CN103472610B - 一种基板干燥装置及基板清洗系统 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及显示技术领域，公开了一种基板干燥装置及基板清洗系统。所述基板干燥装置包括：用于烘干基板上表面的第一烘干部件以及用于烘干基板下表面的第二烘干部件。本发明的有益效果为：清洗后的基板，通过基板干燥装置进行烘干，使清洗完后残存在基板上的水泽蒸发掉，提高了基板的清洁度，进而改善了后续工序中光刻胶的涂覆效果，从而提高了生产出的显示装置的产品质量。

Description

一种基板干燥装置及基板清洗系统
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及到一种基板干燥装置及基板清洗系统。
背景技术
在液晶显示设备的制作过程中，通常采用玻璃基板作为衬底来制作彩膜基板和阵列基板，在制作彩膜基板之前需通过基板清洗系统将玻璃基板冲洗干净，使基板的表面保持较高的清洁度。
目前的及基板清洗系统采用传送带传送玻璃基板，使玻璃基板依次通过毛刷清扫装置、高压喷气清扫装置、喷淋装置、冲洗装置进行清洗，并在清洗完后通过风刀装置对玻璃基板进行吹干。
然而，随着液晶面板的精度及分辨率不断增加，同时，在生产加工时玻璃基板不断增大，采用现有技术中的基板清洗系统清洗的玻璃基板上会轻微残存一些水泽，从而造成后续工序中涂覆的光刻胶发生脱落，影响到生产出的液晶显示装置的产品质量。
发明内容
本发明提供了一种基板干燥装置及基板清洗系统，用以提高基板的清洁度，进而提高光刻胶的涂覆效果。
本发明提供了一种基板干燥装置，包括：
用于烘干基板上表面的第一烘干部件以及用于烘干基板下表面的第二烘干部件。
在上述技术方案中，通过基板干燥装置烘干清洗后的基板，使清洗完后残存在基板上的水泽蒸发掉，提高了基板的清洁度，进而改善了后续工序中光刻胶的涂覆效果，从而提高了生产出的显示装置的产品质量。
优选的，所述第一烘干部件为具有多个出风口的送风装置，用于向基板上表面送出热风。通过送出的热风吹干基板上残存的水泽。
优选的，所述第二烘干部件包括可供热气体流通的腔室，以及设置在腔室内的加热单元；所述腔室的出风口与所述送风装置的进风口气体连通。通过第二烘干部件产生的热量将基板下表面的水泽烘干，同时，进入到送风装置的热风通过第二烘干部件进行加热。
优选的，所述第二烘干部件的所述腔室内的加热单元为多个，且在所述腔室内壁上的位置交错设置，使所述腔室内形成弯曲的气流通道。采用加热单元交错设置，从而形成曲折的气流通道，提高了送风装置吹出的空气的热量，更加彻底的烘干液晶基板。
优选的，所述第二烘干部件还包括设置在所述腔室内的多个挡片，所述多个挡片在腔室内壁上的位置交错设置，使所述腔室内形成弯曲的气流通道。通过档片进一步增加了空气在流动中与加热单元的接触，提高了气体的加热效果。
优选的，所述基板干燥装置还包括气泵，所述气泵与所述第二烘干部件的所述腔室的进风口连接，用于向所述腔室泵入气流。提高第一烘干部件的烘干效果。
可选择的，所述加热单元为陶瓷加热片或金属加热片。采用金属加热片或陶瓷加热片，具有较快的温升，且能量利用率高。
本发明还提供了一种基板清洗系统，包括：传送基板的传送装置；
沿传送装置传送基板的方向依次设置的风刀装置和上述任一种基板干燥装置。
在上述技术方案中，基板在传送装置传送的过程中进行清洗，并在经过风刀装置后通过基板干燥装置烘干清洗后的基板，使清洗完后残存在基板上的水泽蒸发掉，提高了基板的清洁度，进而改善了后续工序中光刻胶的涂覆效果，从而提高了生产出的显示装置的产品质量。
优选的，所述风刀装置和基板干燥装置之间设有隔板。通过隔板避免风刀装置和送风装置吹出的风出现交叉从而影响到其对基板的处理效果。
优选的，所述基板清洗系统还包括：设置于所述传送装置两侧的挡板。通过挡板使风刀装置和送风装置吹出的风沿基板方向流动，提高了风能的利用率。
优选的，所述基板清洗系统还包括：热排风管道，位于所述送风装置出风口的下风侧的挡板。通过设置的热排风管道将含有水蒸气的风带走，避免水蒸气冷却后再次附着到基板上。
优选的，所述热风排风管道的进风口具有扩口结构。通过扩口结构提高了热排风管道与风的接触面积，提高了排风的效果。
优选的，所述传送装置为具有支撑间隙的传送带。采用带传送能够平稳的支撑基板，且传送带上的支撑间隙使得第二加热部件的热量能够快速的散发到基板，并对基板烘干。
附图说明
图1为本发明实施例提供的基板清洗系统的俯视图；
图2为本发明实施例提供的基板清洗系统的侧视图；
图3为本发明实施例提供的基板干燥装置的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的基板干燥装置的第二烘干部件的结构示意图。
附图标记：
10-传送装置20-风刀装置30-基板干燥装置
31-第一烘干部件32-第二烘干部件33-腔室
34-加热单元35-气流通道40-隔板
50-热排风管道60-挡板70-基板
具体实施方式
为了提高基板的清洁效果，从而改善后续工序中光刻胶的涂覆效果，进而提高生产出的液晶显示装置的产品质量，本发明提供了一种基板干燥装置及基板清洗系统。在本发明提供的技术方案中，通过采用基板干燥装置分别对清洗后的基板的上表面和下表面进行烘干，提高了基板的清洁度，进而提高了光刻胶的涂覆效果，以及生产出的显示装置的产品质量。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，以下以非限制性的实施例为例对本发明作进一步详细说明。
如图1、图2和图3所示，图1为本发明实施例提供的基板清洗系统的俯视图；图2为本发明实施例提供的基板清洗系统的侧视图；图3为本发明实施例提供的基板干燥装置的结构示意图。
本发明实施例提供的一种基板干燥装置，包括：
用于烘干基板70上表面的第一烘干部件以及用于烘干基板下表面的第二烘干部件。
上述实施例中的基板干燥装置，基板70在经基板干燥装置30烘干之前，通过毛刷清扫装置、高压喷气清扫装置、喷淋装置、冲洗装置进行清洗，并在清洗完后通过风刀装置20对基板70进行吹干。之后再通过基板干燥装置30烘干残存在基板70上的水泽。具体的，通过第一烘干部件31来烘干基板70的上表面，通过第二烘干部件32来烘干基板70的下表面。从而提高基板70的清洁度。进而改善后续工序中光刻胶的涂覆效果，提高了生产出的显示装置的产品质量。
如图3所示，图3为本发明实施例提供的基板干燥装置的干燥装置的结构示意图。第一烘干部件31和第二烘干部件32可以采用不同的结构，如：第一烘干部件31和第二烘干部件32均为电加热部件，通过电加热部件分别烘烤基板70的上下表面；或第一烘干部件31和第二烘干部件32均采用具有多个出风口的送风装置，且送风装置吹出的空气经过加热装置进行过加热；或采用其中一个烘干部件为带有气流通道的电加热部件，另一个烘干部件为与气流通道连通的送风装置，通过热风来烘干基板70的一面，通过烘烤来烘干基板70的另一面。
作为一种优选方案，第一烘干部件31为具有多个出风口的送风装置，用于向基板70上表面送出热风。如图4所示，图4为本发明实施例提供的基板干燥装置的第二烘干部件的结构示意图。所述第二烘干部件32包括可供热气体流通的腔室33，以及设置在腔室33内的加热单元34；所述腔室33的出风口与所述送风装置的进风口气体连通。其中，腔室34内的多个加热单元34之间形成气流通道35，所述气流通道35一端与气泵连通，气流通道35的另一端与送风装置的进风口连通。由于在清洗基板70时，喷淋装置等都是从上方喷淋到基板70上，因此，第一烘干部件31采用送风装置，送风装置从出的风在吹出前经第二烘干部件32的加热单元34进行了加热，通过风的流速以及热量对基板70残存的水泽进行清洗，对于残存在基板70下表面的水泽，通过第二烘干部件32进行烘干。从而有侧重的采用不同的烘干结构对基板70进行清洗，既达到了烘干的效果，又节约了能源。
继续参考图4，上述实施例中，为了使经过第二烘干部件32的风能够充分加热，设置在腔室33内壁上的加热单元34为多个，且多个加热单元34在所述腔室33内壁上的位置交错设置。从而形成曲折的气流通道35，使流经气流通道35的空气充分与加热单元34接触，提高了送风装置吹出的空气的热量，更加彻底的烘干液晶基板70。更进一步的，还可以采用以下结构，第二烘干部件32还包括设置在所述腔室33内的多个挡片（图中未示出），所述多个挡片在腔室33内壁上的位置交错设置，使所述腔室内形成弯曲的气流通道。增加了空气在腔室33内的流动时间，便于加热，其中，加热单元34可以为陶瓷加热片或金属加热片，具有较快的温升和较高的能量利用率。
本发明实施例还提供了一种基板清洗系统，包括：
传送基板的传送装置10；
沿传送装置传送基板70的方向依次设置的风刀装置20和上述任一种基板干燥装置30。其中，第一烘干部件31位于传送装置10的上方，第二烘干部件32位于传送装置10的下方。
在基板70经过基板烘干装置30时，通过第一烘干部件31和第二烘干部件32同时作用，烘干残存在基板70上的水泽。
继续参考图1，上述实施例中的基板清洗系统还包括设置于风刀装置20和基板干燥装置30之间的隔板40。通过隔板40避免风刀装置20和送风装置吹出的风出现交叉形成乱流，从而影响到其对基板70的处理效果。
继续参考图1，为了进一步提高基板干燥装置30对基板70的烘干效果，较佳的，基板清洗系统还包括：设置于所述传送装置10两侧的挡板60。通过挡板60使风刀装置20和送风装置吹出的风沿基板70方向流动，提高了风能的利用率。
此外，为了避免送风装置吹出的热风在处理基板70后，携带的水蒸气在基板70上再次冷凝，在送风装置出风口的下风侧的挡板60上设置热排风管道50。通过设置的热排风管道50将含有水蒸气的风带走，避免水蒸气冷却后再次附着到基板70上，提高了基板干燥装置30的烘干效果。更佳的，热风排风管道的进风口具有扩口结构（图中未示出）。通过扩口结构提高了热排风管道50与风的接触面积，提高了排风的效果。
其中，传送装置10为具有支撑间隙的传送带。采用带传送能够平稳的支撑基板70，且传送带上的支撑间隙使得第二加热部件的热量能够快速的散发到基板70，并对基板70烘干。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种基板干燥装置，其特征在于，包括：
用于烘干基板上表面的第一烘干部件以及用于烘干基板下表面的第二烘干部件；其中，
所述第一烘干部件为具有多个出风口的送风装置，用于向基板上表面送出热风；
所述第二烘干部件包括可供热气体流通的腔室，以及设置在腔室内的加热单元；所述腔室的出风口与所述送风装置的进风口气体连通。
2.如权利要求1所述的基板干燥装置，其特征在于，所述第二烘干部件的所述腔室内的加热单元为多个，且在所述腔室内壁上的位置交错设置，使所述腔室内形成弯曲的气流通道。
3.如权利要求2所述的基板干燥装置，其特征在于，所述第二烘干部件还包括设置在所述腔室内的多个挡片，所述多个挡片在腔室内壁上的位置交错设置，使所述腔室内形成弯曲的气流通道。
4.如权利要求3所述的基板干燥装置，其特征在于，还包括气泵，所述气泵与所述第二烘干部件的所述腔室的进风口连接，用于向所述腔室泵入气流。
5.如权利要求1～4任一项所述的基板干燥装置，其特征在于，所述加热单元为陶瓷加热片或金属加热片。
6.一种基板清洗系统，其特征在于，包括：
传送基板的传送装置；
沿传送装置传送基板的方向依次设置的风刀装置和如权利要求1～5任一项所述的基板干燥装置。
7.如权利要求6所述的基板清洗系统，其特征在于，所述风刀装置和基板干燥装置之间设有隔板。
8.如权利要求6所述的基板清洗系统，其特征在于，还包括：设置于所述传送装置两侧的挡板。
9.如权利要求8所述的基板清洗系统，其特征在于，还包括：热排风管道，位于所述送风装置出风口的下风侧的挡板。
10.如权利要求9所述的基板清洗系统，其特征在于，所述热风排风管道的进风口具有扩口结构。
11.如权利要求6～10任一项所述的基板清洗系统，其特征在于，所述传送装置为具有支撑间隙的传送带。
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