CN103235659A - 一种触摸面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种触摸面板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，解决了现有的触摸面板制作成本高的问题。一种触摸面板，包括：第一传感电极层、第二传感电极层以及位于所述第一传感电极层和第二传感电极层之间的绝缘层，其中，第一传感电极层包括：第一传感电极图案；第二传感电极层包括：第二传感电极图案；绝缘层包括：绝缘图案，其中，所述绝缘图案与所述第一传感电极图案或第二传感电极图案相同。本发明适用于显示装置的设计和制造。

Description

一种触摸面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触摸面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
触摸屏(touch screen)又称为“触控屏”，是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。它赋予了多媒体以崭新的面貌，极大的方便了人们的生活，是极富吸引力的全新多媒体交互设备。
触摸屏主要是通过触摸面板实现触摸功能，如图1、图2所示，现有的触摸面板包括基板1、设置在所述基板1上的多排沿第一方向的第一传感电极图案2以及多排沿第二方向的第二传感电极图案4，且在所述第一传感电极图案2和所述第二传感电极图案4之间设置有绝缘图案3，以使得第一传感电极图案2和第二传感电极图案4绝缘。其中，触摸面板在制备的过程中，第一传感电极图案、第二传感电极图案和绝缘图案分别通过一次曝光形成，且每次曝光分别使用一张掩膜板，制作成本高。
发明内容
本发明的实施例提供一种触摸面板及其制作方法、显示装置，所述触摸面板的绝缘层可以与第一传感电极层或第二传感电极层使用同一掩膜板，减少了一张掩膜板，节省了成本。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
本发明提供了一种触摸面板，包括：第一传感电极层、第二传感电极层以及位于所述第一传感电极层和第二传感电极层之间的绝缘层，其中，第一传感电极层包括：第一传感电极图案；第二传感电极层包括：第二传感电极图案；绝缘层包括：绝缘图案，其中，所述绝缘图案与所述第一传感电极图案或第二传感电极图案相同。
本发明提供了一种制作本发明提供的触摸面板的制作方法，包括：形成所述第一传感电极层、形成所述绝缘层以及形成所述第二传感电极层的步骤；其中，形成所述第一传感电极层和所述绝缘层使用同一掩膜板，或者形成所述绝缘层和所述第二传感电极层使用同一掩膜板。
可选的，所述绝缘层与所述第一传感电极层或所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成。
可选的，所述绝缘层与所述第一传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
在基板上形成第一传感电极薄膜；
在基板上形成绝缘薄膜；
在制作有第一传感电极薄膜和绝缘薄膜的基板上，涂布光刻胶；
利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应第一传感电极图案和绝缘图案，其余部分的光刻胶被完全去除；
刻蚀第一传感电极薄膜和绝缘薄膜未覆盖光刻胶的区域；
将光刻胶剥离。
可选的，所述绝缘层与所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
在基板上形成绝缘薄膜；
在基板上形成第二传感电极薄膜；
在制作有绝缘薄膜和第二传感电极薄膜的基板上，涂布光刻胶；
利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应绝缘图案和第二传感电极图案，其余部分的光刻胶被完全去除；
刻蚀绝缘薄膜和第二传感电极薄膜未覆盖光刻胶的区域；
将光刻胶剥离。
可选的，所述掩膜板包括：全透光区域和不透光区域；
若所述光刻胶为正性光刻胶，则所述掩膜板的不透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述透光区域对应的光刻胶被完全去除；或者，
若所述光刻胶为负性光刻胶，则所述掩膜板的透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述不透光区域对应的光刻胶被完全去除。
本发明提供了一种显示装置，包括本发明提供的触摸面板。
本发明实施例提供的一种触摸面板及其制作方法、显示装置，所述触摸面板上的绝缘图案与第一传感电极图案或第二传感电极图案相同，则在制作所述触摸面板时，使用同一掩膜板形成所述绝缘图案和所述第一传感电极图案，或使用同一掩膜板形成所述绝缘图案和所述第二传感电极图案，相对于现有技术，减少了一张掩膜板，节省了成本。
附图说明
图1为现有技术中的触摸面板俯视结构示意图；
图2为图1所示触摸面板的剖视结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种触摸面板的剖视结构示意图；
图4为本发明实施例提供的另一种触摸面板的剖视结构示意图；
图5为本发明实施例提供的一种利用一次构图工艺形成所述第一传感电极层和绝缘层的示意图；
图6为本发明实施例提供的一种利用一次构图工艺形成所述绝缘层和第二传感电极层的示意图；
附图标记：
1-基板；2-第一传感电极图案；3-绝缘图案；4-第二传感电极图案。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
本发明实施例提供了一种触摸面板，包括：第一传感电极层、第二传感电极层以及位于所述第一传感电极层和第二传感电极层之间的绝缘层，其中，第一传感电极层包括：第一传感电极图案；第二传感电极层包括：第二传感电极图案；绝缘层包括：绝缘图案，其中，所述绝缘图案与所述第一传感电极图案或第二传感电极图案相同。
需要说明的是，在本发明所有实施例中，需要阐明“薄膜”、“层”以及“图案”的定义，以及之间的关系。其中，“薄膜”是指利用某一种材料在基板上利用沉积或其他工艺制作出的一层薄膜。若在整个制作过程当中该“薄膜”无需构图工艺，则该“薄膜”还可以称为“层”；若在整个制作过程当中该“薄膜”还需构图工艺，则在构图工艺前称为“薄膜”，构图工艺后称为“层”。经过构图工艺后的“层”中包含至少一个薄膜“图案”。
示例的，上述第一传感电极层可以是在透明基板上沉积ITO(Indium tinoxide，氧化铟锡)薄膜，并经过一次构图工艺形成第一传感电极图案。所谓“构图工艺”是将薄膜形成包含至少一个图案的层的工艺；而构图工艺通常包含：在薄膜上涂胶，利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光，再利用显影液将需去除的光刻胶冲蚀掉，再刻蚀掉未覆盖光刻胶的薄膜部分，最后将剩下的光刻胶剥离。而在本发明所有实施例中，“一次构图工艺”是指经过一次曝光形成所需要的层结构工艺。
具体的，所述绝缘图案与所述第一传感电极图案或第二传感电极图案相同，则所述绝缘层可以与所述第一传感电极层或第二传感电极层通过一次构图工艺形成，进而可以减少曝光的次数。其中，所述绝缘图案3与所述第一传感电极图案2相同，即如图3所示；所述绝缘图案3与所述第二传感电极图案4相同，即如图4所示。
需要说明的是，本发明实施例提供的触摸面板还可以包括其他薄膜或层结构，例如，所述触摸面板还可以包括黑矩阵膜层和彩色膜层等。由于设置其他薄膜或层结构与本发明的发明点无关，本发明实施例就不作赘述，只需参照现有技术即可。
本发明实施例提供的一种触摸面板，所述触摸面板上的绝缘图案和第一传感电极图案或第二传感电极图案相同，则在制作所述触摸面板时，使用同一掩膜板形成所述绝缘图案和所述第一传感电极图案，或使用同一掩膜板形成所述绝缘图案和所述第二传感电极图案，相对于现有技术，减少了一张掩膜板，节省了成本。
本发明实施例提供了一种如本发明实施例提供的触摸面板的制作方法，包括：形成所述第一传感电极层、形成所述绝缘层以及形成所述第二传感电极层的步骤；其中，形成所述第一传感电极层和所述绝缘层使用同一掩膜板，或者形成所述绝缘层和所述第二传感电极层使用同一掩膜板。
具体的，形成第一传感电极层、形成绝缘层和形成第二传感电极层，分别是通过一次构图工艺形成的，即分别要进行沉积薄膜、涂布光刻胶、利用掩膜板对所述光刻胶进行曝光和显影、刻蚀和剥膜等步骤。则若所述绝缘图案与所述第一传感电极图案相同，可以利用同一掩膜板形成所述第一传感电极层和所述绝缘层；或者，若所述绝缘图案与所述第二传感电极图案形同，可以利用同一掩膜板形成所述绝缘层和所述第二传感电极层。相对于现有技术，减少了绝缘层的掩膜板，节省了生产成本。
优选的，所述绝缘层与所述第一传感电极层或所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成。这样进一步的可以缩短生产的周期。
具体的，如图5所示，所述绝缘层与所述第一传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
步骤S101、在基板上形成第一传感电极薄膜。
具体的，可以是在透明基板上通过沉积的方式形成ITO透明薄膜，其中，形成所述第一传感电极的材料还可以是其他物质，例如还可以是ZnO(氧化锌)或AZO(参杂有铝的氧化锌)等。本发明实施例中以形成所述第一传感电极和第二传感电极的材料均为ITO为例进行详细说明。
步骤S102、在基板上形成绝缘薄膜。
具体的，可以是在形成有所述第一传感电极薄膜的基板上经过沉积的方式形成SiNx(氮化硅)薄膜，其中，形成所述绝缘薄膜的材料还可以是其他物质，例如还可以是二氧化硅等。本发明实施例中以形成所述绝缘薄膜的材料为氮化硅为例进行详细说明。
步骤S103、在制作有第一传感电极薄膜和绝缘薄膜的基板上，涂布光刻胶。
需要说明的是，所述掩膜板包括：全透光区域和不透光区域；
若所述光刻胶为正性光刻胶，则所述掩膜板的不透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述透光区域对应的光刻胶被完全去除；或者，
若所述光刻胶为负性光刻胶，则所述掩膜板的透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述不透光区域对应的光刻胶被完全去除。本发明实施例中以所述光刻胶为正性光刻胶为例进行详细说明。
步骤S104、利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应第一传感电极图案和绝缘图案，其余部分的光刻胶被完全去除。
其中，若所述光刻胶为正性光刻胶，则所述掩膜板对应的不透光区域对应光刻胶保留部分，即对应第一传感电极图案和绝缘图案。若所述光刻胶为负性光刻胶，则所述掩膜板对应的透光区域对应光刻胶保留部分，即对应第一传感电极图案和绝缘图案。
步骤S105、刻蚀第一传感电极薄膜和绝缘薄膜未覆盖光刻胶的区域。
具体的，第一传感电极薄膜未覆盖光刻胶的区域可以是通过湿法刻蚀，即通过刻蚀液将第一电极薄膜未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉；绝缘薄膜可以是通过干法刻蚀，即通过气体轰击将绝缘薄膜未覆盖光刻胶的区域刻蚀掉。
步骤S106、将光刻胶剥离。
需要说明的是，以上只是触摸面板的部分制作步骤只是制作第一传感电极层和绝缘层的步骤，而不是全部步骤，且当所述触摸面板还设置有其他薄膜或层结构时，可以参照本发明实施例提供的制作方法以及现有技术中其他薄膜或层结构的制作方法，在此不作赘述。
可选的，如图6所示，所述绝缘层与所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
步骤S201、在基板上形成绝缘薄膜。
具体的，可以是在形成有第一传感电极的基板上通过沉积的方式形成SiNx薄膜。
步骤S202、在基板上形成第二传感电极薄膜。
具体的，可以是在形成有绝缘薄膜的基板上通过沉积的方式形成ITO透明薄膜。
步骤S203、在制作有绝缘薄膜和第二传感电极薄膜的基板上，涂布光刻胶。
具体的，上述步骤S203在制作有绝缘薄膜和第二传感电极薄膜的基板上，涂布光刻胶可参照上述步骤S103在制作有第一传感电极薄膜和绝缘薄膜的基板上，涂布光刻胶。
步骤S204、利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应绝缘图案和第一传感电极图案，其余部分的光刻胶被完全去除。
具体的，上述步骤S204可按照上述步骤S104。
步骤S205、刻蚀绝缘薄膜和第二传感电极薄膜未覆盖光刻胶的区域。
具体的，步骤S205刻蚀位于光刻胶完全去除的区域的绝缘薄膜和第二传感电极薄膜可按照上述步骤S105刻蚀位于光刻胶完全去除的区域的第一传感电极薄膜和绝缘薄膜。
步骤S206、将光刻胶剥离。
需要说明的是，以上只是触摸面板的部分制作步骤只是制作绝缘层和第二传感电极层的步骤，而不是全部步骤，且当所述触摸面板还设置有其他薄膜或层结构时，可以参照本发明实施例提供的制作方法以及现有技术中其他薄膜或层结构的制作方法，在此不作赘述。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的触摸面板。所述显示装置可以为液晶显示器、电子纸、OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示器等具有触摸功能的显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有触摸功能的产品或者部件。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (7)

1.一种触摸面板，包括：第一传感电极层、第二传感电极层以及位于所述第一传感电极层和第二传感电极层之间的绝缘层，其中，第一传感电极层包括：第一传感电极图案；第二传感电极层包括：第二传感电极图案；绝缘层包括：绝缘图案，其特征在于，所述绝缘图案与所述第一传感电极图案或第二传感电极图案相同。
2.一种如权利要求1所述的触摸面板的制作方法，包括：形成所述第一传感电极层、形成所述绝缘层以及形成所述第二传感电极层的步骤；其特征在于，形成所述第一传感电极层和所述绝缘层使用同一掩膜板，或者，形成所述绝缘层和所述第二传感电极层使用同一掩膜板。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述绝缘层与所述第一传感电极层或所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成。
4.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述绝缘层与所述第一传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
在基板上形成第一传感电极薄膜；
在基板上形成绝缘薄膜；
在制作有第一传感电极薄膜和绝缘薄膜的基板上，涂布光刻胶；
利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应第一传感电极图案和绝缘图案，其余部分的光刻胶被完全去除；
刻蚀第一传感电极薄膜和绝缘薄膜未覆盖光刻胶的区域；
将光刻胶剥离。
5.根据权利要求3所述的制作方法，其特征在于，所述绝缘层与所述第二传感电极层通过一次构图工艺形成具体包括：
在基板上形成绝缘薄膜；
在基板上形成第二传感电极薄膜；
在制作有绝缘薄膜和第二传感电极薄膜的基板上，涂布光刻胶；
利用掩膜板对形成有所述光刻胶的基板进行曝光和显影，显影后的光刻胶保留部分对应绝缘图案和第二传感电极图案，其余部分的光刻胶被完全去除；
刻蚀绝缘薄膜和第二传感电极薄膜未覆盖光刻胶的区域；
将光刻胶剥离。
6.根据权利要求4或5所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜板包括軨全透光区域和不透光区域；
若所述光刻胶为正性光刻胶，则所述掩膜板的不透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述透光区域对应的光刻胶被完全去除；或者，
若所述光刻胶为负性光刻胶，则所述掩膜板的透光区域对应所述光刻胶保留部分，所述不透光区域对应的光刻胶被完全去除。
7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1所述的触摸面板。
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