CN103219343A - 多层聚合物透镜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及多层聚合物透镜及其制造方法。一种多层透镜具有基板，该基板具有相对的第一和第二表面。该基板由多个离散的聚合物层形成。空腔被形成到第一表面中并且由用作透镜表面的非平面空腔表面限定。空腔延伸到多个聚合物层中的每个中并且使其暴露。聚合物层的组成可以变化以提供最优化的聚焦性质。可以在第一表面或第二表面处形成具有空腔或突起的形式的对准标记，从而多个透镜可以按对准的方式堆叠在一起以形成堆叠的透镜组件。

Description

多层聚合物透镜及其制造方法
技术领域
本发明涉及透镜，更具体地，涉及用在诸如蜂窝电话相机的移动设备中的透镜。
背景技术
CMOS图像传感器芯片典型地用在诸如蜂窝电话相机的移动设备中以捕获图像（例如，蜂窝电话相机或视频功能）。这些图像传感器通常非常小和紧凑，如果考虑到移动设备的有限的尺寸和重量需要的话。图像传感器芯片包括用于将进入的光聚焦在光传感器上的一个或多个透镜。光传感器将进入的光转换为表示进入的光形成的图像的电子信号。
透镜常常由玻璃或聚合物制成，并且典型地使用模制工艺进行制造。例如，聚合物透镜典型使用诸如冲压、注射模制和传递模制的模制技术进行制造。注射模制例如涉及将液体状态下的聚合物注射到模型空腔中。随后使聚合物冷却，从而其固化成模型的形状。随后从模型去除具有透镜的形式的聚合物。
模制透镜易于批量生产。例如，使用流体状态的材料同时注射多个模型，随后进行冷却，导致了透镜的同时形成。透镜的质量需要是高的和一致的。然而，由于透镜变得越来越小，因此变得更加难于维持关于模制透镜的质量，因为难于形成具有准确相同尺寸的多个模型。此外，模型可能随时间而疲劳并且因此可能生产具有随时间下降的质量的透镜。最后，注射模制透镜是单片的，意味着通过模制透镜实现的可能的光学性质是有限的。多个单片透镜可以堆叠以实现更加多样化的光学性质，但是具有逐渐更大的整体尺寸和成本。
需要一种改进的透镜和制造技术，用于制造提供优于模制透镜的卓越的质量、均匀性和多样的光学性能的透镜，而不会添加相当大的成本。
发明内容
通过一种多层透镜解决了前述问题和需要，该多层透镜包括：基板，具有相对的第一和第二表面（其中基板由多个离散的聚合物层形成）；以及空腔，被形成到第一表面中并且包括在基板中的非平面空腔表面，其中空腔延伸到多个聚合物层中的每个中。
在本发明的另一方面，一种形成透镜的方法包括：形成第一聚合物层；在第一聚合物层的顶表面中形成第一空腔；在第一聚合物层的顶表面上形成第二聚合物层；以及在第二聚合物层的顶表面中形成第二空腔，第二空腔通过第二聚合物层延伸到第一空腔，其中第一和第二空腔一起包括非平面空腔表面。
在本发明的又一方面，一种形成透镜的方法包括：形成第一聚合物层；在第一聚合物层的顶表面中形成第一空腔；变更第一空腔的侧壁的形状；在第一聚合物层的顶表面上形成第二聚合物层；在第二聚合物层的顶表面中形成第二空腔；以及变更第二空腔的侧壁的形状，其中第二空腔包括第一非平面空腔表面。
在本发明的再一方面，一种透镜组件包括多个透镜和材料层。多个透镜中的每个包括具有相对的第一和第二表面以及外缘的基板，其中基板由多个离散的聚合物层形成，并且空腔被形成到第一表面中并且包括在基板中的非平面空腔表面，其中空腔延伸到该多个聚合物层中的每个。该多个透镜堆叠在一起，使得多个透镜中的相邻透镜通过接合材料彼此固定。材料层在基板的外缘周围和之间延伸。
通过查看说明书、权利要求和附图，本发明的其他目的和特征将变得明显。
附图说明
图1A至1K是依次示出了形成多层透镜的步骤的横截面侧视图。
图2A至2N是依次示出了形成多层透镜的替选实施例的步骤的横截面侧视图。
图3至4是多个堆叠的多层透镜的透镜组件的横截面侧视图。
图5是安装在图像传感器组件上的（多个堆叠的多层透镜的）透镜组件的横截面侧视图。
具体实施方式
本发明是一种多层透镜及其制造方法。层的数目以及每个层的组成可以变化以实现透镜的期望的光学性质。
图1A至1K图示了用于制造多层透镜的步骤序列。在该示例中，得到的透镜将包括三个材料层。该工艺开始于提供平滑载体10（例如，聚四氟乙烯（Teflon）），其用作制造工艺期间的透镜载体。作为非限制性示例，载体10可以是圆形的（直径为6至12英寸），如图1A中所示，侧壁12从其上表面14向上延伸以包含上表面14上的透镜材料。尽管优选地同时在载体10上形成多个透镜，但是为了简化，余下的图图示了在仅一部分载体10上的单个透镜的形成。
在表面10上形成第一聚合物层16。优选地，聚合物形成通过喷涂淀积来完成，原因在于其均匀的涂覆性质。在聚合物淀积之后是固化工艺。聚合物层16可以是环氧硅树脂单体、环脂肪族环氧化合物、UV可固化聚合物、丙烯酸酯聚合物、PMMA、COP、PC、ORNOCOMP或者具有理想的光学性质的任何其他公知的光学聚合物。例如通过喷涂、旋涂或者（本领域公知的）任何其他的光刻胶淀积工艺在聚合物层16上形成光刻胶层18。随后使用光刻曝光和显影工艺（所有均是在本领域公知的）对光刻胶层进行构图，使得部分聚合物层16暴露。图1B中示出的得到的结构。
接下来执行各向同性刻蚀工艺以有选择地刻蚀聚合物层16的暴露部分。如图1C中所示，例如，可以使用涉及用于层16的聚合物的刻蚀剂的湿浴的湿法各向同性刻蚀工艺，该工艺使层16的未受保护的部分溶解以创建空腔20，空腔20被形成到层16的上表面中（具有光学区域周围的环的形式）。空腔20的弯曲可由光刻胶18的图案和所使用的刻蚀溶液来控制。
在去除光刻胶18之后，使用光刻胶22填充空腔20。随后在聚合物层16（和光刻胶22）上方形成第二聚合物层24。聚合物层24可以根据由其自身提供的和/或与其他聚合物层组合提供的期望的光学性质，使用与聚合物层16相同的（多种）材料或不同的（多种）材料（以及相同的或不同的厚度）来形成。如图1D中所示，随后在聚合物层24上方形成光刻胶层26，并且对其构图以使部分聚合物层24暴露（在该示例中是置于光刻胶22上方的那些部分）。光刻胶26不同于光刻胶22（即相对于光刻胶22是有选择刻蚀的）。
接下来执行各向同性刻蚀工艺以有选择地刻蚀聚合物层24的暴露部分。如图1E中所示，例如，可以使用涉及用于层24的聚合物的刻蚀剂的湿浴的湿法各向同性刻蚀工艺，该工艺使层24的未受保护的部分溶解，使得空腔20向上延伸通过层24。空腔20的壁在其延伸通过层24时的弯曲和角度可由聚合物层24的厚度、光刻胶26的图案和所使用的刻蚀溶液来控制。
在去除光刻胶26之后，使用光刻胶22填充空腔20（如扩张通过层24那样）。随后在聚合物层24（和光刻胶22）上形成第三聚合物层28。聚合物层28可以根据由其自身提供的和/或与其他聚合物层组合提供的期望的光学性质，使用与聚合物层16和/或24相同的（多种）材料或不同的（多种）材料（以及相同的或不同的厚度）来形成。如图1F中所示，随后在聚合物层28上方形成光刻胶层30，并且对其构图以使聚合物层28的置于光刻胶22上方的部分暴露。光刻胶30不同于光刻胶22（即相对于光刻胶22是有选择刻蚀的）。
接下来执行各向同性刻蚀工艺以有选择地刻蚀聚合物层28的暴露部分。例如，可以使用涉及用于层28的聚合物的刻蚀剂的湿浴的湿法各向同性刻蚀工艺，该工艺使层28的未受保护的部分溶解（即使空腔20向上延伸通过层28）。空腔20的壁在其延伸通过层28时的弯曲和角度可由聚合物层28的厚度、光刻胶30的图案和所使用的刻蚀溶液来控制。随后去除光刻胶30和22，留下图1G中图示的结构。在该示例中，空腔20不再具有环的形状，相反现在是圆形的，具有非平面空腔表面20a，非平面空腔表面20a延伸通过所有三个聚合物层16、24和28（即由三个聚合物层16、24和28限定）。空腔表面20a限定了如下文进一步说明的透镜表面。
可以执行软各向同性刻蚀以使空腔表面20a上的任何粗糙，以及沿空腔表面20a的聚合物层16/24/28之间的任何台阶或间隙平滑。在透镜背面（即，从载体10去除之后的与载体10邻接的聚合物层16的底表面）上可以执行相似的可选的表面抛光。
表面20a可以可选地涂覆有IR涂层，其可以包括铜（Cu）、金、氧化铪（HfO2）、ITO（氧化铟锡）、氧化镁（MgO）、镍（Ni）、一氧化硅（SiO）、银、二氧化钛（TiO2）、氧化钽（Ta2O5）、氧化锆和/或任何其他适当的IR涂层材料。可使用本领域公知的标准的淀积技术来施加IR涂层。相似地，背表面（即与载体10邻接的聚合物层16的底表面）可以可选地涂覆有使用本领域公知的抗反射材料的AR涂层（在从载体10去除之后）。
随后在聚合物层28的顶表面上或中形成对准标记。如果对准标记32是在聚合物层28的顶表面上形成的（如图1H中所示），则它们可以由聚合物、环氧化物、树脂、金属等形成，作为优选地从聚合物层28的顶表面延伸的、具有至少3μm的高度的突起。如果对准标记32被形成到聚合物层28的顶表面中（如图1I中所示），则可以使用激光将它们形成为优选地具有至少3μm的深度的空腔或凹槽。对准标记可以具有任何期望的形状，诸如例如圆形、矩形、十字形、T形等。对准标记32可以额外地或者替选地在聚合物层16的底表面上或中形成。
随后去除载体10，并且随后沿如图1J中所示的划片线34对结构进行划片以分离每个独立的透镜36。图1K中图示了最终的透镜36。
透镜36是由离散的聚合物材料层形成的基板。透镜36包括具有非常特定的形状的透镜表面20a以便产生穿过透镜36的光的期望的光学聚焦。使用上述聚合物淀积、光刻和刻蚀工艺，可以一致地和精确地控制透镜表面20a的形状。通过使三个层16、24和28的组成相对彼此变化，以及可选地继续以相似的方式向上述三个添加额外的离散层，可以实现更复杂的和多样的光学聚焦性能。
图2A至2N图示了用于制造替选实施例的多层透镜的步骤序列。该工艺开始于图1B的结构，不同之处在于聚合物层16的暴露部分的相对位置，如图2A中所示的那样。随后执行各向异性刻蚀以有选择地刻蚀聚合物层16的暴露部分。例如，等离子体或湿法各向异性刻蚀工艺去除部分层16以在层16的上表面中形成环状凹槽形空腔40（即具有围绕光学区域的环的形式）。随后去除光刻胶18，留下图2B中所示的结构。
在（包括内部空腔40的）该结构上淀积光刻胶层42。如图2C中所示，使用光刻工艺去除光刻胶层42的有选择的部分（沿空腔40的内侧壁，以及与空腔40的内侧壁相邻的聚合物层16的上表面上的部分）。使用诸如聚合物刻蚀剂的湿浴的各向同性刻蚀工艺使聚合物层16的暴露部分溶解，对空腔40的内侧壁40a创建弯曲形状。图2D中图示了得到的结构（在去除光刻胶42之后）。空腔40的内侧壁40a的弯曲和角度可以由聚合物层16的厚度、光刻胶42的图案以及刻蚀材料来控制。
接下来在聚合物层16上方形成第二聚合物层44（填充空腔40）。聚合物层44可以根据由其自身提供的和/或与其他聚合物层组合提供的期望的光学性质，使用与聚合物层16相同的（多种）材料或不同的（多种）材料（以及相同的或不同的厚度）来形成。如图2E中所示，随后在聚合物层44上方形成光刻胶层46，并且对其构图以使部分聚合物层44暴露。
随后执行各向异性刻蚀以有选择地刻蚀聚合物层44的暴露部分。例如，等离子体或湿法各向异性刻蚀工艺去除部分层44以在层44的上表面中形成环状凹槽形空腔48（即具有围绕光学区域的环的形式）。在去除光刻胶46之后，在（包括内部空腔48的）该结构上淀积光刻胶层50。如图2F中所示，使用光刻工艺去除光刻胶层50的有选择的部分（沿空腔48的内侧壁，以及与空腔48的内侧壁相邻的聚合物层44的上表面上的部分）。使用诸如聚合物刻蚀剂的湿浴的各向同性刻蚀工艺使聚合物层44的暴露部分溶解，对空腔48创建弯曲的内侧壁48a。图2G中图示了得到的结构（在去除光刻胶50之后）。空腔48的内侧壁48a的弯曲和角度可以由聚合物层44的厚度、光刻胶50的图案以及刻蚀材料来控制。
接下来在聚合物层44上方形成第三聚合物层52（填充空腔48）。聚合物层52可以根据由其自身提供的和/或与其他聚合物层组合提供的期望的光学性质，使用与聚合物层16和44相同的（多种）材料或不同的（多种）材料（以及相同的或不同的厚度）来形成。如图2H中所示，随后在聚合物层52上方形成光刻胶层54，并且对其构图以使部分聚合物层52暴露。
随后执行各向异性刻蚀以有选择地刻蚀聚合物层52的暴露部分。例如，等离子体或湿法各向异性刻蚀工艺去除部分层52以在层44的上表面中形成环状凹槽形空腔56（即具有围绕光学区域的环的形式）。在去除光刻胶54之后，在（包括内部空腔56的）该结构上方淀积光刻胶层58。如图2I中所示，使用光刻工艺去除光刻胶层56的有选择的部分（沿空腔56的内侧壁，以及与空腔56的内侧壁相邻的聚合物层52的上表面上的部分）。使用诸如聚合物刻蚀剂的湿浴的各向同性刻蚀工艺使聚合物层52的暴露部分溶解，对空腔56创建弯曲的内侧壁56a。图2J中图示了得到的结构（在去除光刻胶58之后）。空腔56的内侧壁56a的弯曲和角度可以由聚合物层52的厚度、光刻胶58的图案以及刻蚀材料来控制。表面56a限定了透镜表面。
可以执行软各向同性刻蚀以使表面56a上的任何粗糙，以及聚合物层16/44/52之间的任何台阶或间隙平滑。在透镜背面（即，从载体10去除之后的与载体10邻接的聚合物层16的底表面）上可以执行相似的（即可选的）表面抛光。
如上文所述，表面56a可以可选地涂覆有IR涂层，并且聚合物层16的背表面（即与载体10邻接的聚合物层16的底表面）可以可选地涂覆有AR涂层。如上文所述，并且如图2K和2L中所示，可以在聚合物层52的顶表面上或中形成对准标记32。对准标记32可以额外地或者替选地在聚合物层16的底表面上或中形成。
随后去除载体10，并且随后沿如图2M中所示的划片线34对结构进行划片以分离每个独立的透镜60。图2N中图示了最终的透镜60。在该实施例中，透镜60是由离散的聚合物材料层形成的基板。不仅可以精确地整形并且形成非平面透镜表面56a以提供期望的聚焦效果，而且当层16、44和/或52由具有不同的光传播性质（例如不同的有效折射率）的不同材料形成时，离散形成的层16和44的邻接的非平面表面，以及离散形成的层44和52的邻接的非平面表面，可以提供额外的焦光效果。
通过堆叠多个具有相似或相异的设计的透镜以实现特定应用所需的聚光性能，可以形成透镜组件。例如，图3图示了五个透镜62a至62e，它们使用接合材料64堆叠在一起以形成透镜组件66。透镜62的数目和透镜的形状可以根据设计的性能需要而变化。接合材料64可以是聚合物、基于环氧化物、树脂、金属或者任何其他适当的接合材料。优选地，基于环氧化物的粘合剂64被施加到透镜62a至62e的非对准标记侧。在将透镜62a至62e接合在一起之前可以使用具有对准相机的堆叠工具使对准标记32对准。
如图4中所示，在完成透镜堆叠和接合工艺之后，光屏蔽层68被淀积在透镜堆叠侧壁上（即，在透镜的周围或之间延伸）（即对于具有圆形外缘的透镜，层68将具有圆柱的形式）。光屏蔽层68可以是聚合物、基于环氧化物、树脂、染料、带、金属、塑料/金属外壳或者任何其他（多种）非透明材料。优选地，光屏蔽层68具有至少5μm的厚度并且由诸如黑焊料掩模的基于聚合物的材料制成。
图5图示了经由接合接头71接合到CMOS图像传感器组件70的透镜组件66。接合接头71可以是聚合物、基于环氧化物、树脂、金属或者任何其他适当的接合材料。优选地，接合接头71是基于环氧化物的粘合剂，其淀积在透镜模块66的底侧，其中透镜模块66随后被拾取并且放置在CMOS图像传感器组件70上用于接合。图像传感器组件70通常包括光电检测器72、电路74、色彩过滤器76、微透镜78、接触焊盘80、导线82、接触焊盘84和电路板86。图像传感器组件70的更详细的讨论可以在共同未决的美国专利申请13/343,682中找到，其内容通过引用合并于此。
将理解，本发明不限于上文所述的以及此处说明的（多个）实施例，而是涵盖落在所附权利要求的范围内的任何和所有变化。例如，尽管透镜36/60被示出和描述为具有三个聚合物材料，但是它们可以包含N个聚合物层，其中N是2或更大的任何整数。此处提到本发明并非旨在限制任何权利要求或权利要求项的范围，而是仅引用由一个或多个权利要求覆盖的一个或多个特征。上文描述的材料、工艺和数值示例仅是示例性的，并且不应被认为限制权利要求。此外，如根据权利要求和说明书而明显的，不需要按照所说明的或者要求保护的准确顺序执行所有方法步骤，而是可以按照允许本发明的多层透镜的适当形成的任何顺序来执行。最后，单个材料层可以被形成为这样的或者相似的材料的多个层，反之亦然。
应当注意，如此处使用的术语“在…上方”和“在…上”均内含地包括“直接在…上面”（没有置于它们之间的中间材料、元件或空间）和“间接在…上面”（在它们之间安置有中间材料、元件或空间）。同样地，术语“相邻”包括“直接相邻”（没有置于它们之间的中间材料、元件或空间）和“间接相邻”（在它们之间安置有中间材料、元件或空间），“安装到”包括“直接安装到”（没有置于它们之间的中间材料、元件或空间）和“间接安装到”（在它们之间安置有中间材料、元件或空间），并且“电耦接”包括“直接电耦接”（在它们之间没有将元件电连接在一起的中间材料或元件）和“间接电耦接”（在它们之间具有将元件电连接在一起的中间材料或元件）。例如，“在基板上方”形成元件可以包括直接在基板上面形成元件，没有它们之间的中间材料/元件，以及间接在基板上面形成元件，具有它们之间的一个或多个中间材料/元件。

Claims (32)

1.一种透镜，包括：
基板，具有相对的第一表面和第二表面，其中所述基板由多个离散的聚合物层形成；以及
空腔，被形成到所述第一表面中并且包括在所述基板中的非平面空腔表面，其中所述空腔延伸到所述多个聚合物层中的每个中。
2.根据权利要求1所述的透镜，其中所述多个聚合物层中的一个的组成不同于所述多个聚合物层中的另一个的组成。
3.根据权利要求1所述的透镜，其中所述多个聚合物层中的每个限定所述非平面空腔表面的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的透镜，进一步包括：
多个对准标记，在所述第一表面和第二表面中的一个处形成。
5.根据权利要求4所述的透镜，其中所述多个对准标记中的每个包括从所述第一表面和第二表面中的一个延伸的突起。
6.根据权利要求4所述的透镜，其中所述多个对准标记中的每个包括被形成到所述第一表面和第二表面中的一个中的空腔。
7.一种形成透镜的方法，包括：
形成第一聚合物层；
在所述第一聚合物层的顶表面中形成第一空腔；
在所述第一聚合物层的顶表面上形成第二聚合物层；以及
在所述第二聚合物层的顶表面中形成第二空腔，所述第二空腔通过所述第二聚合物层延伸到所述第一空腔；
其中所述第一空腔和第二空腔一起包括非平面空腔表面。
8.根据权利要求7所述的方法，其中所述第一聚合物层的组成不同于所述第二聚合物层的组成。
9.根据权利要求7所述的方法，其中所述第一聚合物层和第二聚合物层中的每个限定所述非平面空腔表面的至少一部分。
10.根据权利要求7所述的方法，进一步包括：
在形成所述第二聚合物层之前使用材料填充所述第一空腔。
11.根据权利要求7所述的方法，进一步包括：
在所述第二聚合物层的顶表面或者所述第一聚合物层的底表面处形成多个对准标记。
12.根据权利要求11所述的方法，其中所述多个对准标记中的每个包括突起和空腔中的至少一个。
13.根据权利要求7所述的方法，进一步包括：
在所述第二聚合物层的顶表面上形成第三聚合物层；以及
在所述第三聚合物层的顶表面中形成第三空腔，其通过所述第三聚合物层延伸到所述第二空腔；
其中所述第一空腔、第二空腔和第三空腔一起限定了所述非平面空腔表面。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层中的一个的组成不同于所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层中的另一个的组成。
15.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层中的每个限定所述非平面空腔表面的至少一部分。
16.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：
在形成所述第二聚合物层之前使用第一材料填充所述第一空腔；以及
在形成所述第三聚合物层之前使用第二材料填充所述第二空腔。
17.根据权利要求13所述的方法，进一步包括：
在所述第三聚合物层的顶表面或者所述第一聚合物层的底表面处形成多个对准标记。
18.根据权利要求17所述的方法，其中所述多个对准标记中的每个包括突起和空腔中的至少一个。
19.一种形成透镜的方法，包括：
形成第一聚合物层；
在所述第一聚合物层的顶表面中形成第一空腔；
变更所述第一空腔的侧壁的形状；
在所述第一聚合物层的顶表面上形成第二聚合物层；
在所述第二聚合物层的顶表面中形成第二空腔；以及
变更所述第二空腔的侧壁的形状；
其中所述第二空腔包括第一非平面空腔表面。
20.根据权利要求19所述的方法，其中所述第一聚合物层的组成不同于所述第二聚合物层的组成。
21.根据权利要求19所述的方法，进一步包括：
在所述第二聚合物层的顶表面或者所述第一聚合物层的底表面处形成多个对准标记。
22.根据权利要求21所述的方法，其中所述多个对准标记中的每个包括突起和空腔中的至少一个。
23.根据权利要求19所述的方法，进一步包括：
在所述第二聚合物层的顶表面上形成第三聚合物层； 
在所述第三聚合物层的顶表面中形成第三空腔；以及
变更所述第三空腔的侧壁的形状；
其中所述第三空腔包括第二非平面空腔表面。
24.根据权利要求23所述的方法，其中所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层中的一个的组成不同于所述第一聚合物层、第二聚合物层和第三聚合物层中的另一个的组成。
25.根据权利要求23所述的方法，进一步包括：
在所述第三聚合物层的顶表面或者所述第一聚合物层的底表面处形成多个对准标记。
26.根据权利要求25所述的方法，其中所述多个对准标记中的每个包括突起和空腔中的至少一个。
27.一种透镜组件，包括：
多个透镜，每个透镜包括:
       基板，具有相对的第一表面和第二表面以及外缘，其中所述基板由多个离散的聚合物层形成，以及
       空腔，被形成到所述第一表面中并且包括在所述基板中的非平面空腔表面，其中所述空腔延伸到所述多个聚合物层中的每个；
其中所述多个透镜堆叠在一起，使得所述多个透镜中的相邻透镜通过接合材料彼此固定；以及
材料层，在所述基板的外缘周围和之间延伸。
28.根据权利要求27所述的透镜组件，其中：
所述基板的外缘是圆形的；以及
所述材料层的形状是圆柱形。
29.根据权利要求27所述的透镜组件，其中所述材料层是非透明的。
30.根据权利要求27所述的透镜组件，其中所述多个透镜中的一个的非平面空腔表面的形状与所述多个透镜中的另一个的非平面空腔表面的形状不同。
31.根据权利要求27所述的透镜组件，其中对于所述多个透镜中的每个，所述多个聚合物层中的一个的组成不同于所述多个聚合物层中的另一个的组成。
32.根据权利要求27所述的透镜组件，其中对于所述多个透镜中的每个，所述多个聚合物层中的每个限定所述非平面空腔表面的至少一部分。
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