JPH0693433A - アークイオンプレーティング装置 - Google Patents
アークイオンプレーティング装置Info
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- JPH0693433A JPH0693433A JP937093A JP937093A JPH0693433A JP H0693433 A JPH0693433 A JP H0693433A JP 937093 A JP937093 A JP 937093A JP 937093 A JP937093 A JP 937093A JP H0693433 A JPH0693433 A JP H0693433A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 真空容器内でアノードとカソードとの間にア
ークを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワークに前
記カソードの構成成分をコーティングするアークイオン
プレーティング装置において、前記カソードとして棒状
のカソードを用い、該カソードの両端が同電位となるよ
うに該カソードの両端がアーク電源の陰極に夫々接続さ
れている。 【効果】 点弧を繰り返さなくてもアークスポットのラ
ンダムな移動によりカソード全域から蒸発が起こる。従
って、装置は点弧装置の影響を受けず、アーク電流を大
きくすることにより蒸着能率の向上が図れる。
ークを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワークに前
記カソードの構成成分をコーティングするアークイオン
プレーティング装置において、前記カソードとして棒状
のカソードを用い、該カソードの両端が同電位となるよ
うに該カソードの両端がアーク電源の陰極に夫々接続さ
れている。 【効果】 点弧を繰り返さなくてもアークスポットのラ
ンダムな移動によりカソード全域から蒸発が起こる。従
って、装置は点弧装置の影響を受けず、アーク電流を大
きくすることにより蒸着能率の向上が図れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電気的手段により気相
とした物質によってワークをコーティングするアークイ
オンプレーティング装置に関するものである。
とした物質によってワークをコーティングするアークイ
オンプレーティング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】カソード構成成分を電気的手段により気
相とした物質とし、この物質をワークにコーティングす
るアークイオンプレーティング装置として、図８に示す
ような装置が、特開昭５９−２１１５７４号公報に開示
されている。この装置は、真空チャンバー１内に配置さ
れた筒状のワーク２の中心に棒状のカソード３が位置
し、このカソード３の一端側に、このカソード３に対応
するアノード４が配置されている。
相とした物質とし、この物質をワークにコーティングす
るアークイオンプレーティング装置として、図８に示す
ような装置が、特開昭５９−２１１５７４号公報に開示
されている。この装置は、真空チャンバー１内に配置さ
れた筒状のワーク２の中心に棒状のカソード３が位置
し、このカソード３の一端側に、このカソード３に対応
するアノード４が配置されている。
【０００３】このような構成を有する装置において、ア
ノード４を往復ドライブ装置５の駆動によってカソード
３の一端部に間欠的に接触させてアークをとばし、カソ
ード３を全長にわたって蒸発させてカソード構成成分を
筒状のワーク２の内面にコーティングする。
ノード４を往復ドライブ装置５の駆動によってカソード
３の一端部に間欠的に接触させてアークをとばし、カソ
ード３を全長にわたって蒸発させてカソード構成成分を
筒状のワーク２の内面にコーティングする。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記装置では、棒状の
カソード３の一端から点弧するため、電流が一端から他
端へ向かって流れ、この電流の流れに対応して磁場が変
化し、アークスポットがカソード３の他端へ移動してい
く。このような状態のままではアーク放電が他端部で集
中的に起こるようになり、他端部で集中的に蒸発が起こ
るので、アノード４をカソード３に接触させてアークを
消滅させる必要がある。一方、筒状のワーク２の内面を
コーティングするためには、棒状カソード３の全長にわ
たってほぼ均等にアーク放電を起こすことが望ましい。
よって、上記装置ではアノード４をドライブ装置５で往
復運動させることによって間欠的に点弧消弧を繰り返し
ている。
カソード３の一端から点弧するため、電流が一端から他
端へ向かって流れ、この電流の流れに対応して磁場が変
化し、アークスポットがカソード３の他端へ移動してい
く。このような状態のままではアーク放電が他端部で集
中的に起こるようになり、他端部で集中的に蒸発が起こ
るので、アノード４をカソード３に接触させてアークを
消滅させる必要がある。一方、筒状のワーク２の内面を
コーティングするためには、棒状カソード３の全長にわ
たってほぼ均等にアーク放電を起こすことが望ましい。
よって、上記装置ではアノード４をドライブ装置５で往
復運動させることによって間欠的に点弧消弧を繰り返し
ている。
【０００５】しかし、一般に点弧消弧は機械的な接触切
離しにより行うため、ドライブ装置駆動による点弧消弧
では動作速度に限界がある。一方、蒸着速度を上げるた
めにアーク電流を大きくするとアークの移動速度が速く
なるので、カソード全域で均等にアーク放電させるため
には点弧動作を速くしなければならない。よって、ドラ
イブ装置の動作限界速度を超える範囲で使用すると、点
弧時間／消滅時間の比率が下がって、逆に蒸着能率が低
下することになる。
離しにより行うため、ドライブ装置駆動による点弧消弧
では動作速度に限界がある。一方、蒸着速度を上げるた
めにアーク電流を大きくするとアークの移動速度が速く
なるので、カソード全域で均等にアーク放電させるため
には点弧動作を速くしなければならない。よって、ドラ
イブ装置の動作限界速度を超える範囲で使用すると、点
弧時間／消滅時間の比率が下がって、逆に蒸着能率が低
下することになる。
【０００６】また、アークイオンプレーティング装置の
信頼性は、厳しい条件で使用されるドライブ装置の信頼
性に依存する。本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、点弧消弧動作を繰り
返さなくても、アークスポットがカソード全域で平均的
に動き回り、カソード全長にわたってカソードを蒸発さ
せることができるアークイオンプレーティング装置を提
供することにある。さらに、本発明は、アークスポット
の位置を制御して、所望の膜厚分布を有するコーティン
グ膜を得ることができるアークイオンプレーティング装
置を提供することにある。
信頼性は、厳しい条件で使用されるドライブ装置の信頼
性に依存する。本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
であり、その目的とするところは、点弧消弧動作を繰り
返さなくても、アークスポットがカソード全域で平均的
に動き回り、カソード全長にわたってカソードを蒸発さ
せることができるアークイオンプレーティング装置を提
供することにある。さらに、本発明は、アークスポット
の位置を制御して、所望の膜厚分布を有するコーティン
グ膜を得ることができるアークイオンプレーティング装
置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の発明のアークイオ
ンプレーティング装置は、真空容器内でアノードとカソ
ードとの間にアークを発生させて前記カソードを蒸発さ
せ、ワークに前記カソードの構成成分をコーティングす
るアークイオンプレーティング装置において、該カソー
ドの両端が略同電位となるように該カソードの両端がア
ーク電源の陰極に夫々接続されている。
ンプレーティング装置は、真空容器内でアノードとカソ
ードとの間にアークを発生させて前記カソードを蒸発さ
せ、ワークに前記カソードの構成成分をコーティングす
るアークイオンプレーティング装置において、該カソー
ドの両端が略同電位となるように該カソードの両端がア
ーク電源の陰極に夫々接続されている。
【０００８】第２の発明のアークイオンプレーティング
装置は、真空容器内でアノードとカソードとの間にアー
クを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワークに前記
カソードの構成成分をコーティングするアークイオンプ
レーティング装置において、前記カソードの長手方向の
両端がアーク電源の陰極に夫々接続されていて、且つ前
記カソードの両端を流れる電流値を調節する調節手段を
備えている。
装置は、真空容器内でアノードとカソードとの間にアー
クを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワークに前記
カソードの構成成分をコーティングするアークイオンプ
レーティング装置において、前記カソードの長手方向の
両端がアーク電源の陰極に夫々接続されていて、且つ前
記カソードの両端を流れる電流値を調節する調節手段を
備えている。
【０００９】
【作用】第１の発明において、アノードとカソードとの
間に一旦アークが発生すると、カソードの両端が同電位
となるように調整されており、アーク電流はカソードの
両端から対称に供給されるためアークスポットの偏りは
発生せず、アークスポットはその不安定性故にカソード
全長にわたってランダムに動き回る。アークスポットの
カソード全長にわたるランダムな移動は、あたかもカソ
ード全長にわたって連続的にアーク放電が起こっている
かの如く挙動するため、カソードの蒸発がカソード全長
にわたっておこる。
間に一旦アークが発生すると、カソードの両端が同電位
となるように調整されており、アーク電流はカソードの
両端から対称に供給されるためアークスポットの偏りは
発生せず、アークスポットはその不安定性故にカソード
全長にわたってランダムに動き回る。アークスポットの
カソード全長にわたるランダムな移動は、あたかもカソ
ード全長にわたって連続的にアーク放電が起こっている
かの如く挙動するため、カソードの蒸発がカソード全長
にわたっておこる。
【００１０】よって、カソード全長にわたってカソード
を蒸発させるためにアノードを間欠運転しなくてもよ
く、アークイオンプレーティング装置としての信頼性が
向上する上に、アーク電流を調整することにより蒸着能
率が向上する。また第２の発明では、調節手段でカソー
ド両端に流れる電流を調節することにより、カソードの
両端を効率よく略同電位にする他、さらにアークスポッ
トを位置を制御して所望の膜厚分布を形成できる。
を蒸発させるためにアノードを間欠運転しなくてもよ
く、アークイオンプレーティング装置としての信頼性が
向上する上に、アーク電流を調整することにより蒸着能
率が向上する。また第２の発明では、調節手段でカソー
ド両端に流れる電流を調節することにより、カソードの
両端を効率よく略同電位にする他、さらにアークスポッ
トを位置を制御して所望の膜厚分布を形成できる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は、第１の発明の一実施例たるアークイオン
プレーティング装置１００を示す構成概略図である。図
１中、１０は金属製の真空チャンバーで、真空チャンバ
ー１０の側壁には保持器１１、１２が設けられており、
該保持器１１、１２により棒状のカソード１５を水平に
保持している。保持器１１、１２はチャンバー１０と電
気的に絶縁されており、真空シール１８、１８で保持器
１１、１２と真空チャンバー１０との間隙をシールして
いる。また、保持器１１、１２の外周には、各々アーク
閉じ込めリング１１Ａ、１２Ａが取り付けられていて、
カソード上のアークスポットが保持器１１、１２上を移
動しないように制限している。そしてカソード１５の両
端に相当する保持器１１、１２は、それぞれアーク電源
１３、１４の陰極に接続されている。一方、アーク電源
１３、１４の陽極は、真空チャンバー１０の底面に接続
され、真空チャンバー１０自体がアノードを形成してい
る。１６は点弧装置で、その根本部分１６ａが真空チャ
ンバー１０に設置されている。なお、被コーティング物
たる円筒状のワーク１７は、カソード１２を外嵌するよ
うに適当な方法で配置されている。
する。図１は、第１の発明の一実施例たるアークイオン
プレーティング装置１００を示す構成概略図である。図
１中、１０は金属製の真空チャンバーで、真空チャンバ
ー１０の側壁には保持器１１、１２が設けられており、
該保持器１１、１２により棒状のカソード１５を水平に
保持している。保持器１１、１２はチャンバー１０と電
気的に絶縁されており、真空シール１８、１８で保持器
１１、１２と真空チャンバー１０との間隙をシールして
いる。また、保持器１１、１２の外周には、各々アーク
閉じ込めリング１１Ａ、１２Ａが取り付けられていて、
カソード上のアークスポットが保持器１１、１２上を移
動しないように制限している。そしてカソード１５の両
端に相当する保持器１１、１２は、それぞれアーク電源
１３、１４の陰極に接続されている。一方、アーク電源
１３、１４の陽極は、真空チャンバー１０の底面に接続
され、真空チャンバー１０自体がアノードを形成してい
る。１６は点弧装置で、その根本部分１６ａが真空チャ
ンバー１０に設置されている。なお、被コーティング物
たる円筒状のワーク１７は、カソード１２を外嵌するよ
うに適当な方法で配置されている。
【００１２】以上のような構成を有するアークイオンプ
レーティング装置１００において、２台のアーク電源１
３、１４を予め同電位に設定しておくことにより、カソ
ード１５の両端をほぼ同電位にすることができる。かか
る状態で、真空チャンバー１０内を図示省略の真空ポン
プにより真空状態にして、点弧装置１６の点弧部１６ｂ
をカソード１５に接触させた後切り離すと、その部分で
アーク放電が起こる。そして、アークスポット、保持器
１２、アーク電源１４、アノード１０及びカソード１５
からなる回路系と、アークスポット、保持器１１、アー
ク電源１３、アノード１０及びカソード１５からなる回
路系とを形成する。これらの回路系は電流方向が逆向き
であるために、磁場が打ち消しあって、見かけ上磁場が
発生していないような状態になる。このため、アークス
ポットは、その不安定性故に、カソード１５全長にわた
ってランダムに動き回り、あたかもカソード１５全長に
わたってアーク放電が連続的に起こっているような状態
になる。そして、カソード１５の蒸発もカソード全体か
らほぼ均等に行われる。
レーティング装置１００において、２台のアーク電源１
３、１４を予め同電位に設定しておくことにより、カソ
ード１５の両端をほぼ同電位にすることができる。かか
る状態で、真空チャンバー１０内を図示省略の真空ポン
プにより真空状態にして、点弧装置１６の点弧部１６ｂ
をカソード１５に接触させた後切り離すと、その部分で
アーク放電が起こる。そして、アークスポット、保持器
１２、アーク電源１４、アノード１０及びカソード１５
からなる回路系と、アークスポット、保持器１１、アー
ク電源１３、アノード１０及びカソード１５からなる回
路系とを形成する。これらの回路系は電流方向が逆向き
であるために、磁場が打ち消しあって、見かけ上磁場が
発生していないような状態になる。このため、アークス
ポットは、その不安定性故に、カソード１５全長にわた
ってランダムに動き回り、あたかもカソード１５全長に
わたってアーク放電が連続的に起こっているような状態
になる。そして、カソード１５の蒸発もカソード全体か
らほぼ均等に行われる。
【００１３】よって、従来のように、点弧装置１６の点
弧消弧動作を繰り返さなくても、カソード１５全長にわ
たってアーク放電を行わせることができる。このよう
に、第１発明の構成を有する装置によれば、アノードを
間欠的に往復動させなくても、カソード１５全長にわた
って平均的にアーク放電を起こすことができるので、駆
動機構の信頼性の影響を受けることもない。また、アー
クスポットの移動速度を上げたい場合、すなわち、アー
ク放電がカソード１５全域で連続的にアーク放電が起こ
っているようにする場合も、回路系に流れるアーク電流
値を高くするだけでよい。例えば、アーク電流が５０Ａ
程度ではアークスポットの動きは比較的ゆっくりである
が、２００Ａ以上になると、カソード１５の両端間を激
しく動き回るようになる。よって、装置全体としての信
頼性が向上する上に、アーク電流を上げることにより、
蒸着効率を上げることもできる。
弧消弧動作を繰り返さなくても、カソード１５全長にわ
たってアーク放電を行わせることができる。このよう
に、第１発明の構成を有する装置によれば、アノードを
間欠的に往復動させなくても、カソード１５全長にわた
って平均的にアーク放電を起こすことができるので、駆
動機構の信頼性の影響を受けることもない。また、アー
クスポットの移動速度を上げたい場合、すなわち、アー
ク放電がカソード１５全域で連続的にアーク放電が起こ
っているようにする場合も、回路系に流れるアーク電流
値を高くするだけでよい。例えば、アーク電流が５０Ａ
程度ではアークスポットの動きは比較的ゆっくりである
が、２００Ａ以上になると、カソード１５の両端間を激
しく動き回るようになる。よって、装置全体としての信
頼性が向上する上に、アーク電流を上げることにより、
蒸着効率を上げることもできる。
【００１４】なお、アークイオンプレーティング装置１
００では、真空チャンバー１０自体をアノードとして用
いたが、真空チャンバー１０以外にアノードを配置し
て、これとアーク電源の陽極を接続してもよい。また本
発明において、カソード１５の両端を同電位に保持でき
る構成であれば、予め同電位に設定した２台のアーク電
源１３、１４をそれぞれカソード１５の一端及び他端に
接続しなくても、１台のアーク電源を共有してもよい。
００では、真空チャンバー１０自体をアノードとして用
いたが、真空チャンバー１０以外にアノードを配置し
て、これとアーク電源の陽極を接続してもよい。また本
発明において、カソード１５の両端を同電位に保持でき
る構成であれば、予め同電位に設定した２台のアーク電
源１３、１４をそれぞれカソード１５の一端及び他端に
接続しなくても、１台のアーク電源を共有してもよい。
【００１５】１台のアーク電源を共有した場合のアーク
イオンプレーティング装置の概念模式図を図２に示す。
図２において、アーク電源１９の陰極がカソード１５の
両端にそれぞれ接続されている。このような構成は、ア
ーク電流が５０〜２００Ａ程度で、１台のアーク電源で
まかなえるような小電力域の使用において経済的であ
る。しかし、ケーブル長の違いや配線の接触抵抗の違い
などの理由から、略同電位の状態にはなりにくく、実際
には、カソードの一端１５ａとアーク電源１９とチャン
バー１０とから構成される回路系Ａ（回路系Ａを流れる
電流Ｉ1 ）、及びカソードの他端１５ｂとアーク電源１
９とチャンバー１０とから構成される回路系Ｂ（回路系
Ｂを流れる電流Ｉ2 ）のいずれか一方の電流値が大きく
なり、電流導入点に向かって移動し易いアークスポット
の性質から、電流値が大きい側にアークスポットが偏る
傾向にある。このため、本発明の目的たるカソード全長
にわたって均一なアーク放電が達成できなくなるおそれ
がある。１台のアーク電源で、カソード両端が同電位と
なるようにバランスさせる構成としては、図３に示すア
ークイオンプレーティング装置２００のように電流調整
器２０、２１を介して夫々保持器１１、１２に接続する
構成がある。
イオンプレーティング装置の概念模式図を図２に示す。
図２において、アーク電源１９の陰極がカソード１５の
両端にそれぞれ接続されている。このような構成は、ア
ーク電流が５０〜２００Ａ程度で、１台のアーク電源で
まかなえるような小電力域の使用において経済的であ
る。しかし、ケーブル長の違いや配線の接触抵抗の違い
などの理由から、略同電位の状態にはなりにくく、実際
には、カソードの一端１５ａとアーク電源１９とチャン
バー１０とから構成される回路系Ａ（回路系Ａを流れる
電流Ｉ1 ）、及びカソードの他端１５ｂとアーク電源１
９とチャンバー１０とから構成される回路系Ｂ（回路系
Ｂを流れる電流Ｉ2 ）のいずれか一方の電流値が大きく
なり、電流導入点に向かって移動し易いアークスポット
の性質から、電流値が大きい側にアークスポットが偏る
傾向にある。このため、本発明の目的たるカソード全長
にわたって均一なアーク放電が達成できなくなるおそれ
がある。１台のアーク電源で、カソード両端が同電位と
なるようにバランスさせる構成としては、図３に示すア
ークイオンプレーティング装置２００のように電流調整
器２０、２１を介して夫々保持器１１、１２に接続する
構成がある。
【００１６】次に、カソード１５の両端を流れる電流値
を調節する調節手段を備えた第２の発明について説明す
る。はじめに、カソード１５の両端を流れる電流Ｉ1 、
Ｉ2 とアークスポットの位置関係について図４を参照し
つつ説明する。図４（ａ）〜（ｃ）はいずれもカソード
１５におけるアークスポットの分布を示しており、横軸
はカソード１５の長手方向の位置、縦軸は所定時間あた
りの各位置におけるアークスポットの位置頻度を示して
いる。
を調節する調節手段を備えた第２の発明について説明す
る。はじめに、カソード１５の両端を流れる電流Ｉ1 、
Ｉ2 とアークスポットの位置関係について図４を参照し
つつ説明する。図４（ａ）〜（ｃ）はいずれもカソード
１５におけるアークスポットの分布を示しており、横軸
はカソード１５の長手方向の位置、縦軸は所定時間あた
りの各位置におけるアークスポットの位置頻度を示して
いる。
【００１７】アークスポットの位置は、その特性上、ア
ーク電流の流れる方向に影響される。換言すると、カソ
ード１５両端の電流値のバランス状態（例えば、｜Ｉ1
−Ｉ 2 ｜）に依存する。よって、Ｉ1 とＩ2 の電流値が
等しいときはカソード１５のほぼ全域にアークスポット
は分散するが（図４（ａ）参照）、Ｉ2 がＩ1 に比して
非常に大きいときはＩ2 が流れる方のカソード端部１２
側にアークスポットが偏在する傾向にあり（図４（ｂ）
参照）、Ｉ1 がＩ2 に比して非常に大きいときはＩ1 が
流れる方のカソード端部１１側にアークスポットが偏在
する傾向にある（図４（ｃ）参照）。ワーク１７に形成
されるコーティング膜の膜厚は、アークスポットの存在
頻度が高い部分程厚くなる。従って、調節手段によりカ
ソード１５両端に流れる電流Ｉ1 、Ｉ2 の電流値を制御
することにより、カソード１５の長手方向全長にわたっ
て精密に均一な成膜を行える他、必要に応じて局所的な
膜厚分布を有する成膜を行うことができる。
ーク電流の流れる方向に影響される。換言すると、カソ
ード１５両端の電流値のバランス状態（例えば、｜Ｉ1
−Ｉ 2 ｜）に依存する。よって、Ｉ1 とＩ2 の電流値が
等しいときはカソード１５のほぼ全域にアークスポット
は分散するが（図４（ａ）参照）、Ｉ2 がＩ1 に比して
非常に大きいときはＩ2 が流れる方のカソード端部１２
側にアークスポットが偏在する傾向にあり（図４（ｂ）
参照）、Ｉ1 がＩ2 に比して非常に大きいときはＩ1 が
流れる方のカソード端部１１側にアークスポットが偏在
する傾向にある（図４（ｃ）参照）。ワーク１７に形成
されるコーティング膜の膜厚は、アークスポットの存在
頻度が高い部分程厚くなる。従って、調節手段によりカ
ソード１５両端に流れる電流Ｉ1 、Ｉ2 の電流値を制御
することにより、カソード１５の長手方向全長にわたっ
て精密に均一な成膜を行える他、必要に応じて局所的な
膜厚分布を有する成膜を行うことができる。
【００１８】図５は第２発明の一実施例で、調節手段と
して、カソード１５の各端部とアーク電源１３、１４間
に印加される電圧を変化させる制御信号を出力する電圧
コントローラ２２を使用したアークイオンプレーティン
グ装置３００を示している。電圧コントローラ２２はア
ーク電源１３、１４に接続されていて、アーク電源１３
へ制御信号ｖ1 を、アーク電源１４へ制御信号ｖ2 を入
力する。制御信号ｖ1、ｖ2 に応じて電源１３、１４の
電圧グラウンドレベルが変化し、カソード１５の一端１
１と電源１３及びカソード１５の他端１２と電源１４間
の印加電圧（図５中Ｖ1 、Ｖ2 で表示）が変化する。す
なわち電流Ｉ1 及びＩ2 の大きさが変わる。
して、カソード１５の各端部とアーク電源１３、１４間
に印加される電圧を変化させる制御信号を出力する電圧
コントローラ２２を使用したアークイオンプレーティン
グ装置３００を示している。電圧コントローラ２２はア
ーク電源１３、１４に接続されていて、アーク電源１３
へ制御信号ｖ1 を、アーク電源１４へ制御信号ｖ2 を入
力する。制御信号ｖ1、ｖ2 に応じて電源１３、１４の
電圧グラウンドレベルが変化し、カソード１５の一端１
１と電源１３及びカソード１５の他端１２と電源１４間
の印加電圧（図５中Ｖ1 、Ｖ2 で表示）が変化する。す
なわち電流Ｉ1 及びＩ2 の大きさが変わる。
【００１９】制御信号ｖ1 、ｖ2 は、電圧コントローラ
２２に入力された情報に基づいた時間（ｔ）の関数で表
される。所望のアークスポット分布、すなわち電流Ｉ1
とＩ 2 とのバランスに応じて、ｓｉｎ波、矩形波等の関
数パターンや周期等が決定される。ここで、膜厚はアー
ク電流の大きさ（Ｉ）と放電時間（ｔ）の積に比例する
ことから、放電の間に流れるアーク電流Ｉ（Ｉ1 及びＩ
2 の各電流値の和）を一定にしておくことが好ましい。
例えば、放電の間、アーク電流Ｉ1 とＩ2 との和を一定
にした状態で、図６に示すような対称形の関数パターン
を有する制御信号ｖ1 、ｖ2 を入力してＩ1 及びＩ2 の
電流値比を変化させると、Ｉ1 及びＩ2の各電流値をそ
れぞれ管理しなくてもワーク１７全長にわたって膜厚が
ほぼ一定な均等膜を形成することができる。このように
して形成されたコーティング膜は、アークイオンプレー
ティング装置１００又は２００において、放電の間中、
電流Ｉ1 及びＩ2 の電流値が等しくなるように調整して
得られるコーティング膜よりも膜厚の均一精度が高い。
２２に入力された情報に基づいた時間（ｔ）の関数で表
される。所望のアークスポット分布、すなわち電流Ｉ1
とＩ 2 とのバランスに応じて、ｓｉｎ波、矩形波等の関
数パターンや周期等が決定される。ここで、膜厚はアー
ク電流の大きさ（Ｉ）と放電時間（ｔ）の積に比例する
ことから、放電の間に流れるアーク電流Ｉ（Ｉ1 及びＩ
2 の各電流値の和）を一定にしておくことが好ましい。
例えば、放電の間、アーク電流Ｉ1 とＩ2 との和を一定
にした状態で、図６に示すような対称形の関数パターン
を有する制御信号ｖ1 、ｖ2 を入力してＩ1 及びＩ2 の
電流値比を変化させると、Ｉ1 及びＩ2の各電流値をそ
れぞれ管理しなくてもワーク１７全長にわたって膜厚が
ほぼ一定な均等膜を形成することができる。このように
して形成されたコーティング膜は、アークイオンプレー
ティング装置１００又は２００において、放電の間中、
電流Ｉ1 及びＩ2 の電流値が等しくなるように調整して
得られるコーティング膜よりも膜厚の均一精度が高い。
【００２０】以上のようにアークイオンプレーティング
装置３００では、アーク電源１３、１４の出力電圧をコ
ントローラ２２にてコントロールしているので、制御信
号ｖ 1 、ｖ2 の関数パターンを選択することにより、均
一膜のみならず種々の成膜パターンに対応するとができ
る。また、カソード１５の一端１１及び他端１２に接続
されているアーク電源１３、１４は独立的に制御されて
いるので、電圧Ｖ1 、Ｖ2 を電圧コントーラ２２にフィ
ードバック等することにより２台の電源１３、１４間の
ばらつき、誤差を考慮しなくてもよい。従って、電圧コ
ントローラ２２を使用する本実施例のアークイオンプレ
ーティング装置３００の構成によれば複数台の電源を用
いて所望の成膜分布を作成することができるので、容量
の小さい電源の活用が容易となり、特に成膜速度を上げ
たいときに経済的である。
装置３００では、アーク電源１３、１４の出力電圧をコ
ントローラ２２にてコントロールしているので、制御信
号ｖ 1 、ｖ2 の関数パターンを選択することにより、均
一膜のみならず種々の成膜パターンに対応するとができ
る。また、カソード１５の一端１１及び他端１２に接続
されているアーク電源１３、１４は独立的に制御されて
いるので、電圧Ｖ1 、Ｖ2 を電圧コントーラ２２にフィ
ードバック等することにより２台の電源１３、１４間の
ばらつき、誤差を考慮しなくてもよい。従って、電圧コ
ントローラ２２を使用する本実施例のアークイオンプレ
ーティング装置３００の構成によれば複数台の電源を用
いて所望の成膜分布を作成することができるので、容量
の小さい電源の活用が容易となり、特に成膜速度を上げ
たいときに経済的である。
【００２１】図７は、第２の発明の他の実施例で、調節
手段としてアーク電源１９とは別の電源（制御用電源）
２５が設けられている。制御用電源２５の陽極及び陰極
を、それぞれカソード１５の一端１５ａ及び他端１５ｂ
に接続しており、制御用電源２５とカソード１５からな
る回路系Ｃが構成されている。この回路系Ｃを流れる電
流をＩ3 とすると、回路系Ａと回路系Ｃとの合流部の電
流はＩ1 −Ｉ3 、回路系Ｂと回路系Ｃとの合流部の電流
はＩ2 ＋Ｉ3 となる。従って、回路系Ｃを流れる電流Ｉ
3 の大きさ及び流れる方向を適宜設定することで、Ｉ1
とＩ2 との電流値が異なる場合においてカソード両端を
流れる見かけ上の電流を等しくすることができる他、成
膜速度分布の高度な制御が可能となる。
手段としてアーク電源１９とは別の電源（制御用電源）
２５が設けられている。制御用電源２５の陽極及び陰極
を、それぞれカソード１５の一端１５ａ及び他端１５ｂ
に接続しており、制御用電源２５とカソード１５からな
る回路系Ｃが構成されている。この回路系Ｃを流れる電
流をＩ3 とすると、回路系Ａと回路系Ｃとの合流部の電
流はＩ1 −Ｉ3 、回路系Ｂと回路系Ｃとの合流部の電流
はＩ2 ＋Ｉ3 となる。従って、回路系Ｃを流れる電流Ｉ
3 の大きさ及び流れる方向を適宜設定することで、Ｉ1
とＩ2 との電流値が異なる場合においてカソード両端を
流れる見かけ上の電流を等しくすることができる他、成
膜速度分布の高度な制御が可能となる。
【００２２】実際上の問題として、アークスポットの偏
りの原因は、Ｉ1 とＩ2 との差である電流のアンバラン
ス以外に、アノードたるチャンバー１０の構造に起因し
たり、Ｉ1 とＩ2 との電流分配も一定ではなく、常に変
動しているなどの要因もあるが、Ｉ3 を調整すること
で、アークスポットの偏在のない放電及び偏在させた状
態での放電を行うことができることが実験的に確認でき
る。
りの原因は、Ｉ1 とＩ2 との差である電流のアンバラン
ス以外に、アノードたるチャンバー１０の構造に起因し
たり、Ｉ1 とＩ2 との電流分配も一定ではなく、常に変
動しているなどの要因もあるが、Ｉ3 を調整すること
で、アークスポットの偏在のない放電及び偏在させた状
態での放電を行うことができることが実験的に確認でき
る。
【００２３】図７に示す構成において、制御用電源２５
の電流容量は、２本の電力ケーブル間のアンバランスが
極端に大きい場合を除いては、回路系Ｂ及び回路系Ｃを
流れるアーク電流の１０〜２０％で充分である。また、
制御用電源２５は、出力端が実質的に短絡状態で使用さ
れることから、出力の電圧容量は最大でも２〜３Ｖ程度
の小さな容量のものでよい。よって、かかる構成では、
アーク電源１９及び制御用電源２５という２個の電源を
用いているが、経済性の要求に反しない。
の電流容量は、２本の電力ケーブル間のアンバランスが
極端に大きい場合を除いては、回路系Ｂ及び回路系Ｃを
流れるアーク電流の１０〜２０％で充分である。また、
制御用電源２５は、出力端が実質的に短絡状態で使用さ
れることから、出力の電圧容量は最大でも２〜３Ｖ程度
の小さな容量のものでよい。よって、かかる構成では、
アーク電源１９及び制御用電源２５という２個の電源を
用いているが、経済性の要求に反しない。
【００２４】図７に示す構成を有するアークイオンプレ
ーティング装置４００（図８）に基づいて、制御用電源
２５の使用によるアークスポットの偏在防止効果を具体
的に説明する。図８に示すアークイオンプレーティング
装置４００では、カソード１５の一端１５ａに相当する
保持部１１が制御用電源２５の陽極、他端１５ｂに相当
する保持部１２が制御用電源２５の陰極に夫々接続され
ている。
ーティング装置４００（図８）に基づいて、制御用電源
２５の使用によるアークスポットの偏在防止効果を具体
的に説明する。図８に示すアークイオンプレーティング
装置４００では、カソード１５の一端１５ａに相当する
保持部１１が制御用電源２５の陽極、他端１５ｂに相当
する保持部１２が制御用電源２５の陰極に夫々接続され
ている。
【００２５】このアークイオンプレーティング装置４０
０において、制御電源２５及びカソード１５で構成され
る回路系Ｃに電流を流さずに真空アーク放電を行ったと
ころ、回路系Ａを流れる電流Ｉ1 が回路系Ｂを流れる電
流Ｉ2 よりも大きいために、目視でもアークスポットが
一端１５ａ側に偏りがちになるのが認められた。特にア
ーク電流が１５０Ａ以下のときに偏りが顕著であった。
回路系Ｃを流れる電流Ｉ3 を増大させていくと、徐々に
アークスポットの偏在が解消され、さらに電流Ｉ3 を増
大すると、アークスポットが他端１５ｂ側に偏ることが
観察できた。アーク電流が１００Ａのときには、Ｉ3 が
５〜１０Ａのときにアークスポットの偏在が解消でき
た。
０において、制御電源２５及びカソード１５で構成され
る回路系Ｃに電流を流さずに真空アーク放電を行ったと
ころ、回路系Ａを流れる電流Ｉ1 が回路系Ｂを流れる電
流Ｉ2 よりも大きいために、目視でもアークスポットが
一端１５ａ側に偏りがちになるのが認められた。特にア
ーク電流が１５０Ａ以下のときに偏りが顕著であった。
回路系Ｃを流れる電流Ｉ3 を増大させていくと、徐々に
アークスポットの偏在が解消され、さらに電流Ｉ3 を増
大すると、アークスポットが他端１５ｂ側に偏ることが
観察できた。アーク電流が１００Ａのときには、Ｉ3 が
５〜１０Ａのときにアークスポットの偏在が解消でき
た。
【００２６】以上のように、制御電源２５及びカソード
１５からなる回路系Ｃの電流値を選択することにより、
アーク放電をカソード全長にわたって均一に起こさせる
ことができる他、極性切替え自在の制御用電源２５を用
いて、Ｉ3 の大きさ及び流れる方向を所定のタイムスケ
ジュールに従って変化させることにより、アークイオン
プレーティング装置３００と同様に膜厚分布の高度な制
御が可能となる。
１５からなる回路系Ｃの電流値を選択することにより、
アーク放電をカソード全長にわたって均一に起こさせる
ことができる他、極性切替え自在の制御用電源２５を用
いて、Ｉ3 の大きさ及び流れる方向を所定のタイムスケ
ジュールに従って変化させることにより、アークイオン
プレーティング装置３００と同様に膜厚分布の高度な制
御が可能となる。
【００２７】なお、アークイオンプレーティング装置１
００〜４００において、真空チャンバー内に棒状カソー
ド１５を水平に保持しているが、本発明はこれに限らず
垂直に保持してもよい。図１のような棒状カソードを用
いた装置では、有底筒状のワークをうまく配置できない
だけでなく、ワーク毎に保持器１１、１２を取り外して
新たなワークをセットしなければならず面倒である。次
に、このような問題を解決できる本発明の他の実施例を
図９に基づいて説明する。
００〜４００において、真空チャンバー内に棒状カソー
ド１５を水平に保持しているが、本発明はこれに限らず
垂直に保持してもよい。図１のような棒状カソードを用
いた装置では、有底筒状のワークをうまく配置できない
だけでなく、ワーク毎に保持器１１、１２を取り外して
新たなワークをセットしなければならず面倒である。次
に、このような問題を解決できる本発明の他の実施例を
図９に基づいて説明する。
【００２８】図９に示すアークイオンプレーティング装
置５００では、カソードとしてＵ字状のカソード３０を
用い、ワーク３１として有底円筒状物を用いている。カ
ソード３０の両端はアーク電源３２、３３の陰極に接続
されている。両アーク電源３２、３３の陽極に接続され
るアノードは真空チャンバー３４であってもよいし、他
のものであってもよい。点弧装置３５は、その根本部分
３５ａが真空チャンバー３４に設置されていて、その先
端部分３５ｂがカソード３０の端部に接触できるように
なっている。
置５００では、カソードとしてＵ字状のカソード３０を
用い、ワーク３１として有底円筒状物を用いている。カ
ソード３０の両端はアーク電源３２、３３の陰極に接続
されている。両アーク電源３２、３３の陽極に接続され
るアノードは真空チャンバー３４であってもよいし、他
のものであってもよい。点弧装置３５は、その根本部分
３５ａが真空チャンバー３４に設置されていて、その先
端部分３５ｂがカソード３０の端部に接触できるように
なっている。
【００２９】かかる構成を有するアークイオンプレーテ
ィング装置５００において、点弧装置３５の接触切離し
動作によりアーク放電が起こる。上記実施例の場合と同
様にカソード３０両端が同電位となるように調整されて
いることから、アークスポットはカソード３０全域をラ
ンダムに移動し、アーク電源を切らない限り、カソード
３０全域にて連続的にアーク放電しているかの如く挙動
する。
ィング装置５００において、点弧装置３５の接触切離し
動作によりアーク放電が起こる。上記実施例の場合と同
様にカソード３０両端が同電位となるように調整されて
いることから、アークスポットはカソード３０全域をラ
ンダムに移動し、アーク電源を切らない限り、カソード
３０全域にて連続的にアーク放電しているかの如く挙動
する。
【００３０】図９中、３６は、カソード３０を支持し、
真空チャンバー３４と電気的に絶縁するための保持体で
ある。なお、Ｕ字状カソード３０の他、図１０に示すア
ークイオンプレーティング装置６００のように有底円筒
状のカソード４０を用いることもできる。この場合、カ
ソード４０の開口周縁部４０ａをアーク電源３２の陰極
に接続し、もう一方のアーク電源３３の陰極には、電流
導入棒４１の一端４１ａを接続する。この電流導入棒４
１は、カソード４０の内部に配置され、他端４１ｂがカ
ソード４０の底面４０ｂと螺合固定されている。このよ
うな状態においては、カソード４０の開口周縁部４０ａ
と電流導入棒４１の他端４１ａとは同電位に調整されて
いる。そして、点弧装置３５でカソード４０のある部分
を点弧消弧すると、カソード４０、アーク電源３２及び
アノードの回路系と、カソード４０、電流導入棒４１、
アーク電源３３及びアノードの回路系とが形成される。
これらの回路系に流れる電流は、上記実施例の場合と同
様に、アークスポットを一定方向に移動させるような磁
場の発生が見かけ上ないので、アークスポットがカソー
ド４０全長にわたってランダムに動き回り、カソード４
０全面から連続的にアーク放電が起こる。
真空チャンバー３４と電気的に絶縁するための保持体で
ある。なお、Ｕ字状カソード３０の他、図１０に示すア
ークイオンプレーティング装置６００のように有底円筒
状のカソード４０を用いることもできる。この場合、カ
ソード４０の開口周縁部４０ａをアーク電源３２の陰極
に接続し、もう一方のアーク電源３３の陰極には、電流
導入棒４１の一端４１ａを接続する。この電流導入棒４
１は、カソード４０の内部に配置され、他端４１ｂがカ
ソード４０の底面４０ｂと螺合固定されている。このよ
うな状態においては、カソード４０の開口周縁部４０ａ
と電流導入棒４１の他端４１ａとは同電位に調整されて
いる。そして、点弧装置３５でカソード４０のある部分
を点弧消弧すると、カソード４０、アーク電源３２及び
アノードの回路系と、カソード４０、電流導入棒４１、
アーク電源３３及びアノードの回路系とが形成される。
これらの回路系に流れる電流は、上記実施例の場合と同
様に、アークスポットを一定方向に移動させるような磁
場の発生が見かけ上ないので、アークスポットがカソー
ド４０全長にわたってランダムに動き回り、カソード４
０全面から連続的にアーク放電が起こる。
【００３１】なお、図１０におけるアークイオンプレー
ティング装置６００において、電流導入棒４１を円筒内
部に配置したが、これに限らない。また、アークイオン
プレーティング装置１００〜６００において、連続的ア
ーク放電によるカソードの過熱を防止するために、中空
のカソードを用いて、その中空部分に冷媒体を通流させ
てもよい。
ティング装置６００において、電流導入棒４１を円筒内
部に配置したが、これに限らない。また、アークイオン
プレーティング装置１００〜６００において、連続的ア
ーク放電によるカソードの過熱を防止するために、中空
のカソードを用いて、その中空部分に冷媒体を通流させ
てもよい。
【００３２】
【発明の効果】本発明のアークイオンプレーティング装
置では、一旦発生したアークスポットが一定方向に移動
せずにランダムにカソード全長にわたって動き回って、
カソード全域から蒸発が起こるので、点弧消弧を繰り返
す必要がない。従って、アークイオンプレーティング装
置は点弧消弧装置の駆動機構の信頼性に依存することが
ない。また、アークスポットの移動速度もアーク電流を
大きくすることにより変化させることができるので、容
易に蒸着能率を向上させることができる。
置では、一旦発生したアークスポットが一定方向に移動
せずにランダムにカソード全長にわたって動き回って、
カソード全域から蒸発が起こるので、点弧消弧を繰り返
す必要がない。従って、アークイオンプレーティング装
置は点弧消弧装置の駆動機構の信頼性に依存することが
ない。また、アークスポットの移動速度もアーク電流を
大きくすることにより変化させることができるので、容
易に蒸着能率を向上させることができる。
【００３３】カソードを流れる電流を調整する調節手段
を設けることにより、アークポットの偏在防止を確実に
達成して精度の高い均一膜を形成することができる他、
さらにはアークスポットの位置制御を行って、所望の膜
厚分布を有するコーティング膜を形成することもでき
る。また、Ｕ字状あるいは有底円筒状のカソードを用い
ることにより、種々の形状のワークにも適用することが
でき、しかもワークの取り替え操作が簡単に行えるの
で、作業能率が向上する。
を設けることにより、アークポットの偏在防止を確実に
達成して精度の高い均一膜を形成することができる他、
さらにはアークスポットの位置制御を行って、所望の膜
厚分布を有するコーティング膜を形成することもでき
る。また、Ｕ字状あるいは有底円筒状のカソードを用い
ることにより、種々の形状のワークにも適用することが
でき、しかもワークの取り替え操作が簡単に行えるの
で、作業能率が向上する。
【図１】第１発明の実施例の１つに係るアークイオンプ
レーティング装置１００の構成を示す図である。
レーティング装置１００の構成を示す図である。
【図２】第１発明の他の実施例に係るアークイオンプレ
ーティング装置の構成を示す概念模式図である。
ーティング装置の構成を示す概念模式図である。
【図３】第１発明の他の実施例に係るアークイオンプレ
ーティング装置２００の構成を示す図である。
ーティング装置２００の構成を示す図である。
【図４】カソード両端の電流バランスとアークスポット
の位置分布との関係を説明するための図である。
の位置分布との関係を説明するための図である。
【図５】第２発明の実施例の１つに係るアークイオンプ
レーティング装置３００の構成を示す図である。
レーティング装置３００の構成を示す図である。
【図６】制御信号ｖ1 及びｖ2 の関数パターンの一例を
示す図である。
示す図である。
【図７】第２発明の他の実施例に係るアークイオンプレ
ーティング装置の構成を示す概念模式図である。
ーティング装置の構成を示す概念模式図である。
【図８】第２発明の他の実施例に係るアークイオンプレ
ーティング装置４００の構成を示す図である。
ーティング装置４００の構成を示す図である。
【図９】第１及び第２発明の他の実施例に係るアークイ
オンプレーティング装置５００の構成を示す図である。
オンプレーティング装置５００の構成を示す図である。
【図１０】第１及び第２発明の他の実施例に係るアーク
イオンプレーティング装置６００の構成を示す図であ
る。
イオンプレーティング装置６００の構成を示す図であ
る。
【図１１】従来の棒状カソードを用いたアークイオンプ
レーティング装置の構成を示す図である。
レーティング装置の構成を示す図である。
１０ 真空チャンバー １３ アーク電源 １４ アーク電源 １５ カソード １７ ワーク １９ アーク電源 ２０ 電流調整器 ２２ 電圧コントローラ ２５ 制御用電源 ３０ Ｕ字状カソード ３１ ワーク ３２ アーク電源 ３３ アーク電源 ３４ 真空チャンバー ４０ 有底円筒状カソード ４１ 電流導入棒
Claims (8)
- 【請求項１】 真空容器内でアノードとカソードとの間
にアークを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワーク
に前記カソードの構成成分をコーティングするアークイ
オンプレーティング装置において、 前記カソードの長手方向の両端が略同電位となるように
該カソードの両端がアーク電源の陰極に夫々接続されて
いることを特徴とするアークイオンプレーティング装
置。 - 【請求項２】 真空容器内でアノードとカソードとの間
にアークを発生させて前記カソードを蒸発させ、ワーク
に前記カソードの構成成分をコーティングするアークイ
オンプレーティング装置において、 前記カソードの長手方向の両端がアーク電源の陰極に夫
々接続されていて、且つ前記カソードの両端を流れる電
流値を調節する調節手段を備えていることを特徴とする
アークイオンプレーティング装置。 - 【請求項３】 調節手段はアーク電源とは別に設けられ
た制御用電源であって、該制御用電源の陽極及び陰極が
それぞれカソードの一端及び他端に接続されていること
を特徴とする請求項２に記載のアークイオンプレーティ
ング装置。 - 【請求項４】 調節手段は、カソード端部とアーク電源
との間に印加される電圧を制御信号により制御する電圧
コントローラであることを特徴とする請求項２に記載の
アークイオンプレーティング装置。 - 【請求項５】 カソードが棒状体であることを特徴とす
る請求項１〜４のいずれかに記載のアークイオンプレー
ティング装置。 - 【請求項６】 カソードがＵ字状に形成され、該Ｕ字状
カソードの一対の端部がアーク電源の陰極に夫々接続さ
れていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項
に記載のアークイオンプレーティング装置。 - 【請求項７】 カソードが有底筒状に形成され、該カソ
ードの開口周縁部及び閉塞部が夫々アーク電源の陰極に
接続されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれ
か１項に記載のアークイオンプレーティング装置。 - 【請求項８】 有底筒状のカソードの閉塞部とアーク電
源の陰極とを接続する接続部材が、筒内部に配置されて
いることを特徴とする請求項７に記載のアークイオンプ
レーティング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00937093A JP3243312B2 (ja) | 1992-02-20 | 1993-01-22 | アークイオンプレーティング装置 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3373392 | 1992-02-20 | ||
| JP20398792 | 1992-07-30 | ||
| JP4-33733 | 1992-07-30 | ||
| JP4-203987 | 1992-07-30 | ||
| JP00937093A JP3243312B2 (ja) | 1992-02-20 | 1993-01-22 | アークイオンプレーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693433A true JPH0693433A (ja) | 1994-04-05 |
| JP3243312B2 JP3243312B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=27278449
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00937093A Expired - Lifetime JP3243312B2 (ja) | 1992-02-20 | 1993-01-22 | アークイオンプレーティング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3243312B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103469166A (zh) * | 2013-10-12 | 2013-12-25 | 武汉大学 | 一种集成式阴极电弧靶 |
| CN107227445A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-03 | 曲士广 | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 |
| CN110042349A (zh) * | 2019-04-28 | 2019-07-23 | 吉林大学 | 一种多弧离子镀阴极装置 |
-
1993
- 1993-01-22 JP JP00937093A patent/JP3243312B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103469166A (zh) * | 2013-10-12 | 2013-12-25 | 武汉大学 | 一种集成式阴极电弧靶 |
| CN107227445A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-03 | 曲士广 | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 |
| CN107227445B (zh) * | 2017-07-24 | 2019-01-25 | 曲士广 | 一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备 |
| CN110042349A (zh) * | 2019-04-28 | 2019-07-23 | 吉林大学 | 一种多弧离子镀阴极装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3243312B2 (ja) | 2002-01-07 |
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| RU2098512C1 (ru) | Вакуумно-дуговой источник плазмы |
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