转动支撑台的致动器。
4.一种沉积设备，包括：
支撑基片的支撑构件，在所述基片上可形成沉积膜；
支撑装置，它包括支撑台、防污盘和分布于支撑台各个孔洞处的电热丝，支撑台的上表面形成有许多孔洞，每个所述防污盘分布于支撑台上所述许多孔洞中的一个对应孔洞的入口处，并且具有相对于所述对应孔洞的开放部分以及沿所述对应孔洞内壁延伸的遮蔽部分；和
加热坩埚，其分布于支撑装置的支撑台中形成的各个孔洞处，
其中每个所述电热丝的上端位于对应的所述防污盘的所述遮蔽部分的下端与对应的所述孔洞内的所述加热坩埚的上端之间；
其中每个所述防污盘还具有朝向所述对应孔洞的中心轴延伸的突出部分。
5.权利要求4的沉积设备，其中支撑台上的孔洞为环状分布。
6.权利要求4的沉积设备，进一步包括用来转动支撑台的致动器。
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