CN103420165A - 一种基片传输装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基片传输装置。为了解决现有的基片接触式传输系统平稳性和可靠性不高的问题，所述基片传输装置包括磁轨，悬浮于磁轨上方的承载基片用的基片载体，位于基片载体至少一侧的由驱动装置驱动转动的传动轮，所述传动轮与基片载体侧壁之间具有间隙；周向装有磁铁的所述传动轮驱动至少一侧面上装有磁铁的所述基片载体沿磁轨的长度方向移动。本发明采用非接触式全自动传送，确保基片可以平稳、快速的在各工艺腔室内的传送，同时不会造成颗粒污染。

Description

一种基片传输装置
技术领域
本发明涉及一种基片传输装置，尤其涉及一种适用于真空系统中非接触式传送基片的传输装置。
背景技术
随着科学技术的迅猛发展，对工业工艺要求日益增高，真空技术在高科技产业化的发展中展现出广阔的应用前景，尤其体现在对真空环境要求极高的数码显示面板产业中。如有机发光显示器件(OLED，Organic Light-Emitting Diode) 面板的有机物蒸镀制程，在大尺寸玻璃基板上沉积有机膜层，其沉积掩膜精度为微米级，若沉积过程中存在颗粒污染，就会造成局部显示盲点，造成器件不合格，严重影响产品良品率。由于此类制程的工艺要求比较严格，即必须在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行，因此，有必要提供一种高清洁度、无污染、能够平稳以及具有较高可靠性的真空基片传输装置。
发明内容
为了克服现有的基片接触式传输系统平稳性和可靠性不高的不足，本发明旨在提供一种基片传输装置，该基片传输装置采用非接触式全自动传送，确保基片可以平稳、快速的在各工艺腔室内的传送，同时不会造成颗粒污染。
本发明进一步的目的是实现在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行平稳、快速的非接触式传送。
为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：
一种基片传输装置，其结构特点是，包括磁轨，悬浮于磁轨上方的承载基片用的基片载体，位于基片载体至少一侧的由驱动装置驱动转动的传动轮，所述传动轮与基片载体侧壁之间具有间隙；周向装有磁铁的所述传动轮驱动至少一侧面上装有磁铁的所述基片载体沿磁轨的长度方向移动。
由此，基片载体在传动轮的带动下，沿着磁轨悬浮移动，从而实现基片在基片载体可以沿着磁轨的长度方向平稳、快速的在各工艺腔室内的传送。
以下为本发明的进一步改进的技术方案：
根据本发明的实施例，为了基片载体平稳运行，所述磁轨为两排平行布置的磁体；所述基片载体下侧面设有与磁轨上侧面磁极相同的基片载体底部磁体，从而利用同性磁铁相斥的原理，实现悬浮的目的。更进一步地，所述磁轨的纵截面呈等腰梯形，所述基片载体底部磁体呈倒U形，所述磁轨与基片载体的U型永磁体对中布置，且倒U形开口两端磁极相同并向内倒角。
为了保证基片载体运行的平稳性，所述基片载体两侧面上均设有多个基片载体侧面磁铁。更进一步地，同一侧面的相邻两个所述基片载体侧面磁铁朝外的磁极相反，可以使得传动轮上的磁铁对基片载体产生一推一吸的目的，驱动基片载运动。
根据本发明的实施例，所述基片载体两侧均设有传动轮，每个传动轮周向设有多个永磁体，相邻的两个永磁体朝外的磁极相反，且传动轮上的相邻两个永磁体的展开间距与基片载体侧面相邻两个永磁体的间距相同。
为了更好地使传动轮对基片载体产生一推一吸的效果，所述基片载体两侧均设有多个传动轮，每个传动轮与基片载体侧面某相邻两个永磁体之间中点的距离最短。
更进一步地，所述磁轨、基片载体、传动轮均位于一真空腔体内，从而实现在真空状态下以及完全洁净的空间环境中进行平稳、快速的非接触式传送。
藉由上述结构，本发明所述的一种基片传输装置主要用于基片在各真空工艺腔室中传输，包括驱动装置、磁轨、传动轮以及承载基片用的基片载体。所述基片载体底部布置有两排永磁体，单个永磁体呈U型，开口向下，且开口两边磁极相同，并向内倒角。所述基片载体运动方向两侧面布置有对称的若干永磁体，均匀分布，且相邻的两个永磁体朝外的磁极相反。所述传动轮与驱动装置相连，对称均匀分布在基片载体两侧，接近基片载体但不直接接触，传动轮上四周均布有若干永磁体，相邻的两个永磁体朝外的磁极相反，且永磁体展开间距与基片载体上的侧面永磁体间距相同。所述磁轨分两排，对应分布在基片载体下方，截面形状上窄下宽，与基片载体底部U型永磁体对中布置，且近端磁极相同。
本发明基片传输装置是利用磁轨与基片载体底部的U型永磁体近端磁极相同的斥力，将装载有基片的基片载体悬空浮在磁轨上方一定距离，同时因为U型永磁体与磁轨的梯形结构对中，可确保基片载体不会左右偏移。基片载体的运动动力是依靠驱动装置带动基片载体两侧的传动轮相对同步旋转，传动轮上某一永磁体正对基片载体时，刚好位于基片载体上两个永磁体中间位置，且传动轮上永磁体朝基片载体方向的磁极与基片载体上位于其两侧的两个永磁体磁极一个相同，一个相反，利用同性磁极相斥，异性磁极相吸的原理，传动轮上的永磁体将基片载体上其中一个永磁体向远离方向推，另一个永磁体则受吸引而靠近，随着传动轮的转动，传动轮上的每一个永磁体在接近基片载体时都会给基片载体一个向前的动力，将基片载体向前推进，实现基片在真空腔体内平稳、无污染传输。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明基片载体在真空腔体内是依靠磁力的作用悬浮和前进，不会与任何零部件物理接触，实现了非接触式传输，不会造成颗粒污染，可以为基片提供一种高洁净度的工艺环境，平稳的实现真空腔体内基片的传送，提高真空工艺设备成品率。
附图说明
图1是本发明一个实施例的结构原理图；
图2是图1的俯视图；
图3是图1的局部放大图。
在图中
1-传动轮；   2-基片载体；   3-磁轨； 101-传动轮永磁体；
201-基片载体底部永磁体；   202-基片载体侧方永磁体。
具体实施方式
下面结合附图详细说明本发明的实施例。需要说明的是附图序号只表示本实施例的主要零部件，其它没有一一列出。
一种基片传输装置，如图1~3所示，用于基片在各真空工艺腔室中传输，包括驱动装置（图上未示）、传动轮1、磁轨3以及承载基片用的基片载体2。所述基片载体2底部布置有两排永磁体201，单个永磁体呈U型，开口向下，且开口两边磁极相同，并向内倒角。所述基片载体2运动方向两侧面布置有对称的若干永磁体202，均匀分布，且相邻的两个永磁体202朝外的磁极相反。所述传动轮1与驱动装置相连，对称均匀分布在基片载体2两侧，接近基片载体2但不直接接触，传动轮1四周均布有若干永磁体101，相邻的两个永磁体101朝外的磁极相反，且永磁体101展开间距与基片载体2上的侧面永磁体202间距相同。所述磁轨3分两排，对应分布在基片载体2下方，截面形状上窄下宽，与基片载体2底部U型永磁体201对中布置，且近端磁极相同。
本发明基片传输装置是利用磁轨3与基片载体2底部的U型永磁体201近端磁极相同的斥力，将装载有基片的基片载体2悬空浮在磁轨3上方一定距离，同时因为U型永磁体201与磁轨3的结构对中，磁性斥力除了可以将基片载体2悬浮外，还会有左右方向的分斥力，若两者位置发生左右偏移，左右方向的分斥力就不会平衡，自动将永磁体201与磁轨3对中，可确保基片载体2不会左右偏移。基片载体2的运动动力是依靠驱动装置带动基片载体2两侧的若干传动轮1相对同步旋转，传动轮1上某一永磁体101正对基片载体2时，刚好位于基片载体2上两个永磁体202中间位置，且传动轮1上永磁体101朝基片载体2方向的磁极与基片载体2上位于其两侧的两个永磁体202磁极一个相同，一个相反，利用同性磁极相斥，异性磁极相吸的原理，传动轮1上的永磁体101将其中一个永磁体202向远离方向推，另一个永磁体202则受吸引而靠近，随着传动轮1的转动，传动轮1上的每一个永磁铁101在接近基片载体2时都会给基片载体2一个向前的动力，将基片载体2向前推进，实现基片在真空腔体内平稳、匀速、无污染传输。
本发明基片载体在真空腔体内是依靠磁力的作用悬浮和前进，不会与任何零部件物理接触，实现了非接触式传输，不会造成颗粒污染，可以为基片提供一种高洁净度的工艺环境，平稳、快速的实现真空腔体内基片的传送，提高真空工艺设备成品率。
上述实施例阐明的内容应当理解为本实施例仅用于更清楚地说明本发明，而不用于限制本发明的范围，在阅读了本发明之后，本领域技术人员对本发明的各种等价形式的修改均落于本申请所附权利要求所限定的范围。

Claims (8)

1. 一种基片传输装置，其特征在于，包括磁轨（3），悬浮于磁轨（3）上方的承载基片用的基片载体（2），位于基片载体（2）至少一侧的由驱动装置驱动转动的传动轮（1），所述传动轮（1）与基片载体（2）侧壁之间具有间隙；周向装有磁铁（101）的所述传动轮（1）驱动至少一侧面上装有磁铁（202）的所述基片载体（2）沿磁轨（3）的长度方向移动。
2. 根据权利要求1所述的基片传输装置，其特征在于，所述磁轨（3）为两排平行布置的磁体；所述基片载体（2）下侧面设有与磁轨（3）上侧面磁极相同的基片载体底部磁体（201）。
3. 根据权利要求1所述的基片传输装置，其特征在于，所述基片载体（2）两侧面上均设有多个基片载体侧面磁铁（202）。
4. 根据权利要求2所述的基片传输装置，其特征在于，所述磁轨（3）的纵截面呈等腰梯形，所述基片载体底部磁体（201）呈倒U形，所述磁轨（3）与基片载体（2）的U型永磁体对中布置，且倒U形开口两端磁极相同并向内倒角。
5. 根据权利要求3所述的基片传输装置，其特征在于，同一侧面的相邻两个所述基片载体侧面磁铁（202）朝外的磁极相反。
6. 根据权利要求1所述的基片传输装置，其特征在于，所述基片载体（2）两侧均设有传动轮（1），每个传动轮（1）周向设有多个永磁体（101），相邻的两个永磁体（101）朝外的磁极相反，且传动轮（1）上的相邻两个永磁体（101）的展开间距与基片载体（2）侧面相邻两个永磁体（202）的间距相同。
7. 根据权利要求1所述的基片传输装置，其特征在于，所述基片载体（2）两侧均设有多个传动轮（1），每个传动轮（1）与基片载体（2）侧面某相邻两个永磁体（202）之间中点的距离最短。
8. 根据权利要求1~7之一所述的基片传输装置，其特征在于，所述磁轨（3）、基片载体（2）、传动轮（1）均位于一真空腔体内。
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