CN103397488A - 阳光显色布料 - Google Patents

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沈美英
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WUJIANG YUEYANG TEXTILE Co Ltd
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WUJIANG YUEYANG TEXTILE Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种阳光显色布料的制造方法,该方法是让布料一面与空气接触,另一面贴于印刷喷头上,染料分布于胶水基质中,印染时,压缩空气携带染料从喷口高速喷出,同时送布器完成送布操作,将印染后的布料送入干燥室干燥,使图案固化。通过上述方式,本发明采用高压喷射技术将显色墨水印在布料上,具有图案可定制,变色性好、图案可逆、耐清洗、暴晒不退色,最终成品手感舒适,满足人们的个性化需求。

Description

阳光显色布料
技术领域
本发明涉及印染领域,特别是涉及一种阳光显色布料印染。 
背景技术
随着人们对个性化以及不同引用场合的不同应用需求,各种质地,图案,功能的布料层出不穷。人们对个性化需求突出的今天,现有的布料印染由于采用固定色彩图案已经无法很好满足日益增长的个性化服饰需求。 
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种印染方法,通过在普通布料上印制可变色染料来实现服装的颜色图案可变化,,通过伺服电机和同步带轮实现刀架的准确换刀,具有图案可定制,显色性好、耐清洗、暴晒不退色等优点,满足人们的个性化需求。 
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种印染方式,包括:让布料一面与空气接触,另一面贴于印刷喷头上,染料分布于胶水基质中,印染时,压缩空气携带染料从喷口高速喷出,同时送布器完成送布操作,将印染后的布料送入干燥室干燥。使图案固化。 
在本发明一个较佳实施例中,所述印刷喷头利用高速喷出的气流完成将染料吸出并高度雾化。 
在本发明一个较佳实施例中,所述压缩空气压力在15MPa左右。 
在本发明一个较佳实施例中,所述布料将在干燥室以70℃热风干燥10分钟。 
  
本发明的有益效果是:本发明阳光显色布料的制造方法图案可定制,变色性好、图案可逆、耐清洗、暴晒不退色,最终成品手感舒适,满足人们的个性化需求。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中: 
图1是本发明的刀架本体一较佳实施例的结构示意图;
附图中各部件的标记如下:1、空气压缩机,2、调压阀,3、印刷喷头,4、负压收集器,5、送布器,6、干燥室,7、热风喷头,8、排气管道,9、布料。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。 
请参阅图1至,本发明实施例包括: 
提供一种印染方式,包括:让布料9一面与空气接触,另一面贴于印刷喷头3上,染料分布于胶水基质中,印染时,压缩空气携带染料从喷口高速喷出,同时送布器5完成送布操作,将印染后的布料送入干燥室6干燥。使图案固化。
在本发明一个较佳实施例中,所述印刷喷头利用高速喷出的气流完成将染料吸出并高度雾化。 
在本发明一个较佳实施例中,所述压缩空气压力在15MPa左右。 
在本发明一个较佳实施例中,所述布料将在干燥室以70℃热风干燥10分钟。 
本发明电动刀架的有益效果是: 
一、通过打印的方式印染图案可以定制;
二、采用卤化银和氧化铜,光照下变色快,颜色可逆;
三、耐清洗,不退色,手感舒适;
四、可满足人们对于服装个性化的需求。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。 

Claims (4)

1.一种印染方法,其特征在于,包括:布料一面与空气接触,另一面贴于印刷喷头上,染料分布于胶水基质中,印染时,压缩空气携带染料从喷口高速喷出,同时送布器完成送布操作,将印染后的布料送入干燥室干燥。
2.根据权利要求1所述的印染方法,其特征在于,所述压缩空气压力在15MPa左右。
3.根据权利要求1所述的印染方法,其特征在于,所述染料为树脂包裹的卤化银和氧化铜微颗粒同胶水基质形成的乳浊液。
4.根据权利要求2所述的印染方法,其特征在于,所述微颗粒的大小在5-15μm。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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