CN103327720B - 可透视静电吸板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种可透视静电吸板，其主要是由可透视板体上直接形成蚀刻电路部，并再覆盖设置可透视绝缘覆膜层所构成，于该可透视板体及可透视绝缘覆膜层之间的蚀刻电路部导通高压电流，电荷无法导通释放的情况下产生静电，藉此静电吸附对象；本发明可透视板体本身可透视的特性能便于进行对合作业的检视，不仅能提高作业检视的方便性，更能降低对合精度不良的问题，提升产品良率。

Description

可透视静电吸板
技术领域
本发明涉及一种可透视静电吸板，其是与可吸附对象结构有关。
背景技术
一般的静电吸板如图1所示，该静电吸板10包含一基板11、一吸附板12以及一电路板13，该吸附板12以绝缘的PVC材质所制成，该吸附板12包覆于该电路板13外，而该基板11则固定于该吸附板12的一侧。
藉由外部电路导电于该电路板13，使该吸附板12积存电荷而产生静电以吸附对象，而普通的静电吸板10的基板11通常由无法透视的材质所制成，而该静电吸板10又时常被使用于贴合半导体基板的制程，而在贴合半导体基板时，半导体基板的对位准确度非常重要，普通静电吸板10的无法透视的基板11将会提高半导体基板的对位困难度。
另外，在导电于电路板13的过程中，由于电路板13通电时会产生热，而有可能使PVC材质的吸附板12产生挠曲变形的状况产生，此时，该基板11便能支撑该吸附板12确保该吸附板12不会产生变形，由此可知，该静电吸板10必须倚赖另外的设置的基板11提供支撑确保不会变形，如此使得该静电吸板的结构组成较为繁杂，生产的工序相对增加，亦无法提供高收益的经济价值。
发明内容
本发明提供一种可透视静电吸板，其主要目的是解决普通静电吸板结难以进行透视对位的问题；而次要目的则能改善普通静电吸板结构的结构组成繁多而生产工序繁杂的问题。
为解决上述问题，本发明提供一种可透视静电吸板，由一可透视板体、一可透视绝缘覆膜层及二电端口所构成，其中：
该可透视板体的一面上形成二蚀刻电路部，该可透视板体为可透视并绝缘的材质所制成；
各该电端口电性连接各该蚀刻电路部；以及
该可透视绝缘覆膜层覆盖设置于该可透视板体具有蚀刻电路部的一面上，并使各该电端口均外露。
所述的可透视静电吸板，其中，该可透视板体为玻璃板。
所述的可透视静电吸板，其中，该可透视板体为压克力板。
本发明藉由可透视板体上直接形成蚀刻电路部，便于两透视板体对合作业时的对合，提高作业检视的方便性，能降低对合精度不良的问题，提升了产品良率。
附图说明
图1为普通静电吸板的示意图；
图2为本发明可透视静电吸板的侧视图；
图3为本发明可透视静电吸板的俯视图。
附图标记说明
10是静电吸板11是基板
12是吸附板13是电路板
20是可透视板体21是蚀刻电路部
30是可透视绝缘覆膜层40是电端口
具体实施方式
本发明可透视静电吸板的较佳实施例如图2、3所示，该可透视静电吸板由一可透视板体20、一可透视绝缘覆膜层30以及二电端口40所构成，其中：
该可透视板体20为可透视且绝缘的材质所制成，且该可透视板体20一面上形成二蚀刻电路部21，本实施例的可透视板体20为玻璃板或压克力板；
该电端口40电性连接各该蚀刻电路部21；以及
该可透视绝缘覆膜层30覆盖设置于该可透视板体20具有蚀刻电路部21的一面上，并使各该电端口40外露，各该电端口40供以电性连接电力源，本实施例可透视绝缘覆膜层30为透明、绝缘性佳且与玻璃黏着性强的胶体。
以上为本发明可透视静电吸板的结构关系，而该静电吸板使用时，可藉由各电端口40分别电性连接电力源的正、负极，藉由电端口40输出电力至该蚀刻电路部21，而该蚀刻电路部21受包覆于该可透视板体20本身及该可透视绝缘覆膜层30之间，如此使得电力没有任何可导通电力的对象可释放，如此，便会使得该可透视板体20因电荷的留滞积聚而产生静电，则本发明可透视静电吸板即能凭借静电作对象的吸附动作。
而由上述说明可知，本发明可提供静电吸附对象的能力，且本发明产生静电的对象为该可透视板体20，而静电吸板时常被使用于贴合两半导体基板的动作，当使用两个本发明可透视静电吸板进行两半导体基板对合的动作时，将两个半导体基板分别吸附于一个该可透视板体20，而当两个该可透视板体20相对合时，由于该可透视板体20为可透视的材质制成，因此，操作者便可由该可透视板体20透视检视两半导体基板是否正确对准贴合，能便于操作者进行对合检视的作业，且同时能降低对合精度不良的问题，提升了产品良率。
而当本发明可透式板体20为玻璃所制成时，则该可透视板体20本身即具有绝缘及不会受热变形的特性，因此本发明可透视静电吸板更不需凭借其他构件以作为支撑，能确实简化整体结构组成，且本发明的蚀刻电路部21又是直接蚀刻成形于该可透视板体20上，因此本发明可透视静电吸板是具有较普通静电吸板较薄的结构厚度，减小静电吸板整体所占空间。

Claims (3)

1.一种可透视静电吸板，由一可透视板体、一可透视绝缘覆膜层及二电端口所构成，其特征在于：
该可透视板体的一面上形成二蚀刻电路部，该可透视板体为可透视并绝缘的材质所制成；
各该电端口电性连接各该蚀刻电路部；以及
该可透视绝缘覆膜层覆盖设置于该可透视板体具有蚀刻电路部的一面上，并使各该电端口均外露。
2.如权利要求1所述的可透视静电吸板，其特征在于：所述可透视板体为玻璃板。
3.如权利要求1所述的可透视静电吸板，其特征在于：所述可透视板体为压克力板。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1445588A (zh) * 2002-03-20 2003-10-01 Lg.菲利浦Lcd株式会社 粘合机中的工作台结构及其控制方法
JP2004207644A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Toto Ltd 静電チャック及びこれを用いた貼合わせ基板製造装置
CN1525547A (zh) * 2003-01-31 2004-09-01 株式会社巴川制纸所 静电吸盘装置用电极板和使用它的静电吸盘装置
CN101180721A (zh) * 2005-05-24 2008-05-14 Toto株式会社 静电吸盘

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI242255B (en) * 2004-07-21 2005-10-21 Touch Micro System Tech Wafer carrier
DE102008022792A1 (de) * 2008-05-08 2009-11-26 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Elektrostatisches Halteelement mit Antireflexbeschichtung, Vermessungsverfahren und Verwendung des Halteelementes

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1445588A (zh) * 2002-03-20 2003-10-01 Lg.菲利浦Lcd株式会社 粘合机中的工作台结构及其控制方法
JP2004207644A (ja) * 2002-12-26 2004-07-22 Toto Ltd 静電チャック及びこれを用いた貼合わせ基板製造装置
CN1525547A (zh) * 2003-01-31 2004-09-01 株式会社巴川制纸所 静电吸盘装置用电极板和使用它的静电吸盘装置
CN101180721A (zh) * 2005-05-24 2008-05-14 Toto株式会社 静电吸盘

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
中能离子注入机用静电吸盘;肖仁耀 孙雪平;《微细加工技术》;20071231(第6期);5-7 *
干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响;董家伟 黄其煜;《电子与封装》;20090331;第9卷(第3期);32-35 *

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