CN108389883A - 触控显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种触控显示基板及其制作方法、显示装置，该制作方法包括：形成触控电极走线，所述触控电极走线位于所述触控显示基板的显示区域内；形成阳极和有机层；形成多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。本发明中，将触控电极走线与复用为触控电极的阴极异层设置，并且通过设置在显示区域内的过孔相连，由于阴极所在层不需要部署触控电极走线，能够提高阴极占用的面积，从而能够避免触控盲区，提高触控性能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示装置是当今平板显示装置研究领域的热点之一，与液晶显示装置相比，OLED显示装置具有低能耗、制作成本低、自发光、宽视角及响应速度快等优点，目前，在手机、掌上电脑(Personal DigitalAssistant，简称PDA)、数码相机等显示领域，OLED显示装置已经开始取代传统的液晶显示装置。
同时作为技术难点比较大的内嵌式触控(In Cell Touch)技术，本着其可以与显示面板工艺兼容的特点，越来越受到面板厂家的青睐，很多公司也将In Cell Touch技术开发列为公司技术研究的主要方向。
内嵌自容式OLED触控显示装置中，为减薄OLED触控显示装置的厚度，现有技术提出一种将OLED触控显示装置的阴极进行图形化并复用为触控电极的方案，请参考图1，整层的阴极层被分割成多个相互绝缘的阴极(即触控电极)101，阴极101通过与阴极101同层同材料设置的触控电极走线203引至显示区域周边，然后通过显示区域周边的过孔以及位于显示区域周边的连接线与触控芯片(IC)连接。随着触控显示装置尺寸的增大，触控电极数量的增加，在显示区域的边缘区域，触控电极走线所占面积会很大，从而形成触控盲区，降低触控体验。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种触控显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决现有的内嵌自容式OLED触控显示装置存在触控盲区，触控体验差的问题。
为解决上述技术问题，本发明提供一种触控显示基板的制作方法，包括：
形成触控电极走线，所述触控电极走线位于所述触控显示基板的显示区域内；
形成阳极和有机层；
形成多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
优选地，所述形成触控电极走线的步骤包括：
形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形，所述触控电极走线和所述第一放电图形位于所述触控显示基板的显示区域内，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接；
所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤之前，还包括：
提供一放电基板，所述放电基板上包括具有放电尖端的第二放电图形，所述第二放电图形与所述第一放电图形一一对应设置；
对所述第二放电图形通电，使所述第二放电图形和所述第一放电图形之间放电，所述第一放电图形和所述第二放电图形之间的膜层被击穿形成所述过孔。
优选地，所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤包括：
形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙；
蒸镀形成整面的阴极层，所述阴极层在所述挡墙的边缘断裂，形成多个相互绝缘的阴极。
优选地，所述形成截面呈倒梯形结构的挡墙的步骤包括：
形成负性光刻胶材料层；
对所述负性光刻胶材料层进行曝光和显影，形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙。
优选地，所述触控显示基板包括薄膜晶体管阵列层，所述形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形的步骤包括：
通过一次构图工艺形成所述薄膜晶体管阵列层的导电图形、所述触控电极走线和所述第一放电图形。
本发明实施例还提供一种触控显示基板，采用上述制作方法制作而成，所述触控显示基板包括：
触控电极走线，位于所述触控显示基板的显示区域内；
阳极、有机层和多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
优选地，所述触控显示基板还包括：
具有放电尖端的第一放电图形，与所述触控电极走线同层同材料设置，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接。
优选地，所述触控显示基板还包括：
多个截面呈倒梯形结构的挡墙，所述挡墙围绕所述阴极设置。
优选地，所述挡墙采用负性光刻胶形成。
本发明实施例还提供一种触控显示装置，包括上述触控显示基板。
本发明的上述技术方案的有益效果如下：
本发明实施例的触控显示基板中，将触控电极走线与复用为触控电极的阴极异层设置，并且通过设置在显示区域内的过孔相连，由于阴极所在层不需要部署触控电极走线，能够提高阴极占用的面积，从而能够避免触控盲区，提高触控性能。
进一步的，触控电极走线可以采用金属等电阻较小的材料形成，可以解决现有技术中存在的触控显示装置的压降的问题。
进一步的，复用为触控电极的阴极所在层由于不需要部署触控电极走线，多个阴极可以设计为形状大小相同的图形，并且均匀分布于显示区域内，即能够保证触控电极的均一化设计，同时由于无需在显示区域的周边预留周边的连接线的区域，因此，有利于实现触控显示装置的窄边框和大尺寸。
进一步的，将阴极复用为触控电极，可以减少触控显示基板的膜层厚度，有利于实现触控显示装置的轻薄化。
进一步的，本发明实施例的触控显示基板为内嵌式触控显示基板，与直接在显示基板的封装薄膜外制作触控结构的触控显示装置相比，制作难度和制作成本更低，同时弯折性能更优，能够应用到柔性显示产品上。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的内嵌自容式OLED触控显示基板的触控电极和触控电极走线的结构示意图；
图2为本发明实施例的触控显示基板的触控电极和触控电极走线的结构示意图；
图3、图5、图6和图7为本发明实施例的触控显示基板的制作方法的示意图；
图4为本发明实施例的用于制作触控显示基板的放电基板的示意图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供一种触控显示基板的制作方法，包括：
步骤11：形成触控电极走线，所述触控电极走线位于所述触控显示基板的显示区域内；
步骤12：形成阳极和有机层；
步骤13：形成多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
本发明实施例制备的触控显示基板中，如图2所示，将触控电极走线203与复用为触控电极的阴极209异层设置，并且通过设置在显示区域内的过孔208相连，由于阴极209所在层不需要部署触控电极走线，能够提高阴极209占用的面积，从而能够避免触控盲区，提高触控性能。
阴极209通常采用金属氧化物透明导电材料制成，例如，氧化铟锡(ITO)等，金属氧化物透明导电材料的电阻较高，因而，现有技术中的与阴极209同层同材料设置的触控电极走线电阻较高，势必会影响触控显示装置的压降(IR Drop)的问题。本发明实施例中，触控电极走线203与阴极209异层设置，因而可以采用金属等电阻较小的材料形成，因而，可以解决现有技术中存在的触控显示装置的压降的问题。
进一步的，从图2中可以看出，本发明实施例制作的触控显示基板中，复用为触控电极的阴极209所在层由于不需要部署触控电极走线，多个阴极209可以设计为形状大小相同的图形，并且均匀分布于显示区域内，即能够保证触控电极的均一化设计，同时由于无需在显示区域的周边预留周边的连接线的区域，因此，有利于实现触控显示装置的窄边框和大尺寸。
进一步的，本发明实施例制作的触控显示基板中，将阴极复用为触控电极，可以减少触控显示基板的膜层厚度，有利于实现触控显示装置的轻薄化。具体的，可以在一帧显示画面的时间分成显示时间段和触控时间段，在显示时间段内，向阴极通入显示公共信号，以用于显示，在触控时间段，向阴极通入触控信号，以用于触控。
进一步的，本发明实施例制作的触控显示基板为内嵌式触控显示基板，与直接在显示基板的封装薄膜外制作触控结构的触控显示装置相比，制作难度和制作成本更低，同时弯折性能更优，能够应用到柔性显示产品上。
本发明实施例中，可以通过多种方式形成触控电极走线与触控电极之间的过孔，下面举例进行说明。
在本发明的一些优选实施例中，所述形成触控电极走线的步骤包括：
形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形，所述触控电极走线和所述第一放电图形位于所述触控显示基板的显示区域内，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接；通常情况下，每一触控电极走线对应一个第一放电图形。
所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤之前，还包括：
提供一放电基板，所述放电基板上包括具有放电尖端的第二放电图形，所述第二放电图形与所述第一放电图形一一对应设置；
对所述第二放电图形通电，使所述第二放电图形和所述第一放电图形之间放电，所述第一放电图形和所述第二放电图形之间的膜层被击穿形成所述过孔。
本发明实施例中，通过静电击穿的原理，形成用于连接复用为触控电极的阴极和触控电极走线的过孔，该种形成过孔的方式，不需要高温工艺，因而对形成的有机层不会造成影响，且形成过程简单，成本较低。
本发明实施例中，为了对所述放电基板上的第二放电图形通电，所述放电基板上还可以包括多条用于为第二放电图形提供电信号的信号线。
本发明实施例中，优选地，第一放电图形和触控电极走线通过一次构图工艺形成，从而减少掩膜版的数量，降低制作成本。
本发明实施例中的所述触控显示基板还包括薄膜晶体管阵列层，在一些优选实施例中，所述形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形的步骤可以包括：通过一次构图工艺形成所述薄膜晶体管阵列层的导电图形、所述触控电极走线和所述第一放电图形。
也就是说，触控电极走线、第一放电图形可以与薄膜晶体管阵列层上的导电图形通过一次构图工艺形成，从而进一步降低制作成本。所述导电图形例如为栅金属层图形，也可以为源漏金属层图形。
当然，在本发明的其他一些实施例中，触控电极走线、第一放电图形也可以与阳极通过一次构图工艺形成。
下面举例对本发明实施例中的触控显示基板的制作方法进行说明。
请参考图3，本发明实施例中的触控显示基板的制作方法包括：
步骤21：在衬底基板201上形成薄膜晶体管阵列层202、触控电极走线203和具有放电尖端的第一放电图形204，其中，所述触控电极走线203和所述第一放电图形204位于触控显示基板的显示区域内，每一所述触控电极走线203与一个所述第一放电图形204连接。
薄膜晶体管阵列层202通常包括栅电极、有源层、源电极和漏电极。
本发明实施例中，触控电极走线203和第一放电图形204与薄膜晶体管阵列层202中的源电极和漏电极同层同材料设置，通过一次构图工艺形成。
步骤22：形成阳极205、像素界定层206和有机层207。
步骤23：请参考图4，供一放电基板300，所述放电基板300上包括衬底基板301和设置在衬底基板301上的具有放电尖端的第二放电图形302和用于为第二放电图形提供电信号的信号线303，所述第二放电图形302与所述第一放电图形204一一对应设置；
步骤24：请参考图5和图6，对所述第二放电图形302通电，使所述第二放电图形302和所述第一放电图形204之间放电，所述第一放电图形204和所述第二放电图形302之间的膜层被击穿形成过孔208，所述过孔208用于连接触控电极走线203和后续形成的复用为触控电极的阴极。
步骤25：请参考图7，形成多个相互绝缘的阴极209，阴极209通过过孔208与触控电极走线203连接。
本发明实施例中，通过静电击穿的原理，形成用于连接复用为触控电极的阴极和触控电极走线的过孔，该种形成过孔的方式，不需要高温工艺，因而对形成的有机层不会造成影响，且形成过程简单，成本较低。此外，本发明实施例中，触控电极走线以及用于形成静电击穿的第一放电图形，与薄膜晶体管阵列层的导电图形通过一次构图工艺形成，可以降低制作成本。
当然，在本发明的其他一些实施例中，也不排除采用其他工艺形成上述用于连接复用为触控电极的阴极和触控电极走线的过孔。
本发明实施例中，所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤可以包括：
形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙；
蒸镀形成整面的阴极层，所述阴极层在所述挡墙的边缘断裂，形成多个相互绝缘的阴极。
本发明实施例中，截面是指垂直于显示基板平面的截面。
具体的，形成的所述挡墙呈环状，且截面呈倒梯形结构，蒸镀的整面的阴极层会在挡墙的边缘处断裂，被分割成位于挡墙上方的一部分，以及不位于挡墙上的一部分，其中，由挡墙所围住的部分作为阴极。
本发明实施例中，通过蒸镀工艺形成阴极，蒸镀工艺不会对有机层造成影响，此外，通过先形成截面呈倒梯形结构的挡墙，通过挡墙将蒸镀的整面的阴极层分割成多个相互绝缘的阴极，形成阴极的图形的方式简单易行。
本发明实施例中，挡墙除了用于形成阴极之外，还可以起到支撑作用，用于支撑触控显示基板以及用于封装触控显示基板的封装基板。
本发明实施例中，所述形成截面呈倒梯形结构的挡墙的步骤包括：
形成负性光刻胶材料层；
对所述负性光刻胶材料层进行曝光和显影，形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙。
本发明实施例中，通过形成负性光刻胶材料层，对负性光刻胶材料层进行曝光，由于负性光刻胶材料具有被曝光的部分被保留的特性，因此，显影后可以形成截面呈倒梯形结构的挡墙。挡墙是为了将阴极层分割为多个阴极，挡墙的设置位置以及数量可以根据阴极的位置和数量来决定，挡墙位于相邻像素区域之间，不会对触控显示基板的显示造成影响。
基于同一发明构思，本发明实施例还提供一种触控显示基板，采用上述任一实施例中的触控显示基板的制作方法制作而成，所述触控显示基板包括：
触控电极走线，位于所述触控显示基板的显示区域内；
阳极、有机层和多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
在本发明的一些优选实施例中，本发明实施例中的触控显示基板还可以包括：
具有放电尖端的第一放电图形，与所述触控电极走线同层同材料设置，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接。
通过在触控显示基板上设置具有放电尖端的第一放电图形，可以与一放电基板配合，形成用于连接复用为触控电极的阴极和触控电极走线的过孔，该种形成过孔的方式，不需要高温工艺，因而对形成的有机层不会造成影响，且形成过程简单，成本较低。
在本发明的一些优选实施例中，本发明实施例中的触控显示基板还可以包括：
多个截面呈倒梯形结构的挡墙，所述挡墙围绕所述阴极设置。
本发明实施例中，挡墙是为了将蒸镀的阴极层分割为多个阴极，挡墙的设置位置以及数量可以根据阴极的位置和数量来决定，挡墙位于相邻像素区域之间，不会对触控显示基板的显示造成影响。
本发明实施例中，所述挡墙采用负性光刻胶形成，由于负性光刻胶材料具有被曝光的部分被保留的特性，因此，对负性光刻胶材料进行曝光显影后可以形成截面呈倒梯形结构的挡墙。
本发明实施例还提供一种触控显示装置，包括上述任一实施例中的触控显示基板。
本发明实施例中的触控显示装置除了包括上述触控显示基板之外，还可以包括封装基板，用于封装所述触控显示基板。
除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种触控显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
形成触控电极走线，所述触控电极走线位于所述触控显示基板的显示区域内；
形成阳极和有机层；
形成多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
2.根据权利要求1所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，
所述形成触控电极走线的步骤包括：
形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形，所述触控电极走线和所述第一放电图形位于所述触控显示基板的显示区域内，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接；
所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤之前，还包括：
提供一放电基板，所述放电基板上包括具有放电尖端的第二放电图形，所述第二放电图形与所述第一放电图形一一对应设置；
对所述第二放电图形通电，使所述第二放电图形和所述第一放电图形之间放电，所述第一放电图形和所述第二放电图形之间的膜层被击穿形成所述过孔。
3.根据权利要求1或2所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成多个相互绝缘的阴极的步骤包括：
形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙；
蒸镀形成整面的阴极层，所述阴极层在所述挡墙的边缘断裂，形成多个相互绝缘的阴极。
4.根据权利要求3所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述形成截面呈倒梯形结构的挡墙的步骤包括：
形成负性光刻胶材料层；
对所述负性光刻胶材料层进行曝光和显影，形成多个截面呈倒梯形结构的挡墙。
5.根据权利要求2所述的触控显示基板的制作方法，其特征在于，所述触控显示基板包括薄膜晶体管阵列层，所述形成触控电极走线和具有放电尖端的第一放电图形的步骤包括：
通过一次构图工艺形成所述薄膜晶体管阵列层的导电图形、所述触控电极走线和所述第一放电图形。
6.一种触控显示基板，其特征在于，采用如权利要求1-5任一项所述的制作方法制作而成，所述触控显示基板包括：
触控电极走线，位于所述触控显示基板的显示区域内；
阳极、有机层和多个相互绝缘的阴极，所述阴极复用为触控电极，所述阴极通过贯穿所述阴极和所述触控电极走线之间的膜层上的过孔，与所述触控电极走线连接，所述过孔位于所述触控显示基板的显示区域内。
7.根据权利要求6所述的触控显示基板，其特征在于，还包括：
具有放电尖端的第一放电图形，与所述触控电极走线同层同材料设置，每一所述触控电极走线与至少一个所述第一放电图形连接。
8.根据权利要求6或7所述的触控显示基板，其特征在于，还包括：
多个截面呈倒梯形结构的挡墙，所述挡墙围绕所述阴极设置。
9.根据权利要求8所述的触控显示基板，其特征在于，所述挡墙采用负性光刻胶形成。
10.一种触控显示装置，其特征在于，包括如权利要求6-9任一项所述的触控显示基板。
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