CN103469166A - 一种集成式阴极电弧靶 - Google Patents

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本发明公开了一种集成式阴极电弧靶,包括水冷阴极、阳极、绝缘组件、限弧机构、磁控限弧机构、档板机构和引弧机构,水冷阴极包括靶,引弧机构包括引弧针;其中:水冷阴极通过绝缘组件安装于阳极;限弧机构固定于绝缘组件,用来限制弧斑的运动范围;磁控限弧机构固定于阳极且位于阳极和水冷阴极之间,用来调节冷阴极的靶面的磁场强度;挡板机构和引弧机构固定于阳极,引弧机构的引弧针与水冷阴极的靶面接触。本发明简化了电弧离子镀设备真空腔体,促进电弧离子镀设备模块化和标准化;具有烧蚀均匀、靶利用率高的优点;安装维护方便,运行稳定。

Description

一种集成式阴极电弧靶
 
技术领域
    本发明属于真空电弧离子镀技术领域,尤其涉及一种集成式阴极电弧靶。
背景知识
目前,真空电弧离子镀技术已经广泛应用于工具模领域,提高工模具产品的使用性能和使用寿命。
真空腔体是电弧离子镀的核心组件之一,真空腔体上必须焊接各种法兰,用于抽气、进气、真空测量、蒸发源等。与弧源相关的就有三种法兰:弧源主体,引弧机构和档板机构。而真空腔体设计过程非常复杂,须考虑各法兰之间的关联,焊接工艺及焊缝热影响区的相互影响。
现有电弧阴极技术普便存在靶利用率低的问题,弧斑倾向在某些区域移动,导致这些区域烧蚀比其它区域严重,靶的整体利用率低。
现有电弧阴极技术运动引入骨架密封,长期使用会由于O圈磨损而漏气,需定期更换,在O圈使用期内也会由于安装过松而漏气,过紧而运动不畅。现有圆弧靶技术在靶材上车有螺牙,安装时采用链钳或特制工具,安装非常不便。
发明内容
本发明的目的之一是提供一种集成式阴极电弧靶,简化电弧离子镀设备真空腔体,促进电弧离子镀设备模块化和标准化。
为达到上述目的,本发明的技术方案如下:
一种集成式阴极电弧靶,包括:水冷阴极(1)、阳极(2)、绝缘组件(3)、限弧机构(4)、磁场机构(5)、档板机构(6)和引弧机构(7),水冷阴极(1)包括靶(13),引弧机构(7)包括引弧针(72);其中:
水冷阴极(1)通过绝缘组件(3)安装于阳极(2);
限弧机构(4)固定于绝缘组件(3),用来限制弧斑的运动范围;
磁场机构(5)固定于水冷板(11)且位于阳极(2)和水冷阴极(1)之间,用来调节冷阴极(10)的靶(13)面的磁场强度;
挡板机构(6)和引弧机构(7)固定于阳极(2),引弧机构(7)的引弧针(72)与水冷阴极(10)的靶(13)面接触。
为了获得更均匀的靶面温度场、电场和磁场,解决阴极电弧靶靶面烧蚀不均、靶利用率低的问题,本发明的优选方案如下:
上述水冷阴极(1)包括水冷板(11)、导热板(12)、靶(13)、进出水管(15)和导电环(16),进出水管(15)固定于水冷板(11)上,水冷板(11)上压导热板(12),靶(13)固定于水冷板(11)上且紧贴导热板(12),导电环(16)通过铜螺栓(18)固定于水冷板(11)上。所述的水冷板(11)上设有蛇形导流槽,用以确保靶面能均匀、充分的冷却。
上述阳极(2)包括阳极基板(21)和阳极罩(22),阳极罩(22)固定于阳极基板(21)上;阳极基板(21)主体为第一法兰,其上焊有3个第二法兰。
上述绝缘组件(3)包括绝缘环(31)第一绝缘件(32)、和第二绝缘件(33),绝缘环(31)为与导电环(16)相匹配的环状结构,绝缘件(32)为与铜螺栓(18)相匹配的中空管状结构,绝缘件(33)为与进出水管(15)相匹配的中空管状结构。
上述限弧机构(4)包括限弧罩(41)和桶状组件(42),桶状组件(42)固定于限弧罩(41)一端;限弧罩(41)为一带度锥孔的环形结构。限弧罩(41)优选为带90度锥孔的环形结构,采用导磁材料制作,兼有导磁和限弧作用。
上述磁场机构(5)包括环形磁铁(51),环形磁铁(51)通过匀磁环(52)安装于基座(54)上。
为了解决阴极电弧靶安装复杂、运行不稳定的问题,本发明的优选方案如下:
上述档板机构(6)为依次相连的线性运动馈入装置(61)、连杆(62)、档板(63)组成的曲轴滑块结构,运动引入密封方式为波纹管密封,档板(63)安装采用曲轴滑块结构。
上述引弧机构(7)由依次相连的线形运动馈入装置(71)和引弧针(72)组成,运动引入密封方式为波纹管密封,所述的引弧针(72)与靶(13)面接触的端头有弯折。
上述水冷阴极(1)的靶(13)设有两个台阶,可防止弧斑烧蚀压靶圈和安装螺丝。
 
本发明的有益效果是:
1、将弧源主体、引弧机构、档板机构集成于250KF法兰,促进真空弧源设计的模块化和标准化。
2、具有烧蚀均匀、靶利用率高的优点。
3、安装维护方便,运行稳定。
附图说明
图1为本发明阴极电弧靶的一种具体结构示意图;
图2为水冷阴极具体实施方式的剖面图;
图3为阳极的一种具体结构示意图图;
图4为绝缘组件的一种具体结构示意图;
图5为限弧机构的一种具体结构示意图;
图6为磁场机构的一种具体结构示意图;
图7为挡板机构的一种具体结构示意图;
图8为引弧机构的一种具体结构示意图。
图中,1-水冷阴极;11-水冷板;12-导热铜板;13-靶;14-压靶圈;15-进出水管;16-导电铜环;17-O圈;18-铜螺栓;19-沉头螺栓;2-阳极;21-阳极基板;22-阳极罩;23-法兰;3-绝缘组件;31-绝缘环;32、33-绝缘件;4-限弧机构;41-限弧罩;42-桶状组件;5-磁场机构;51-环形磁铁;52-匀磁环;53-螺丝;54-基座;6-档板机构;61-线性运动馈入装置;62-连杆;63-档板;64-销钉;65-气缸;7-引弧机构;71-线性运动馈入装置;72-引弧针;73-弯折面;74-气缸。
具体实施方式
下面将结合附图进一步描述本发明的具体实施方式。
见图2,水冷阴极(1)包括水冷板(11)、导热铜板(12)、靶(13)、压靶圈(14)、进出水管(15)、导电铜环(16)、O圈(17)、铜螺栓(18)和沉头螺栓(19)。水冷板(11)上刻有蛇形导流槽和O圈密封槽,蛇形导流槽用来确保靶(13)均匀、充分的冷却;进出水管(15)固定于水冷板(11)上;O圈(17)置于水冷板(11)的O圈密封槽内,O圈(17)上压0.8毫米导热铜板(12),靶(13)通过压靶圈(14)和沉头螺栓(19)固定于水冷板(11)上且紧贴导热铜板(12)。靶(13)上有两个台阶,第一个台阶为压靶圈(14)提供一个凸缘;第二个台阶用来保证靶(13)面高出压靶圈(14)平面,防止弧斑烧蚀压靶圈和安装螺丝。通水时要保证水流方向是下进上出,防止产生气泡而影响冷却效率,水压2-4MPa,通水后,导热铜板(12)与靶(13)面紧密贴合,将靶材热量传给冷却水。导热铜板(12)的另一个作用是防止靶材烧蚀超过安全烧蚀深度时,保证水不至于流进真空室内。弧电源负极接导电铜环(16),电流通过导电铜环(16)、铜螺栓(18)至水冷板(11)。导电铜环(16)的作用为均匀阴极电位。
阳极(2)由阳极基板(21)和阳极罩(22)组成,阳极基板(21)的主体为KF250法兰,其上焊有3个KF25法兰(23),用来安装1个引弧机构(7)和2个档板机构(6)。 阳极罩(22)通过螺栓锁在阳极基板(21)上,阳极罩(22)有两个作用:防止涂层涂覆在真空腔体壁上,为档板机构提供安装支点。
绝缘组件(3)包括用来绝缘阳极基板(21)和水冷板(11)的绝缘环(31)、用来绝缘导电铜环(16)和阳极基板(21)的绝缘件(32)、用来绝缘导电铜环(16)和进出水管(15)的绝缘件(33)。绝缘环(31)为与导电铜环(16)相匹配的环状结构,绝缘件(32)为与铜螺栓(18)相匹配的中空管状结构,绝缘件(33)为与进出水管(15)相匹配的中空管状结构。
铜螺栓(18)一端固定于水冷板(11),另一端从导电铜环(16)中心环穿过。水冷阴极(1)通过绝缘组件(3)和铜螺栓(18)安装于阳板基板(21)上,见图1,具体为:将进出水管(15)穿过绝缘件(33),将铜螺栓(18)穿过绝缘件(32),将导电铜环(16)穿过绝缘环(31),并将阳极(2)的三个法兰(23)依次与绝缘组件(3)的绝缘件(32)和绝缘件(33)套接,从而实现将水冷阴极(1)安装于阳板基板(21)上。
限弧机构(4)主体为限弧罩(41),限弧罩(41)为一带90度锥孔的环形结构,限弧罩(41)一端连有一桶状组件(42),桶状组件(42)套于绝缘组件(3)的绝缘环(31)上;限弧罩(41)在电位上位于悬浮位置,且与阴极的间距为1.5毫米,用来阻止弧斑烧蚀水冷板和压靶圈。限弧罩(41)由导磁材料制作,用来提升磁场,兼具导磁和限弧的作用。
磁场机构(5)功能件为环形磁铁(51),环形磁铁(51)通过匀磁环(52)安装于基座(54)上,均磁环(52)用导磁材料制作,用来均匀靶面磁场。通过调整螺丝(53)调节基座(54)与靶(13)面的距离,从而调节靶(13)表面磁场强度。磁场机构(5)固定于水冷板(11)上,位于阳极基板(21)和水冷板(11)之间。
档板机构(6)为依次相连的线性运动馈入装置(61)、连杆(62)、档板(63)组成的曲轴滑块结构,变气缸(65)的直线运动为档板的翻转运动。运动引入密封方式为波纹管密封。线性运动馈入装置(61)通过KF卡环安装在阳极基板(21)的其中一法兰(23)。销钉(64)将线性运动馈入装置(61)、连杆(62)、档板(63)、阳极罩(22)联接在一起,形成曲轴滑块结构,变气缸的直线运动为档板的翻转运动。
引弧机构(7)由依次相连的线形运动馈入装置(71)和引弧针(72)组成,线形运动馈入装置(71)通过阳极基板(21)的法兰固定于阳极基板(21)上,线形运动馈入装置(71)的结构和原理同档板机构(6)中的线性运动馈入装置(61),引弧针(72)为钨铈合金,其端头与靶(13)面接触。引弧针(72)与靶(13)面接触的端头有弯折,其弯折面(73)接触靶(13)面,防止引弧运动时在靶(13)面敲出凹坑。
本发明集成式电弧靶包括1个引弧机构(7)和2个挡板机构(6),引弧机构(7)和挡板机构(6)分别通阳极基板(21)上设置的3个法兰(23)固定于阳极基板(21)上。

Claims (10)

1.集成式阴极电弧靶,其特征在于,包括:
水冷阴极(1)、阳极(2)、绝缘组件(3)、限弧机构(4)、磁场机构(5)、档板机构(6)和引弧机构(7),水冷阴极(1)包括靶(13),引弧机构(7)包括引弧针(72);其中:
水冷阴极(1)通过绝缘组件(3)安装于阳极(2);
限弧机构(4)固定于绝缘组件(3),用来限制弧斑的运动范围;
磁场机构(5)固定于水冷板(11)且位于阳极(2)和水冷阴极(1)之间,用来调节冷阴极(10)的靶(13)面的磁场强度;
挡板机构(6)和引弧机构(7)固定于阳极(2),引弧机构(7)的引弧针(72)与水冷阴极(10)的靶(13)面接触。
2.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的水冷阴极(1)包括水冷板(11)、导热板(12)、靶(13)、进出水管(15)和导电环(16),进出水管(15)固定于水冷板(11)上,水冷板(11)上压导热板(12),靶(13)固定于水冷板(11)上且紧贴导热板(12),导电环(16)通过螺栓固定于水冷板(11)上。
3.如权利要求2所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的水冷板(11)上设有蛇形导流槽。
4.如权利要求2所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的靶(13)设有两个台阶。
5.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的阳极(2)包括阳极基板(21)和阳极罩(22),阳极罩(22)固定于阳极基板(21)上;阳极基板(21)主体为第一法兰,其上焊有3个第二法兰。
6.如权利要求2所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的绝缘组件(3)包括绝缘环(31)、第一绝缘件(32)和第二绝缘件(33),绝缘环(31)为与导电环(16)相匹配的环状结构,第一绝缘件(32)为与铜螺栓(18)相匹配的中空管状结构,第二绝缘件(33)为与进出水管(15)相匹配的中空管状结构。
7.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的限弧机构(4)包括限弧罩(41)和桶状组件(42),限弧罩(41)为一带度锥孔的环形结构,桶状组件(42)固定于限弧罩(41)一端。
8.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的磁场机构(5)包括环形磁铁(51),环形磁铁(51)通过匀磁环(52)安装于基座(54)上。
9.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的档板机构(6)为依次相连的线性运动馈入装置(61)、连杆(62)、档板(63)组成的曲轴滑块结构,运动引入密封方式为波纹管密封。
10.如权利要求1所述的集成式阴极电弧靶,其特征在于:
所述的引弧机构(7)由依次相连的线形运动馈入装置(71)和引弧针(72)组成,运动引入密封方式为波纹管密封,所述的引弧针(72)与靶(13)面接触的端头有弯折。
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